发明创造名称：具有改进的密封布置的导波雷达物位计
外观设计名称：
决定号：201515
决定日：2020-01-17
委内编号：1F272858
优先权日：2012-05-23
申请（专利）号：201210358623.7
申请日：2012-09-24
复审请求人：罗斯蒙特储罐雷达股份公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：孙晶晶
合议组组长：王志远
参审员：丁丽君
国际分类号：G01F23/284
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果权利要求的技术方案是本领域技术人员能够在最接近的现有技术的基础上结合其他对比文件以及所属领域的公知常识而显而易见地得到，则该权利要求不具有创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201210358623.7，名称为“具有改进的密封布置的导波雷达物位计”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为罗斯蒙特储罐雷达股份公司，本申请的申请日为2012年09月24日，优先权日为2012年05月23日，公开日为2013年12月04日。
经实质审查，国家知识产权局专利实质审查部门于2018年11月05日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-15不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为：申请日2012年09月24日提交的说明书摘要、说明书第1-54段、说明书附图图1-3、摘要附图；2018年05月16日提交的权利要求第1-15项。
驳回决定中引用了如下对比文件：
对比文件1：CN101287970A，公开日为2008年10月15日；
对比文件2：CN101375137A，公开日为2009年02月25日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种用于确定包含在容器中的产品的填充水平的导波雷达物位计，所述物位计包括：
收发器，所述收发器用于发送电磁发送信号以及接收在所述产品的表面处反射的电磁回波信号；
探测器，所述探测器连接到所述收发器，并且被配置成延伸到所述容器中并朝着所述表面引导所述发送信号以及朝着所述收发器引导所述回波信号；以及
密封布置，所述密封布置包括：
-中空壳体，
-导体，所述导体在所述壳体内部延伸，以用于在所述收发器与所述探测器之间传输电磁信号，
-电介质套管，所述电介质套管被布置在所述壳体内部并围绕所述导体，
-至少一个间隙，所述至少一个间隙形成在所述电介质套管与相邻的导电表面之间，所述间隙具有面向所述容器的敞开端，从而允许容器气氛进入并凝结在所述间隙中，以及
-导电涂层，所述导电涂层设置在所述电介质套管的面向所述间隙的表面上，并且与所述相邻的导电表面电接触，以使得在所述物位计的操作频率下所述导电涂层与所述相邻的导电表面之间的阻抗充分低，以降低存在于所述间隙中的任何介质的影响，
其中，所述至少一个间隙包括形成在所述电介质套管与所述导体之间的第一间隙，并且其中，所述导电涂层包括设置在所述电介质套管的内表面上的第一导电表面涂层，
其中，所述导体包括抵靠所述电介质套管的支撑表面的、径向延伸的带状物，以使得所述电介质套管悬挂所述导体，并且
其中，所述第一导电表面涂层的一部分延伸到所述支撑表面上。
2. 根据权利要求1所述的导波雷达物位计，其中，所述导电涂层与所述相邻的导电表面电流接触，以确保将所述间隙的两侧保持在相等的电势。
3. 根据权利要求1所述的导波雷达物位计，其中，所述至少一个间隙包括形成在所述电介质套管与所述壳体之间的第二间隙，并且其中，所述导电涂层包括设置在所述电介质套管的外表面上的第二导电表面涂层。
4. 根据权利要求3所述的导波雷达物位计，其中，所述电介质套管相对于所述壳体来悬挂所述导体。
5. 根据权利要求1所述的导波雷达物位计，还包括导电材料的第一接触构件，所述第一接触构件被布置在所述第一导电表面涂层的在所述支撑表面上的所述部分与所述径向延伸的带状物之间。
6. 根据权利要求4所述的导波雷达物位计，其中，所述壳体具有向内突出部，并且其中，所述电介质套管具有抵靠所述突出部的悬挂表面，以使得所述壳体悬挂所述电介质套管。
7. 根据权利要求6所述的导波雷达物位计，其中，所述电介质套管具有半径减小的终止部，所述终止部延伸超过所述悬挂表面，并且其中，所述第二导电表面涂层的一部分设置在所述悬挂表面上。
8. 根据权利要求7所述的导波雷达物位计，其中，所述终止部延伸超过所述突出部一段距离。
9. 根据权利要求7所述的导波雷达物位计，还包括导电材料的第二接触构件，所述第二接触构件被布置在所述向内突出部与所述第二导电表面涂层的在所述悬挂表面上的所述部分之间。
10. 根据权利要求1所述的导波雷达物位计，其中，所述导电涂层为沉积在所述电介质套管上的金属合金。
11. 根据权利要求1所述的导波雷达物位计，其中，所述电介质套管由陶瓷材料和塑料材料中的一种材料制成。
12. 一种用于确定包含在容器中的产品的填充水平的方法，包括以下步骤：
生成电磁发送信号，
借助于延伸到所述容器中的探测器，朝着所述产品的表面引导所述发送信号，
借助于所述探测器，引导在所述产品的表面处反射的回波信号，
接收所述回波信号，
基于所述发送信号与所述回波信号之间的关系，确定所述填充水平，
沿着延伸通过处于壳体内部的电介质套管的导体来传输所述发送信号和所述回波信号，其中，所述导体包括抵靠所述电介质套管的支撑表面的、径向延伸的带状物，以使得所述电介质套管悬挂所述导体，以及
使设置在所述电介质套管的内表面上且在所述支撑表面上的第一导电涂层与所述导体电接触，
由此确保在物位计的操作频率下所述第一导电涂层与所述导体之间的阻抗充分低，以降低存在于形成在所述电介质套管与所述导体之间的第一间隙中的介质的任何影响，
所述第一间隙具有面向所述容器的敞开端，从而允许容器气氛进入并凝结在所述第一间隙中。
13. 根据权利要求12所述的方法，其中，使所述第一导电涂层与所述导体电流接触，以确保将所述第一间隙的两侧保持在相等的电势。
14. 根据权利要求12所述的方法，还包括：使设置在所述电介质套管的外表面上的第二导电涂层与所述壳体电接触，
由此确保在所述物位计的操作频率下在所述第二导电涂层与所述壳体之间的阻抗充分低，以降低存在于形成在所述电介质套管与所述壳体之间的第二间隙中的介质的任何影响，
所述第二间隙具有面向所述容器的敞开端，从而允许容器气氛进入并凝结在所述第二间隙中。
15. 根据权利要求14所述的方法，其中，使所述第二导电涂层与所述壳体电流接触，以确保将所述第二间隙的两侧保持在相等的电势。”
驳回决定的具体理由为：（1）独立权利要求1请求保护一种用于确定包含在容器中的产品的填充水平的导波雷达物位计，权利要求1与对比文件1相比，其区别技术特征为：导体位于密封布置中，在壳体内部延伸，同时处于电介质套管内部，密封布置还包括导电涂层，所述导电涂层设置在所述电介质套管的面向所述间隙的表面上，并且与所述相邻的导电表面电接触，以使得在所述物位计的操作频率下所述导电涂层与所述相邻的导电表面之间的阻抗充分低，以降低存在于所述间隙中的任何介质的影响，所述导电涂层包括设置在所述电介质套管的内表面上的第一导电表面涂层，其中，所述第一导电表面涂层的一部分延伸到所述支撑表面上。上述区别技术特征的一部分是本领域技术人员在对比文件2的技术启示下所容易想到的，其余的区别技术特征属于本领域的常用技术手段，因此，权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）独立权利要求12请求保护一种用于确定包含在容器中的产品的填充水平的方法，权利要求12与对比文件1相比，其区别技术特征为：电介质套管处于壳体内部，设置在所述电介质套管的内表面上且在所述支撑表面上的第一导电涂层与所述导体电接触，由此确保在物位计的操作频率下所述第一导电涂层与所述导体之间的阻抗充分低，以降低存在于形成在所述电介质套管与所述导体之间的第一间隙中的介质的任何影响。上述区别技术特征的一部分是本领域技术人员在对比文件2的技术启示下所容易想到的，其余的区别技术特征属于本领域的常用技术手段，因此，权利要求12不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（3）从属权利要求2-11、13-15的附加技术特征或被对比文件1、2公开或属于本领域的常用技术手段，因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求2-11、13-15也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年01月31日向国家知识产权局提出了复审请求，但未修改申请文件。复审请求人在复审请求书中认为：（1）对比文件2中说明书第6页第2段仅仅暗示了用于消除间隙的影响的涂层，同时强调了在介电填充体上的涂层必须与壳体电接触，但并未说明在存在物理间隙的情况下涂层如何可以导电接触壳体，因此，本领域技术人员并不是非常清楚如何实践该部分内容。（2）对比文件2的第二实施例（探头实施例）具有在电介质套筒下面的密封元件，这些密封元件旨在用于防止任何液体或冷凝物通过毛细作用或者其他方式渗入介电填充体与过程连接壳体之间的任何间隙，当结合该第二实施例时，本领域技术人员会得到与本申请不同的技术方案（即：将密封元件布置在电介质套筒下面），虽然说明书第6页第2段提到了第一实施例的喇叭天线和第二实施例的过程连接壳体，但将该段落中所公开的内容理解为仅与利用喇叭天线的第一实施例相关是最合理的。（3）权利要求1限定了导电涂层设置在电介质套管的内部，然而，对比文件2中说明书第6页第2段仅仅公开了在介电填充体的外部的导电涂层，并未教导或暗示在内部设置导电涂层，因此，本领域技术人员结合对比文件2得到的是避免来自不同的间隙（套筒外部）的干扰的技术方案；对比文件2并未提及在介电填充体上表面上的任何导电涂层，而权利要求1中限定了“导电涂层延伸到导体的径向延伸的带状物抵靠的电介质套管的支撑表面上”，通过在该支撑表面上设置导电涂层确保了在间隙的两侧的可靠短路，当该支撑表面悬挂导体时，将存在确保此处不存在间隙的压力以及确保在导体与涂层之间的电接触，然而对比文件2并未教导在不存在间隙的表面（套筒的支撑表面）上设置导电涂层。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年02月13日依法受理了该复审请求，并将其转送至原专利实质审查部门进行前置审查。
原专利实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年09月27日向复审请求人发出复审通知书，指出：（1）独立权利要求1请求保护一种用于确定包含在容器中的产品的填充水平的导波雷达物位计，权利要求1与对比文件1相比，其区别技术特征为：密封布置还包括导电涂层，导电涂层设置在电介质套管的面向间隙的表面上，并且与相邻的导电表面电接触，以使得在物位计的操作频率下导电涂层与相邻的导电表面之间的阻抗充分低，以降低存在于间隙中的任何介质的影响；导电涂层包括设置在电介质套管的内表面上的第一导电表面涂层，第一导电表面涂层的一部分延伸到支撑表面上。对比文件2公开了上述区别技术特征的一部分，且给出了将这部分区别技术特征应用于对比文件1的技术启示，其余的区别技术特征是本领域技术人员基于对比文件2的启示容易想到的，因此，权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）独立权利要求12请求保护一种用于确定包含在容器中的产品的填充水平的方法，权利要求12与对比文件1相比，其区别技术特征为：使设置在电介质套管的内表面上且在支撑表面上的第一导电涂层与导体电接触，由此确保在物位计的操作频率下第一导电涂层与导体之间的阻抗充分低，以降低存在于形成在电介质套管与导体之间的第一间隙中的介质的任何影响。对比文件2公开了上述区别技术特征的一部分，且给出了将这部分区别技术特征应用于对比文件1的技术启示，其余的区别技术特征是本领域技术人员基于对比文件2的启示容易想到的，因此，权利要求12不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（3）从属权利要求2-11、13-15的附加技术特征或被对比文件1、2公开或属于本领域的常用技术手段，因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求2-11、13-15也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（4）针对复审请求人的意见进行了回应。
复审请求人于2019年11月12日提交了意见陈述书，未修改申请文件。
复审请求人认为：（1）对比文件2未详细说明导电涂层如何与壳体导电连接，直接将其解释为由冷凝物导致的连接是后见之明。因此，对比文件2没有公开“导电涂层，所述导电涂层设置在所述电介质套管的面向所述间隙的表面上，并且与所述相邻的导电表面电接触，以使得在所述物位计的操作频率下所述导电涂层与所述相邻的导电表面之间的阻抗充分低，以降低存在于所述间隙中的任何介质的影响”，该特征明确限定了导电涂层与相邻的导电表面之间的电连接在物位计的操作频率下具有充分低的阻抗，以降低存在于间隙中的任何介质的影响，也没有公开第一导电表面涂层的一部分延伸到电介质套管的支撑表面上。即使假设本领域技术人员使用冷凝物来形成导电连接，由于冷凝物的形成完全是随机的，当依靠冷凝物作为连接时，预期其对于某些操作频率无法达到可靠的匹配。实际上，本申请使用通过延伸到介电套筒的支撑表面上的第一导电表面涂层的一部分而在操作频率下具有充分低的阻抗的电连接，以降低存在于间隙中的任何介质、包括冷凝物的影响，而不是通过使用冷凝物将涂层和相邻表面短路实现的其他方式。（2）复审通知书认为：为消除间隙的影响，可以将对比文件2的导电涂层设于陶瓷柱塞28、29的内表面以及上表面，这对于本领域技术人员是显而易见的。在该段复审意见中，所确定的要解决的技术问题已转移为消除陶瓷柱塞和探头之间的间隙，即使考虑到这个新的技术问题，对比文件2的涂层由于例如涂层的平面度等因素不太可能密封间隙，相反，对比文件2的密封是一种直接的解决方案。（3）复审通知书认为：“本领域技术人员容易想到将其用于对比文件1中以解决技术问题（即：在电介质套筒的面向间隙的表面上设置与相邻的导电表面电接触的导电涂层，以使得在物位计的操作频率下导电涂层与相邻的导电表面之间的阻抗充分低，以降低存在于间隙中的任何介质的影响）”，此时进一步将对比文件2的涂层应用于对比文件1中陶瓷柱塞28、29的内表面以及支撑表面是“容易想到的”。在该段复审意见中，要解决的技术问题再次发生转移，该段落提出的技术问题是后见之明，因为其完全使用了权利要求1的措辞来引出权利要求1的技术方案。（4）在没有预先知晓本申请的发明构思的情况下，如果要消除套管和导体之间的间隙中冷凝物的干扰，使用对比文件2的密封将是一种直接的解决方案，本领域技术人员并不会有动机进行复审意见中所提出的种种修改。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本
复审请求人在复审阶段未修改申请文件，本复审请求审查决定所针对的审查文本与驳回决定所依据的审查文本相同，即：申请日2012年09月24日提交的说明书摘要、说明书第1-54段、说明书附图图1-3、摘要附图；2018年05月16日提交的权利要求第1-15项。
（二）关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果权利要求的技术方案是本领域技术人员能够在最接近的现有技术的基础上结合其他对比文件以及所属领域的公知常识而显而易见地得到，则该权利要求不具有创造性。
具体到本案：
1. 权利要求1请求保护一种用于确定包含在容器中的产品的填充水平的导波雷达物位计，对比文件1公开了一种用于确定包含在罐15中的内容物的填充水平的雷达液位计，并具体公开了（参见说明书第6页倒数第1段-第8页第3段，图2-3）：雷达液位计包括：
微波收发装置11，用于发送电磁发送信号以及接收在内容物的表面处反射的电磁回波信号；
探头13在联接器14外部的部分（相当于探测器），其连接到微波收发装置11，被配置成延伸到罐15中并朝着内容物的表面引导所述发送信号以及朝着微波收发装置11引导所述回波信号；
联接器14以及探头13在联接器14内部的部分（两者相当于密封布置），其包括：金属套筒23（相当于中空壳体）、探头13在联接器14内部的部分（相当于导体）、第一陶瓷柱塞28和第二陶瓷柱塞29（两者相当于电介质套筒）；
探头13在联接器14内部的部分在金属套筒23内部延伸，用于在微波收发装置11与探头13在联接器14外部的部分之间传输电磁信号；第一陶瓷柱塞28和第二陶瓷柱塞29被布置在金属套筒23内部并围绕探头13在联接器14内部的部分，结合图3a可知，第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29与相邻的探头13之间必然存在间隙（相当于第一间隙），间隙具有面向罐15的敞开端，从而允许罐15的气氛进入并凝结在间隙中。
探头13在联接器14内部的部分包括抵靠第二陶瓷柱塞29的支撑表面的、径向延伸的圆柱形延伸部分27（相当于带状物），以使得第二陶瓷柱塞29悬挂探头13在联接器14内部的部分。
权利要求1与对比文件1相比，其区别技术特征为：密封布置还包括导电涂层，导电涂层设置在电介质套管的面向间隙的表面上，并且与相邻的导电表面电接触，以使得在物位计的操作频率下导电涂层与相邻的导电表面之间的阻抗充分低，以降低存在于间隙中的任何介质的影响；导电涂层包括设置在电介质套管的内表面上的第一导电表面涂层，第一导电表面涂层的一部分延伸到支撑表面上。
基于该区别技术特征，权利要求1要求保护的技术方案实际解决的技术问题是如何避免电介质套筒与导体间的间隙中的容器气氛对传输信号的干扰，关于这一点，对比文件2公开了一种用于确定及监控容器中的介质的料位的装置，并具体公开了（参见说明书6页第2段，图1-4、7-10）：在测量信号的电磁波被引导以及它们的辐射特性或波阻匹配的区域中，为介电填充体提供导电涂层，通过这种导电涂层，渗入间隙的介质或冷凝物不能影响波阻和电磁波的反射性能，这种导电涂层必须导电地接触喇叭天线壳体或过程连接壳体，由此可知，该导电涂层设置在介电填充体的面向间隙的表面上，并且与相邻的导电表面（喇叭天线壳体或过程连接壳体）电接触，即：对比文件2给出了通过如上设置的导电涂层来避免间隙中的介质或冷凝物对传输信号的干扰的技术启示，在这种技术启示下，本领域技术人员容易想到将其用于对比文件1中以解决前述技术问题（即：在电介质套管的面向间隙的表面上设置与相邻的导电表面电接触的导电涂层，以使得在物位计的操作频率下导电涂层与相邻的导电表面之间的阻抗充分低，以降低存在于间隙中的任何介质的影响），此时，进一步将该导电涂层应用于第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29与探头13装配的内表面以及支撑表面上，这是本领域技术人员基于对比文件2的启示容易想到的设置方式。
由此可见，在对比文件1的基础上结合对比文件2及本领域的常用技术手段得到权利要求1所要求保护的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，因此，权利要求1所要求保护的技术方案不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2. 权利要求2是从属权利要求。对比文件2中介电填充体上的导电涂层导电地接触喇叭天线壳体或过程连接壳体（参见说明书6页第2段），由此可知，该导电涂层与相邻的导电表面电流接触，以确保将间隙的两侧保持在相等的电势。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3. 权利要求3是从属权利要求。关于第二间隙：对比文件1中第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29被布置在金属套筒23内部并围绕探头13，结合图3a可知，第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29与相邻的金属套筒23之间必然存在间隙（相当于第二间隙）。关于第二导电表面涂层：对比文件2中介电填充体上的导电涂层导电地接触喇叭天线壳体或过程连接壳体（参见说明书6页第2段），而喇叭天线壳体、过程连接壳体均位于介电填充体的外侧（参见图2、8），由此可知，该导电涂层位于介电填充体的外表面，本领域技术人员容易想到可以将如上设置的导电涂层应用于对比文件1中以避免间隙中的介质或冷凝物对传输信号的干扰，即：在第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29的外表面上设置导电涂层（相当于第二导电表面涂层）。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
4. 权利要求4、6-8是从属权利要求。对比文件1公开了（参见图3a）：第二陶瓷柱塞29相对于金属套筒23悬挂探头13，金属套筒23具有向内突出部，第二陶瓷柱塞29具有抵靠该突出部的悬挂表面，以使得金属套筒23悬挂第二陶瓷柱塞29。基于此，适应性地在第二陶瓷柱塞29与金属套筒23装配的悬挂表面上设置导电涂层是本领域技术人员基于对比文件2的启示容易想到的设计方式，另外，为第二陶瓷柱塞29设置延伸超过悬挂表面的半径减小的终止部、并令该终止部延伸超过突出部一段距离，这是本领域的常规结构设计。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求4、6-8也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
5. 权利要求5、9是从属权利要求。在第二陶瓷柱塞29与圆柱形延伸部分27、金属套筒23向内突出部的装配空间中（即“在所述第一导电表面涂层的在所述支撑表面上的所述部分与所述径向延伸的带状物之间”、“在所述向内突出部与所述第二导电表面涂层的在所述悬挂表面上的所述部分之间”）分别设置导电构件以更好地进行电接触，这是本领域的常规技术手段。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求5、9也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
6. 权利要求10是从属权利要求。以沉积在电介质套管上的金属合金作为导电涂层是本领域的常规技术手段。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
7. 权利要求11是从属权利要求。“陶瓷材料”已被对比文件1公开（参见说明书第7页第5段），“塑料材料”是本领域的常规选择。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
8. 权利要求12请求保护一种用于确定包含在容器中的产品的填充水平的方法，对比文件1公开了一种用于确定包含在罐15中的内容物的填充水平的方法，并具体公开了（参见说明书第6页倒数第1段-第8页第3段，图2-3）：方法包括：
微波收发装置11生成电磁发送信号；
探头13在联接器14外部的部分（相当于探测器）延伸到罐15中，朝着内容物的表面引导发送信号，并引导在内容物的表面处反射的回波信号；
微波收发装置11接收回波信号；
基于发送信号与回波信号之间的关系确定填充水平；
探头13在联接器14内部的部分（相当于导体）延伸通过处于金属套筒23（相当于壳体）内部的第一陶瓷柱塞28和第二陶瓷柱塞29（两者相当于电介质套筒），沿着探头13在联接器14内部的部分来传输发送信号和回波信号，探头13在联接器14内部的部分包括抵靠第二陶瓷柱塞29的支撑表面的、径向延伸的圆柱形延伸部分27（相当于带状物），以使得第二陶瓷柱塞29悬挂探头13在联接器14内部的部分；
第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29被布置在金属套筒23内部并围绕探头13，结合图3a可知，第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29与相邻的探头13之间必然存在间隙（相当于第一间隙），间隙具有面向罐15的敞开端，从而允许罐15的气氛进入并凝结在间隙中。
权利要求12与对比文件1相比，其区别技术特征为：使设置在电介质套管的内表面上且在支撑表面上的第一导电涂层与导体电接触，由此确保在物位计的操作频率下第一导电涂层与导体之间的阻抗充分低，以降低存在于形成在电介质套管与导体之间的第一间隙中的介质的任何影响。
基于该区别技术特征，权利要求12要求保护的技术方案实际解决的技术问题是如何避免电介质套筒与导体间的间隙中的容器气氛对传输信号的干扰，关于这一点，对比文件2公开了一种用于确定及监控容器中的介质的料位的装置，并具体公开了（参见说明书6页第2段，图1-4、7-10）：在测量信号的电磁波被引导以及它们的辐射特性或波阻匹配的区域中，为介电填充体提供导电涂层，通过这种导电涂层，渗入间隙的介质或冷凝物不能影响波阻和电磁波的反射性能，这种导电涂层必须导电地接触喇叭天线壳体或过程连接壳体，由此可知，该导电涂层设置在介电填充体的面向间隙的表面上，并且与相邻的导电表面（喇叭天线壳体或过程连接壳体）电接触，即：对比文件2给出了通过如上设置的导电涂层来避免间隙中的介质或冷凝物对传输信号的干扰的技术启示，在这种技术启示下，本领域技术人员容易想到将其用于对比文件1中以解决前述技术问题（即：在电介质套管的面向间隙的表面上设置与相邻的导电表面电接触的导电涂层，由此确保在物位计的操作频率下导电涂层与相邻的导电表面之间的阻抗充分低，以降低存在于形成在电介质套管与相邻的导电表面之间的间隙中的介质的任何影响），此时，进一步将该导电涂层应用于第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29与探头13装配的内表面以及支撑表面上，这是本领域技术人员基于对比文件2的启示容易想到的设置方式。
由此可见，在对比文件1的基础上结合对比文件2及本领域的常用技术手段得到权利要求12所要求保护的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，因此，权利要求12所要求保护的技术方案不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
9. 权利要求13是从属权利要求。对比文件2中介电填充体上的导电涂层导电地接触喇叭天线壳体或过程连接壳体（参见说明书6页第2段），由此可知，该导电涂层与相邻的导电表面电流接触，以确保将间隙的两侧保持在相等的电势。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
10. 权利要求14是从属权利要求。关于第二间隙：对比文件1中第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29被布置在金属套筒23内部并围绕探头13，结合图3a可知，第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29与相邻的金属套筒23之间必然存在间隙（相当于第二间隙），该间隙具有面向罐15的敞开端，从而允许罐15的气氛进入并凝结在该间隙中。关于第二导电涂层：对比文件2中介电填充体上的导电涂层导电地接触喇叭天线壳体或过程连接壳体（参见说明书6页第2段），而喇叭天线壳体、过程连接壳体均位于介电填充体的外侧（参见图2、8），由此可知，该导电涂层位于介电填充体的外表面，本领域技术人员容易想到可以将如上设置的导电涂层应用于对比文件1中以避免间隙中的介质或冷凝物对传输信号的干扰，即：在第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29的外表面上设置与金属套筒23电接触的导电涂层（相当于第二导电涂层）。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
11. 权利要求15是从属权利要求。对比文件2中介电填充体上的导电涂层导电地接触喇叭天线壳体或过程连接壳体（参见说明书6页第2段），由此可知，该导电涂层与相邻的导电表面电流接触，以确保将间隙的两侧保持在相等的电势。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（三）针对复审请求人意见陈述的回应
针对复审请求人的意见陈述，合议组认为：
（1）首先，与对比文件2相同地，本申请的原申请文件也并未详细说明在存在物理间隙的情况下导电涂层如何导电地接触相邻的导电表面（参见说明书第[0046]-[0047]段），然而，在已知设置导电涂层的目的是消除渗入间隙的冷凝物所带来的影响的情况下，本领域技术人员能够知晓如何实现上述导电地接触，即：渗入间隙的冷凝物引起涂层与相邻导电表面的电接触。其次，“以使得在所述物位计的操作频率下所述导电涂层与所述相邻的导电表面之间的阻抗充分低，以降低存在于所述间隙中的任何介质的影响”是导电涂层的设置（即：“所述导电涂层设置在所述电介质套管的面向所述间隙的表面上，并且与所述相邻的导电表面电接触”）所带来的技术效果，关于这一点，对比文件2公开了在介电填充体的面向间隙的表面上设置与相邻导电表面电接触的导电涂层，从而避免间隙中的介质或冷凝物对传输信号的干扰，也就是说，导电涂层的设置方式已经被对比文件2公开了，且两者的作用相同，本领域技术人员容易想到将其用于对比文件1中以避免电介质套筒与导体间的间隙中的容器气氛对传输信号的干扰，此时使得“在所述物位计的操作频率下所述导电涂层与所述相邻的导电表面之间的阻抗充分低，以降低存在于所述间隙中的任何介质的影响”，这一技术效果是本领域技术人员能够预期的。再次，根据对比文件1中第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29与其他部件的装配关系以及由此带来的间隙来适应性地调整导电涂层的分布位置，是本领域技术人员所容易想到的，也就是说，将导电涂层延伸到第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29的支撑表面上，是本领域技术人员基于对比文件2的启示容易想到的设置方式。
（2）对比文件2公开了在介电填充体上设置与外侧壳体电接触的导电涂层，从而消除介电填充体与外侧壳体之间的间隙的影响，给出了通过如上设置的导电涂层来避免间隙中的介质或冷凝物对传输信号的干扰的技术启示，在这种技术启示下，本领域技术人员容易想到可以将其应用于对比文件1中以解决其技术问题，此时，根据对比文件1中第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29与其他部件的装配关系以及由此带来的间隙来适应性地调整导电涂层的分布位置，是本领域技术人员所容易想到的，比如：第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29围绕探头13，由于制作公差的实际限制，第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29的内表面与探头13之间必然存在间隙；第二陶瓷柱塞29上部的支撑平面悬挂探头13的圆柱形延伸部分27，虽然由悬挂所带来的压力令两者紧密接触，但考虑到平面度等形位误差的实际限制，两者之间仍然无法避免间隙的存在，因此，为消除上述间隙的影响（其所要解决的问题并未发生转移，仍是：如何避免电介质套筒与导体间的间隙中的容器气氛对传输信号的干扰），将导电涂层适应性地设于第一陶瓷柱塞28、第二陶瓷柱塞29的内表面以及支撑表面上是本领域技术人员基于对比文件2的启示容易想到的设置方式。
（3）如前所述，对比文件2公开了在介电填充体的面向间隙的表面上设置与相邻导电表面电接触的导电涂层，从而避免间隙中的介质或冷凝物对传输信号的干扰，本领域技术人员容易想到将其用于对比文件1中以避免电介质套筒与导体间的间隙中的容器气氛对传输信号的干扰（其所要解决的问题并未发生转移，仍是：如何避免电介质套筒与导体间的间隙中的容器气氛对传输信号的干扰）；至于申请人提到的复审意见，其括号内使用权利要求1的措辞仅是为了说明将对比文件2所公开的内容用于对比文件1以解决前述技术问题后所得到的技术方案。
（4）虽然对比文件2具有在电介质套筒下面的密封元件，但其还记载了为介电填充体提供电接触过程连接壳体的导电涂层，从而避免渗入间隙的介质或冷凝物影响波阻和电磁波的反射性能，由此可知，上述密封元件并不能完全避免容器内容物的渗入，其与导电涂层的设置并不矛盾，并不妨碍本领域技术人员获得与导电涂层相关的技术启示。
因此，复审请求人的意见陈述不具有说服力。
根据以上事实和理由，合议组依法作出以下审查决定。
决定
维持国家知识产权局于2018年11月05日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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