发明创造名称：具有可定制的流动注入的外延腔室
外观设计名称：
决定号：201759
决定日：2020-01-15
委内编号：1F273821
优先权日：2012-10-26；2013-10-07
申请（专利）号：201380055524.4
申请日：2013-10-08
复审请求人：应用材料公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：罗慧晶
合议组组长：韩冰
参审员：周忠堂
国际分类号：H01L21/20
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点：如果一项权利要求的技术方案与作为最接近现有技术的对比文件相比存在区别技术特征，上述区别技术特征没有被其他对比文件公开，也不属于本领域的公知常识，并且包含该部分区别技术特征的权利要求的技术方案具有有益的技术效果，则该权利要求的技术方案具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201380055524.4，名称为“具有可定制的流动注入的外延腔室”的pct发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为应用材料公司。本申请的申请日为2013年10月08日，优先权日为2012年10月26日和2013年10月07日，进入中国国家阶段的日期为2015年04月23日，公开日为2015年07月01日。
经实质审查，国家知识产权局实质审查部门于2018年11月20日发出驳回决定，以权利要求1-12不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由驳回了本申请。驳回决定所依据的文本为：申请人于2018年01月26日提交的权利要求第1-12项；于2015年10月09日提交的说明书第1-11页，说明书附图第1-6页；于2015年04月23日国际申请进入中国国家阶段时提交的国际申请中文译文的说明书摘要和摘要附图。驳回决定所针对的权利要求书内容如下：
“1. 一种用于处理腔室的气体注射器，包括：
第一组出口，所述第一组出口以一角度提供第一工艺气体的有角注射至平面表面；和
第二组出口，邻接所述第一组出口，所述第二组出口大致上沿着所述平面表面提供第二工艺气体的加压层流，所述平面表面正交于所述第二组出口延伸，
其中来自所述第一组出口的所述第一工艺气体的方向的角度与垂直成约70度至约90度，和所述第二组出口中的每一出口包括气室区，并且其中每一气室区的离开区域被唇部部分阻挡，以提高所述第二工艺气体的压力和流动均匀性。
2. 如权利要求1所述的气体注射器，其中所述第一工艺气体和第二工艺气体为相同的气体物种。
3. 如权利要求1所述的气体注射器，其中所述第一工艺气体和第二工艺气体为不同的气体物种。
4. 如权利要求1所述的气体注射器，其中所述第一组出口位于与所述第二组出口不同的所述气体注射器的垂直水平。
5. 如权利要求1所述的气体注射器，其中所述第一组出口和所述第二组出口位于所述气体注射器的一相同的共面水平。
6. 如权利要求1至5中任一项所述的气体注射器，其中所述第一组出口由多个孔所组成，所述多个孔以一高流速朝向所述平面表面提供所述第一工艺气体。
7. 一种用于处理基板的设备，包括：
处理腔室，所述处理腔室中具有基板支座，以在所述处理腔室内在所需位置支撑基板的处理表面；
第一注射器，所述第一注射器设置成邻接所述基板支座的第一侧，以在第一方向上在所述基板的所述处理表面上方提供第一工艺气体，所述第一注射器包括：
第一组出口，所述第一组出口以一角度提供第一工艺气体的有角注射至所述基板的所述处理表面；和
第二组出口，邻接所述第一组出口，所述第二组出口平行于所述基板的所述处理表面并在所述基板的整个处理表面上提供第二工艺气体的加压层流，其中来自所述第一组出口的所述第一工艺气体的方向的角度与垂直成约70度至约90度，和所述第二组出口中的每一出口包括气室区，并且其中每一气室区的离开区域被唇部部分阻挡，以提高所述第二工艺气体的压力和流动均匀性；
第二注射器，所述第二注射器设置成邻接所述基板支座的第三侧于距所述基板支座的所述第一侧多达约145度的方位角处，用以在第二方向上在所述基板的所述处理表面上方提供以交叉流与所述第一工艺气体相互作用的第二工艺气体，所述第二方向与所述第一方向不同，其中所述第二注射器包括一或多个喷嘴，所述一或多个喷嘴调整所述第二工艺气体的气流速度、气流形状和气流方向中的至少一者；以及
单一排气口，其中所述单一排气口与所述第一注射器相对设置，以从所述处理腔室排出由所述第一注射器提供的所述第一工艺气体和所述第二工艺气体、及由所述第二注射器提供的所述第三工艺气体。
8. 如权利要求7所述的设备，其中所述一或多个喷嘴为可调整喷嘴，并且其中所述设备进一步包括一或多个可控制旋钮，所述一或多个可控制旋钮调整所述一或多个可调整喷嘴相对于所述基板的一角度或所述一或多个可调整喷嘴的截面形状中的至少一者。
9. 如权利要求8所述的设备，其中最适化所述一或多个可调整喷嘴的所述截面形状，以在所述基板上锁定特定半径区域。
10. 如权利要求8或9所述的设备，其中最适化所述一或多个可调整喷嘴的所述角度，以在所述基板上锁定特定半径区域。
11. 如权利要求10所述的设备，其中所述第二注射器包括一个可调整狭缝喷嘴。
12. 如权利要求11所述的设备，其中所述第二注射器包括多个可调整喷嘴，其中所述多个可调整喷嘴中的第一可调整喷嘴和第二可调整喷嘴中的每一者可由所述一或多个可控制旋钮单独控制，并且其中所述第一可调整喷嘴以与所述第二可调整喷嘴不同的一角度提供所述第二工艺气体。”
驳回决定中引用了如下对比文件：
对比文件1：US5551985A，公告日为1996年09月03日；
对比文件2：CN1200773A，公开日为 2005年08月03日（驳回决定案由部分错写成CN1648282A）；
对比文件3：US2007/0123007A1，公开日为2007年05月31日。
驳回决定认为：（1）独立权利要求1、7与对比文件1之间的共同区别技术特征在于：（A）来自所述第一组出口的所述工艺气体的方向的角度与垂直成约70度至约90度；权利要求7与对比文件1进一步的区别技术特征还在于：（B）调整所述第二工艺气体的气流形状；第一注射器设置成邻接所述基板支座的第一侧，第二注射器设置成邻接所述基板支座的第二侧于距所述基板支座的所述第一侧至多约145度之间的方位角处。其中区别技术特征（A）是在对比文件3给出的技术启示下而容易想到的；区别技术特征（B）部分被对比文件2公开，其余部分是本领域技术人员在对比文件2给出的技术启示下容易得到的；因此，权利要求1、7不具备创造性。（2）从属权利要求2-6、8-12也不具备创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年02月15日向国家知识产权局提出了复审请求，未对申请文件进行任何修改。复审请求人陈述意见认为：（1）本申请解决的是附加侧流受限的调整能力和附加侧流相关于主气流路径的受限制的有效面积问题，即使对比文件2公开了环形构造，也不存在根据对比文件1完成第一注射器与第二注射器相关于基板支座的构造的技术启示，尤其是“多达约145度的方位角处”的技术启示或暗示，上述构思不能由现有的具有均匀分布能力的构造直接地导出。（2）特征“来自所述第一组出口的所述第一工艺气体的方向的角度与垂直成约70度至约90度”和“所述第一组开口和所述第二组开口皆设置成邻接所述基板支座的第一侧”应当作为整体来评价，割裂特征之间关系评价创造性并不合适。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年02月20日依法受理了该复审请求，并将其转送至实质审查部门进行前置审查。
实质审查部门在前置审查意见书中认为，对比文件2公开的环形注射器本质上即是在水平面上以一定夹角设置注射器，其可以实现对工艺气体施加侧流的作用。对比文件3仅需给出包括水平设置的开口及与水平呈一定角度设置的开口即可，与是否设置在基板制作的一侧无关，因而坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019 年07 月05 日向复审请求人发出复审通知书，指出：（1）权利要求1-6相对于对比文件1和本领域公知常识的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）关于复审请求人的意见陈述，合议组认为：对比文件1已经公开了上下叠置的第一组开口和第二组开口，权利要求1相对于对比文件1没有公开的仅是第一组开口相对于主轴的倾斜角度的具体数值，而本领域技术人员在对比文件1所公开的上述内容的基础上，容易根据实际情况调整具体的偏角数值范围，且将上述角度数值范围具体限定为与垂直成70-90度，这是本领域常用的技术手段，该种调整所取得的技术效果也是本领域技术人员可以预期的。
复审请求人于2019 年07 月29 日提交了意见陈述书和权利要求书的全文修改替换页（包括权利要求第1-6项）。所作的修改为，删除了复审通知书所针对的权利要求1-6，适应性调整了权利要求的编号。复审请求人陈述意见认为：修改文本已经克服了复审通知书所指出的缺陷。
答复复审通知书时新修改的权利要求1-6内容如下：
“1. 一种用于处理基板的设备，包括：
处理腔室，所述处理腔室中具有基板支座，以在所述处理腔室内在所需位置支撑基板的处理表面；
第一注射器，所述第一注射器设置成邻接所述基板支座的第一侧，以在第一方向上在所述基板的所述处理表面上方提供第一工艺气体，所述第一注射器包括：
第一组出口，所述第一组出口以一角度提供第一工艺气体的有角注射至所述基板的所述处理表面；和
第二组出口，邻接所述第一组出口，所述第二组出口平行于所述基板的所述处理表面并在所述基板的整个处理表面上提供第二工艺气体的加压层流，其中来自所述第一组出口的所述第一工艺气体的方向的角度与垂直成约70度至约90度，和所述第二组出口中的每一出口包括气室区，并且其中每一气室区的离开区域被唇部部分阻挡，以提高所述第二工艺气体的压力和流动均匀性；
第二注射器，所述第二注射器设置成邻接所述基板支座的第三侧于距所述基板支座的所述第一侧多达约145度的方位角处，用以在第二方向上在所述基板的所述处理表面上方提供以交叉流与所述第一工艺气体相互作用的第二工艺气体，所述第二方向与所述第一方向不同，其中所述第二注射器包括一或多个喷嘴，所述一或多个喷嘴调整所述第二工艺气体的气流速度、气流形状和气流方向中的至少一者；以及
单一排气口，其中所述单一排气口与所述第一注射器相对设置，以从所述处理腔室排出由所述第一注射器提供的所述第一工艺气体和所述第二工艺气体、及由所述第二注射器提供的所述第三工艺气体。
2. 如权利要求1所述的设备，其中所述一或多个喷嘴为可调整喷嘴，并且其中所述设备进一步包括一或多个可控制旋钮，所述一或多个可控制旋钮调整所述一或多个可调整喷嘴相对于所述基板的一角度或所述一或多个可调整喷嘴的截面形状中的至少一者。
3. 如权利要求2所述的设备，其中最适化所述一或多个可调整喷嘴的所述截面形状，以在所述基板上锁定特定半径区域。
4. 如权利要求2或3所述的设备，其中最适化所述一或多个可调整喷嘴的所述角度，以在所述基板上锁定特定半径区域。
5. 如权利要求4所述的设备，其中所述第二注射器包括一个可调整狭缝喷嘴。
6. 如权利要求5所述的设备，其中所述第二注射器包括多个可调整喷嘴，其中所述多个可调整喷嘴中的第一可调整喷嘴和第二可调整喷嘴中的每一者可由所述一或多个可控制旋钮单独控制，并且其中所述第一可调整喷嘴以与所述第二可调整喷嘴不同的一角度提供所述第二工艺气体。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以依法作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
复审请求人于2019年07月29日提交了权利要求书的全文修改替换页（包括权利要求第1-6项），经审查，所作修改符合专利法实施细则第61条第1款和专利法第33条的规定。本复审请求审查决定所针对的文本为：复审请求人于2019年07月29日提交的权利要求第1-6项；于2015年10月09日提交的说明书第1-11页，说明书附图第1-6页；于2015年04月23日国际申请进入中国国家阶段时提交的国际申请中文译文的说明书摘要和摘要附图。
专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，
该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求的技术方案与作为最接近现有技术的对比文件相比存在区别技术特征，上述区别技术特征没有被其他对比文件公开，也不属于本领域的公知常识，并且包含该部分区别技术特征的权利要求的技术方案具有有益的技术效果，则该权利要求的技术方案具备创造性。
本复审请求审查决定引用与驳回决定中相同的对比文件，即：
对比文件1：US5551985A，公告日为1996年09月03日；
对比文件2：CN1200773A，公开日为 2005年08月03日；
对比文件3：US2007/0123007A1，公开日为2007年05月31日。
权利要求1要求保护一种用于处理基板的设备。对比文件1公开了一种用于处理基板的设备，并具体公开了以下技术内容（参见说明书第3栏第59行至第6栏第23行，附图4-5， 7-9）：处理设备包括化学气相沉积反应容器30，化学气相沉积反应容器30内具有支撑晶片12的处理表面的载体74；化学气相沉积反应容器30内设置有气体注射器40，包括注射器组件150，注射器组件150包括具有多个喷嘴的第一注射器组件150-1（图9中位于上部的注射器组件，相当于第一组出口）和第二注射器组件150-2（图9中位于下部的注射器组件，相当于第二组出口），第一注射器组件150-1以一角度提供第一工艺气体的有角注射至晶片12的处理表面，第二注射器组件150-2与第一注射器组件150-1上下邻接布置，第二注射器组件150-2平行于晶片12的处理表面并在晶片12的整个处理表面上提供第二工艺气体的加压层流，第一注射器组件150-1与第二注射器组件150-2的工艺气体均通过气体线174进入反应腔室176，并由图9可以看出，第二注射器组件150-2的每个包括气室区，在气体的离开区域被唇部部分阻挡，可提高工艺气体的压力和流动均匀性；通过软管42顶部的排气口将第一工艺气体和第二工艺气体从处理腔室内排出，排气口与注射器组件150在反应容器30内相对设置。
权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征为：（1）第一注射器设置成邻接基板支座的第一侧，第二注射器设置成邻接基板支座的第三侧于距基板支座的第一侧多达约145度的方位角处，用以在第二方向上在基板的处理表面上方提供以交叉流与第一工艺气体相互作用的第二工艺气体，第二方向与第一方向不同；（2）第二注射器包括一或多个喷嘴，所述一或多个喷嘴调整第二工艺气体的气流速度、气流形状和气流方向中的至少一者；第一组出口的工艺气体的方向的角度为与垂直成约70度至约90度。
基于上述区别技术特征，权利要求1实际所要解决的技术问题为：（1）如何增强侧流的调整能力；（2）改善气体混合的均匀性。
对于区别技术特征（1），本申请公开了一种用于处理基板的设备，要解决的技术问题为，附加侧流调整能力以及影响的有效面积受限的问题；所采用的主要技术手段为，在设备中设置两组注射器，且将第二组注射器设置为距离第一组注射器所在第一侧多达约145度的方位角的第三侧。
对比文件1公开了一种包括第一组和第二组相互叠置的注射器结构的处理基板的设备，旨在提供一种可以将不同反应气体同时注入到腔室的注射器，其没有披露有关于第二注射器的相关技术内容，也没有给出相关的技术教导。
对比文件2公开了一种可以形成基本均匀膜层的气体分布装置（参见说明书第3页第3行至第4页第6行，第5页第1行至第8页第1行，附图1，附图4-5，附图7），每个喷嘴34以一基本均匀的流率向室中喷射气体，在其内表面32形成一贯穿注射组件的中心孔，多个喷嘴34向处理室中喷射气体，即对比文件2的技术方案给出的是可以设置多个喷嘴以实现均匀成膜，并将喷嘴进行环向设置的启示，即使在对比文件1的基础上结合对比文件2也无法得到权利要求1的技术方案。
对比文件3公开了一种成膜设备（参见说明书第23-35段，图1-3），成膜设备通过气体输入管道4向反应腔2内输入反应气体，在气体输入管道4上设置喷嘴5，位于最上端的喷嘴与垂直方向呈小于90度的角度。而不会容易想到仅在距第一注射器的第一侧约145度方位出形成第二注射器，因此，对比文件3同样没有公开区别技术特征（1），并给出相应的技术启示。
可见，对比文件1本身没有给出技术上的教导，对比文件2-3均没有公开上述区别技术特征（1），也无法给出相关的技术启示；上述区别技术特征（1）也不属于本领域的公知常识，同时，由于区别技术特征（1），使得权利要求1的技术方案取得了沉积层厚度和组成更加均匀的有益的技术效果。
对于区别技术特征（2），对比文件1已经公开了第一注射器组件150-1能够提供有角注射，本领域技术人员在对比文件1所公开的上述内容的基础上，容易根据实际情况调整具体的偏角，且将上述角度具体限定为与垂直成约70度至约90度，这是本领域常用的技术手段。对比文件2公开了一种用于处理基板系统，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第3页第3行至第4页第6行，第5页第1行至第8页第1行，附图1，附图4-5，附图7）：处理系统14包括处理室12，工艺气体通过多个喷嘴34a和34b将工艺气体分别以第一方向和第二方向提供至晶片22的处理表面，通过设置喷嘴的截面形状获得不同的气体气流形状和气流速度。即对比文件2公开了区别技术特征（2）的另一部分技术特征且作用相同。
综上，在对比文件1的基础上结合对比文件2-3和本领域的公知常识不能够显而易见地得出权利要求1的技术方案，并且权利要求1的技术方案具有有益的技术效果。因此，权利要求1具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.2权利要求2-6具备专利法第22条第3款规定的创造性
权利要求2-6均直接或间接引用权利要求1，由于权利要求1具备创造性，因此，权利要求2-6也具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对驳回决定和前置中相关意见的评述
实质审查部门认为：
对比文件2公开的环形注射器本质上即是在水平面上以一定夹角设置注射器，其可以实现对工艺气体施加侧流的作用。在对比文件2公开了的上述技术内容的基础上，为了获得均匀的工艺气体分布，设置在第一方向和第二方向之间相对于基板制作的中心轴测量的方位角为至多约145度是本领域的技术人员根据需要进行的常规选择，属于公知常识。
对此，合议组认为：
对比文件1公开了一种第一组和第二组相互叠置的注射器结构，旨在提供一种可以将不同反应气体同时注入到腔室的注射器。对比文件2公开了一种可以形成基本均匀膜层的气体分布装置，每个喷嘴34以一基本均匀的流率向处理室中喷射气体，在其内表面32形成一贯穿注射组件的中心孔，多个喷嘴34向处理室中喷射气体，即使对比文件2给出了可以设置多个喷嘴以实现均匀成膜，给出的启示也是将喷嘴进行环向的设置，而不会容易想到仅在距第一注射器的第一侧约145度方位出形成第二注射器，因此，对比文件2缺乏上述启示。
综上，权利要求1-6相对于对比文件1-3以及本领域公知常识的结合具备创造性。
至于本申请是否存在其他不符合专利法和专利法实施细则规定的问题，由后续程序继续审查。
三、决定
撤销国家知识产权局于2018 年11 月20 日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局实质审查部门在本复审请求审查决定所针对的文本的基础上对本申请继续进行审查。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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