发明创造名称：触控面板
外观设计名称：
决定号：200820
决定日：2020-01-14
委内编号：1F275420
优先权日：
申请（专利）号：201410156212.9
申请日：2014-04-18
复审请求人：宸鸿科技（厦门）有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：鞠博
合议组组长：徐淑娴
参审员：姜晓庆
国际分类号：G06F3/041
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点：如果一项权利要求请求保护的技术方案相对于作为最接近的现有技术的对比文件存在区别技术特征，其中部分区别技术特征被其他对比文件公开且所起作用相同，其余的区别技术特征属于本领域的惯用技术手段，则该项权利要求请求保护的技术方案不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201410156212.9，名称为“触控面板”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为宸鸿科技（厦门）有限公司，申请日为2014年04月18日，公开日为2015年11月25日。
经实质审查，国家知识产权局实质审查部门于2018年11月19日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-7不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为：2018年07月27日提交的权利要求第1-7项，申请日2014年04月18日提交的说明书第1-6页、说明书摘要、摘要附图、说明书附图第1-10页。
驳回决定所针对的权利要求书的内容如下：
“1. 一种触控面板，其特征在于，包含：
一基板，包含一遮蔽区及一相邻于该遮蔽区的可视区；
至少一油墨结构，设置于该基板表面，并位于该遮蔽区；
一光阻结构，至少覆盖该油墨结构的上表面，并进一步覆盖该油墨结构邻近该可视区的侧面，填平该油墨结构因油墨颗粒大而形成的不平整表面，并提供相对该油墨结构较平整的表面，其中该光阻结构的材料为深色有机光阻材料，该油墨结构与该光阻结构设置于该基板上而定义形成该遮蔽区；
一触控感应结构，位于该光阻结构上，接触该光阻结构的表面；以及
一平坦层，覆盖该基板的该可视区及部分的该遮蔽区以邻接于该油墨结构，其中该平坦层在该可视区是设置于该触控感应结构与该基板之间，并且在该遮蔽区是设置于该光阻结构和该基板之间，使得该光阻结构进一步覆盖部分的该平坦层。
2. 如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该触控感应结构包含：
一透明电极结构，设置于该基板的该可视区，且部分延伸至该光阻结构上；
以及
多个引线，设置于该光阻结构上，且电性连接于该透明电极结构。
3. 如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，其中该油墨结构包含一第一油墨层，设置于该基板上，且位于该光阻结构与该基板之间。
4. 如权利要求3所述的触控面板，其特征在于，其中该油墨结构更包含一第二油墨层，设置于该第一油墨层上，且位于该光阻结构与该第一油墨层之间。
5. 如权利要求4所述的触控面板，其特征在于，其中该第二油墨层的面积小于该第一油墨层，且该第二油墨层是远离该可视区而设置于该第一油墨层上。
6. 如权利要求4所述的触控面板，其特征在于，其中该第一油墨层的面积小于该第二油墨层，且该第二油墨层是沿着该第一油墨层邻近该可视区的侧面向下延伸至该基板。
7. 如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，其中该油墨结构的材料为有色油墨材料。”
驳回决定中引用了第二次审查意见通知书中所引用的对比文件，即：
对比文件3：CN203386181U，公开日为2014年01月08日。
驳回决定的具体理由是：（1）权利要求1与对比文件3相比，区别技术特征在于“光阻结构，填平该油墨结构因油墨颗粒大而形成的不平整表面，并提供相对该油墨结构较平整的表面，其中该光阻结构的材料为深色有机光阻材料；一平坦层，覆盖部分的该遮蔽区以邻接于该油墨结构，并且在该遮蔽区是设置于该光阻结构和该基板之间，使得该光阻结构进一步覆盖部分的该平坦层”，然而上述区别技术特征属于本领域技术人员的惯用技术手段。（2）权利要求2-7的附加技术特征相对于对比文件3也不具备创造性。基于上述理由，权利要求1-7不具备创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年03月04日向国家知识产权局提出了复审请求，未修改申请文件。复审请求人认为：对比文件3至少没有公开1）光阻结构，至少覆盖油墨结构的上表面，填平油墨结构因油墨颗粒大而形成的不平整表面，并提供相对该油墨结构较平整的表面，其中该光阻结构的材料为深色有机光阻材料；2）平坦层，覆盖基板的可视区及部分的遮蔽区以邻接于油墨结构，并且在遮蔽区是设置于光阻结构与基板之间，使得光阻结构进一步覆盖部分的平坦层。判断光阻材料作为遮光层是否是本领域的常规选择，还需要考虑到发明本身整体的结构特征，对比文件3虽然公开了利用第一遮光层230来覆盖装饰层220的结构，但是却没有公开利用光阻结构（光阻材料）来直接覆盖于油墨结构（油墨材料）的堆叠设计。对比文件3仅能说明缓冲层或光学匹配层在触控感应区R1中与触控感应组件250及连接线260之间形成的位置关系，但完全没有公开缓冲层或光学匹配层进一步在周围区R2与第一遮光层230之间的位置关系。因此，在对比文件3的基础上，本领域技术人员并无法轻易获得本申请所述的整体特征结构。因此，权利要求1及其从属权利要求2-7具备创造性。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年03月12日依法受理了该复审请求，并将其转送至实质审查
部门进行前置审查。
实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019 年09 月06 日向复审请求人发出复审通知书，指出权利要求1-7相对于对比文件3、对比文件1以及本领域技术人员惯用的技术手段的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性，其中对比文件1为第一次审查意见通知书中所引用的对比文件，即：
对比文件1：CN202815771U，公开日为2013年03月20日。
复审请求人于2019 年10 月21 日提交了意见陈述书以及权利要求书全文的修改替换页。
对权利要求书的修改具体为：将权利要求1中的技术特征“一平坦层，覆盖该基板的该可视区及部分的该遮蔽区以邻接于该油墨结构，使得该光阻结构进一步覆盖部分的该平坦层”修改为“一平坦层，覆盖该基板的该可视区及仅覆盖部分的该遮蔽区，并在不覆盖该油墨结构下邻接于该油墨结构，使得该光阻结构同时覆盖该油墨结构及部分的该平坦层”。复审请求人认为：本申请修改后的权利要求1与对比文件3相比存在以下区别技术特征：一平坦层，覆盖该基板的该可视区及仅覆盖部分的该遮蔽区，并在不覆盖该油墨结构下邻接于该油墨结构，其中该平坦层在该可视区是设置于该触控感应结构与该基板之间，并且在该遮蔽区是设置于该光阻结构和该基板之间，使得该光阻结构同时覆盖该油墨结构及部分的该平坦层。对比文件1也未公开上述区别技术特征，且对比文件1虽然公开了平坦层的设计，但是并无法弥补对比文件3在对应公开本申请技术特征上的不足，本领域技术人员在对比文件3的基础上，就算结合对比文件1也无法获得本申请所要求保护的技术方案。此外，本申请具有提供平整的接触表面，提高光阻结构附着力和产品结构强度的有益效果。因此，权利要求1及其从属权利要求2-7具备创造性。
复审请求人答复复审通知书时提交的修改后的权利要求1的内容如下：
“1. 一种触控面板，其特征在于，包含：
一基板，包含一遮蔽区及一相邻于该遮蔽区的可视区；
至少一油墨结构，设置于该基板表面，并位于该遮蔽区；
一光阻结构，至少覆盖该油墨结构的上表面，并进一步覆盖该油墨结构邻近该可视区的侧面，填平该油墨结构因油墨颗粒大而形成的不平整表面，并提供相对该油墨结构较平整的表面，其中该光阻结构的材料为深色有机光阻材料，该油墨结构与该光阻结构设置于该基板上而定义形成该遮蔽区；
一触控感应结构，位于该光阻结构上，接触该光阻结构的表面；以及
一平坦层，覆盖该基板的该可视区及仅覆盖部分的该遮蔽区，并在不覆盖该油墨结构下邻接于该油墨结构，其中该平坦层在该可视区是设置于该触控感应结构与该基板之间，并且在该遮蔽区是设置于该光阻结构和该基板之间，使得该光阻结构同时覆盖该油墨结构及部分的该平坦层。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
复审请求人在答复复审通知书时提交了权利要求书的全文修改替换页。经审查，所作修改符合专利法实施细则第61条第1款及专利法第33条的规定。本复审请求审查决定依据的文本为：申请日2014年04月18日提交的说明书第1-6页、说明书摘要、摘要附图、说明书附图第1-10页；2019年10月21日提交的权利要求第1-7项。
关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案相对于作为最接近的现有技术的对比文件存在区别技术特征，其中部分区别技术特征被其他对比文件公开且所起作用相同，其余的区别技术特征属于本领域的惯用技术手段，则该项权利要求请求保护的技术方案不具备创造性。
本复审请求审查决定与复审通知书引用的对比文件相同，其中对比文件1为第一次审查意见通知书中所引用的对比文件，对比文件3为驳回决定中所引用的对比文件，即：
对比文件1：CN202815771U，公开日为2013年03月20日；
对比文件3：CN203386181U，公开日为2014年01月08日。
2.1、权利要求1要求保护一种触控面板。对比文件3（参见说明书第0004-0099段、附图1-28）公开了一种触控板201，其中：触控板201包括一盖板210（即一基板），如附图4与附图5所示，本实施例提供一触控板201具有一触控感应区R1（即可视区）与一周围区R2（即一基板，包含一遮蔽区及一相邻于该遮蔽区的可视区，参见说明书第0073段）。装饰框220（即一油墨结构）是设置在周围区R2（即遮蔽区）的盖板210的内表面210B上。装饰框220包括一第一非黑色装饰层221以及一第二非黑色装饰层222。本实施例的装饰框220可选择性地还包括第三非黑色装饰层223。第一非黑色装饰层221、第二非黑色装饰层222以及第三非黑色装饰层223可为三层相同的材料层，例如三层彩色油墨层（即至少一油墨结构，设置在该基板表面，并位于该遮蔽区，参见说明书第0073-0074段）。遮光层230（即光阻结构）是设置在装饰框220上。惟须说明的是，本实施例的第一遮光层330会延伸到装饰框220的一侧边。同时附图11中还公开了该第一遮光层330覆盖装饰框220邻近触控感应区R1的侧面（即一光阻结构，至少覆盖该油墨结构的上表面，并进一步覆盖该油墨结构邻近该可视区的侧面，参见说明书第0075、0082段、附图11）。附图4中公开了装饰框220（即油墨结构）与遮光层230（即光阻结构）设置于盖板210（即基板）上而定义形成周围区R2（即遮蔽区），即公开了该油墨结构与该光阻结构设置于该基板上而定义形成该遮蔽区。如附图6所示的实施例，其与上述第一优选实施例不同的地方在于，在触控板204中，连接线260与触控感应组件250一体成型，也就是说连接线260是触控感应组件250的一部分，该触控感应组件250还延伸至周围区R2，且触控感应组件250在周围区R2中沿装饰框220的一侧边延伸用以与导线240电连接的一部分定义为连接线260。同时附图6中还公开了与触控感应组件250一体成型的连接线260、导线240（其中触控感应组件250、连接线260、导线240共同构成一触控感应结构），位于遮光层230（即光阻结构）上（即一触控感应结构，位于该光阻结构上，接触该光阻结构的表面，参见说明书第0077段、附图6）。触控感应组件250及连接线260也不一定要直接接触内表面210B，例如内表面上210B可设置一缓冲层，或是光学匹配层（即一平坦层，覆盖该基板的该可视区，其中该平坦层在该可视区是设置于该触控感应结构与该基板之间，参见说明书第0075段）。
权利要求1与对比文件3相比，区别技术特征在于：1）光阻结构，还填平油墨结构因油墨颗粒大而形成的不平整表面，并提供相对该油墨结构较平整的表面，其中该光阻结构的材料为深色有机光阻材料；2）平坦层，仅覆盖部分的遮蔽区，并在不覆盖油墨结构下邻接于油墨结构，并且在遮蔽区是设置于光阻结构和基板之间，使得光阻结构同时覆盖油墨结构及部分的平坦层。基于上述区别技术特征，权利要求1实际解决的技术问题是如何使得接触面平整，如何提高光阻结构的附着力和产品的结构强度。
针对区别技术特征1），如前所述，对比文件3中已经公开了“遮光层230（即光阻结构）是设置在装饰框220（即一油墨结构）之上，该装饰框220例如是三层彩色油墨层”，在对比文件3公开的上述内容的基础上，本领域技术人员容易发现对比文件3也存在因油墨颗粒大而导致表面不平整的现象，即对比文件3具有引导本领域技术人员对该现象进行改进的指引，而深色有机光阻材料是本领域公知的具有较好填平效果的光阻结构的材料。因此本领域技术人员基于对比文件3公开的内容，在面对如何使得接触面平整时，结合实际情况，容易想到选择分子颗粒小的深色有机光阻材料来作为光阻结构的材料。
针对区别技术特征2），对比文件1（参见说明书第0023-0043段、附图1-6）公开了形成平坦层106后，于平坦层106上先形成黑色遮蔽层108，黑色遮蔽层108设置于非可视区100B，且对应于彩色装饰层104所在区域。因此平坦层106与黑色遮蔽层108上所形成的触控感应层110不会有断裂发生（即平坦层，覆盖遮蔽区，邻接于油墨结构，使得光阻结构覆盖部分的平坦层，参见说明书第0038-0039段、附图2B）。且上述技术特征在对比文件1中所起的作用与在权利要求1中的作用相同，即对比文件1给出了将上述技术特征应用于对比文件3以进一步解决如何提高光阻结构的附着力和产品的结构强度问题的技术启示。同时本领域技术人员在面对如何提高光阻结构附着力和产品结构强度时，基于实际设计情况，可以选择设置平坦层仅部分覆盖遮蔽区、并不覆盖油墨结构、并在遮蔽区中将平坦层设置于光阻结构和基板间、并使光阻结构还覆盖油墨结构。这属于本领域的惯用技术手段。因此在对比文件3的基础上结合对比文件1以及本领域技术人员惯用的技术手段得到权利要求1所要保护的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，权利要求1的方案不具备突出的实质性特点，不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
2.2、权利要求2在权利要求1的基础上对所述触控面板进行了限定。对比文件3（参见说明书第0075-0077段、附图6）公开了导线240、触控感应组件250与连接线260可包括透明导电材料，例如氧化铟锡、氧化铟锌与氧化铝锌。触控感应组件250可包括多个第一轴向电极250X以及多个第二轴向电极250Y互相绝缘交叉设置。各第一轴向电极250X包括多个第一感应电极X1以及多个第一连接线X2设置在触控感应区R1（即可视区）中，各第二轴向电极250Y包括多个第二感应电极Y1以及多个第二连接线Y2设置在触控感应区R1中。在触控板204中，连接线260与触控感应组件250一体成型，也就是说连接线260是触控感应组件250的一部分。附图6中还公开了连接线260延伸至遮光层230（其中触控感应组件250与连接线260共同构成一透明电极结构，即公开了触控感应结构包含：一透明电极结构，设置于基板的可视区，且部分延伸至光阻结构上）。同时附图6中还公开了导线240，设置于遮光层230上，且与连接线260连接（即多个引线，设置于光阻结构上，且电性连接于透明电极结构）。由此可见，权利要求2的附加技术特征已经被对比文件3完全公开。在权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求2也不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
2.3、权利要求3在权利要求1的基础上对所述触控面板进行了限定。对比文件3（参见说明书第0073段、附图4、6）公开了装饰框220包括一第一非黑色装饰层221（即第一油墨层），同时附图4、6均公开了第一非黑色装饰层221设置于盖板210上，且位于遮光层230（即光阻结构）与盖板210之间。由此可见，权利要求3的附加技术特征已经被对比文件3完全公开。在权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求3也不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
2.4、权利要求4在权利要求3的基础上对所述触控面板进行了限定。对比文件3（参见说明书第0073段、附图4、6）公开了装饰框220包括一第二非黑色装饰层222（即第二油墨层），同时附图4、6均公开了第二非黑色装饰层222设置于第一非黑色装饰层221上，且位于遮光层230（即光阻结构）与第一非黑色装饰层221之间。由此可见，权利要求4的附加技术特征已经被对比文件3完全公开。在权利要求3不具备创造性的前提下，权利要求4也不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
2.5、权利要求5在权利要求4的基础上对所述触控面板进行了限定。对比文件1（参见说明书第0031-0032段、附图2A）公开了彩色装饰层104的三层结构104A、104B和104C依序形成在基板102的接合面102B上。亦即彩色装饰层104的各层结构104A、104B和104C在邻近可视区的那一侧呈现梯度结构（即第二油墨层的面积小于第一油墨层，且第二油墨层是远离可视区而设置于第一油墨层上）。由此可见，权利要求5的附加技术特征已经被对比文件1完全公开。在权利要求4不具备创造性的前提下，权利要求5也不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
2.6、权利要求6在权利要求4的基础上对所述触控面板进行了限定。对比文件3（参见说明书第0073段、附图4、6）公开了第二非黑色装饰层222包围第一非黑色装饰层221。且第二非黑色装饰层222是沿着第一非黑色装饰层221邻近触控感应区R1（即可视区）的侧面向下延伸至盖板210。由此可见，权利要求6的附加技术特征已经被对比文件3完全公开。在权利要求4不具备创造性的前提下，权利要求6也不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
2.7、权利要求7在权利要求1的基础上对所述触控面板进行了限定。对比文件3（参见说明书第0074段）公开了第一非黑色装饰层221、第二非黑色装饰层222以及第三非黑色装饰层223可为三层相同的材料层例如三层彩色油墨层。由此可见，权利要求7的附加技术特征已经被对比文件3完全公开。在权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求7也不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
对复审请求人相关意见的评述
对于复审请求人答复复审通知书时陈述的意见，合议组认为：对于复审请求人在意见陈述书中所认定的权利要求1与对比文件3的区别技术特征，对比文件3已经公开了“平坦层，覆盖该基板的该可视区，其中该平坦层在该可视区是设置于该触控感应结构与该基板之间”，因此该部分特征并非权利要求1与对比文件3的区别；而对比文件1则公开了“平坦层，覆盖遮蔽区，邻接于油墨结构，使得光阻结构覆盖部分的平坦层”，具体参见对权利要求1的评述。且上述技术特征在对比文件1中所起的作用也是提供平整的接触表面，提高光阻结构附着力和产品结构强度（具体参见说明书第0039段）。因此对比文件1已经给出了与对比文件3相互结合的启示。而设置平坦层仅部分覆盖遮蔽区、并不覆盖油墨结构、在遮蔽区中将平坦层设置于光阻结构和基板间、并使光阻结构还覆盖油墨结构均是本领域技术人员根据实际设计情况，在面对如何提高光阻结构附着力和产品结构强度时，容易想到的。
综上所述，复审请求人的意见陈述不具有说服力，合议组不予支持。
基于上述事实和理由，合议组依法作出如下复审请求审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年11 月19 日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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