发明创造名称：电磁器件及其制作方法
外观设计名称：
决定号：200755
决定日：2020-01-14
委内编号：1F279515
优先权日：2012-04-24
申请（专利）号：201510943288.0
申请日：2013-04-24
复审请求人：乾坤科技股份有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：林静
合议组组长：唐向阳
参审员：王思睿
国际分类号：H01F17/04，H01F27/28
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点：如果一项权利要求请求保护的技术方案相对于最接近的现有技术存在区别技术特征，但该区别技术特征的一部分被其他现有技术公开且给出了将其结合到最接近的现有技术的技术启示，其余部分属于本领域的公知常识，则该项权利要求不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201510943288.0，名称为“电磁器件及其制作方法”的发明专利申请。申请人为乾坤科技股份有限公司。本申请的申请日为2013年04月24日，优先权日为2012年04月24日和2013年04月23日，分案申请提交日为2015年12月16日，公开日为2016年02月24日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2019年01月04日发出驳回决定，驳回了本发明专利申请，其理由是：本申请权利要求1、4、5相对于对比文件2（公开号为WO97/OO526A1，公开日为1997年01月03日）、对比文件7（公开号为CN1O2148089A，公开日为2011年08月10日）以及本领域惯用技术手段的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性；权利要求2的附加技术特征在对比文件7的基础上容易想到；权利要求3的附加技术特征被对比文件1公开；权利要求6的附加技术特征被对比文件2公开；权利要求1-6不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为：分案申请递交日2015年12月16日提交的说明书摘要、说明书第1-49段、摘要附图、说明书附图；2018年11月19日提交的权利要求第1-6项。驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种电磁组件，其特征在于，包含：
一导电结构，所述导电结构包括被至少一绝缘层所分开的多个导电层以形成一线圈，其中，所述线圈在该多个导电层上的线圈图案均为单一非封闭的线圈图案，彼此以错开的介层插塞相互连结，一贯穿孔由该导电结构的上表面经由该线圈的中空部位贯穿所述至少一绝缘层以延伸至该导电结构的下表面，其中该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一内侧表面裸露于该至少一绝缘层之外，且该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一外侧表面裸露于该至少一绝缘层之外；
成型体，包覆该导电结构及该线圈，并延伸至贯穿该至少一绝缘层的该贯穿孔中，该成型体与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该外侧表面相接触，该成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该内侧表面相接触；以及
第一电极与第二电极，其中，所述第一电极与第二电极从成型体的相对两侧面伸出，所述第一电极与该多个导电层的最上层共同形成，所述第二电极与该多个导电层的最底层共同形成。
2. 根据权利要求1所述的电磁组件，其特征在于，所述线圈是以电镀层叠技术。
3. 根据权利要求1所述的电磁组件，其特征在于，所述线圈是以层压堆叠技术制作。
4. 一种电磁组件，其特征在于，包含：
一导电结构，所述导电结构包括被至少一绝缘层所分开的多个导电层以形成一线圈，其中所述线圈在该多个导电层上的线圈图案均为单一非封闭的线圈图案，彼此以错开的介层插塞相互连结，其中一贯穿孔由该导电结构的上表面经由该线圈的中空部位贯穿该至少一绝缘层以延伸至该导电结构的下表面，其中该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一内侧表面裸露于该至少一绝缘层之外，且该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一外侧表面裸露于该至少一绝缘层之外；以及
一磁性成型体，包覆该导电结构及该线圈，并延伸至贯穿该至少一绝缘层的该贯穿孔中，该磁性成型体与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该外侧表面相接触，该磁性成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该多个导电层中 的每一导电层上的线圈图案的该内侧表面相接触，其中，所述线圈的第一端包括一第一侧边延伸段延伸至该磁性成型体的第一侧面，所述第一侧边延伸段未被该磁性成型体包覆以耦合一第一外部电极，所述线圈的第二端包括一第二侧边延伸段延伸至该磁性成型体的一第二侧面，所述第二侧边延伸段未被该磁性成型体包覆以耦合一第二外部电极，其中，所述线圈的第一端与该多个导电层的最上层共同形成，所述线圈的第二端与该多个导电层的最底层共同形成，所述第一侧面与所述第二侧面相对。
5. 一种电磁组件，其特征在于，包含：
一导电结构，所述导电结构包括被至少一绝缘层所分开的多个导电层以形成一线圈，其中，相邻的任二导电层经由至少一盲孔电性连接，其中，一贯穿孔由该导电结构的上表面经由该线圈的中空部位贯穿该至少一绝缘层以延伸至该导电结构的下表面，其中该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一内侧表面裸露于该至少一绝缘层之外，且该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一外侧表面裸露于该至少一绝缘层之外；以及
成型体，包覆该导电结构及该线圈，并延伸至贯穿该至少一绝缘层的该贯穿孔中，该成型体与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该外侧表面相接触，该成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该内侧表面相接触。
6. 根据权利要求5所述的电磁组件，其特征在于，位于一第一导电层上的该线圈的一第一部分具有两个端点，其中，该两个端点间有一狭缝，所述两个端点分别经由一盲孔电性连接至相邻于该第一导电层上方与下方的两个导电层。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年04月16日向国家知识产权局提出了复审请求，同时修改了权利要求书。复审请求人认为：对比文件2、7均未公开修改后的权利要求1的区别特征；对比文件7只有单一个导电层，完全没有绝缘层。对比文件7无法使本领域技术人员将对比文件2的贯穿孔贯穿至少一绝缘层使得多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的内侧表面与外侧表面裸露出来，以使该成型体与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该外侧表面以及该至少一绝缘层的一外侧表面相接触，该成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该内侧表面以及该至少一绝缘层一内侧表面相接触。由此，本领域技术人员无法由现有技术直接得到上述区别特征。因此，修改后的权利要求1-6具备创造性。复审请求时新修改的权利要求书如下：
1．一种电磁组件，其特征在于，包含：
一导电结构，所述导电结构包括被至少一绝缘层所分开的多个导电层以形成一线圈，其中，所述线圈在该多个导电层上的线圈图案均为单一非封闭的线圈图案，彼此以错开的介层插塞相互连结，一贯穿孔由该导电结构的上表面经由该线圈的中空部位贯穿所述至少一绝缘层以延伸至该导电结构的下表面，其中该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一内侧表面裸露于该至少一绝缘层之外，且该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一外侧表面裸露于该至少一绝缘层之外；
成型体，包覆该导电结构及该线圈，并延伸至贯穿该至少一绝缘层的该贯穿孔中，该成型体与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该外侧表面以及该至少一绝缘层的一外侧表面相接触，该成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该内侧表面以及该至少一绝缘层一内侧表面相接触； 以及
第一电极与第二电极，其中，所述第一电极与第二电极从成型体的相对两侧面伸出，所述第一电极与该多个导电层的最上层共同形成，所述第二电极与该多个导电层的最底层共同形成。
2．根据权利要求1所述的电磁组件，其特征在于，所述线圈是以电镀层叠技术。
3．根据权利要求1所述的电磁组件，其特征在于，所述线圈是以层压堆叠技术制作。
4．一种电磁组件，其特征在于，包含：
一导电结构，所述导电结构包括被至少一绝缘层所分开的多个导电层以形成一线圈，其中所述线圈在该多个导电层上的线圈图案均为单一非封闭的线圈图案，彼此以错开的介层插塞相互连结，其中一贯穿孔由该导电结构的上表面经由该线圈的中空部位贯穿该至少一绝缘层以延伸至该导电结构的下表面，其中该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一内侧表面裸露于该至少一绝缘层之外，且该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一外侧表面裸露于该至少一绝缘层之外； 以及
一磁性成型体，包覆该导电结构及该线圈，并延伸至贯穿该至少一绝缘层的该贯穿孔中，该磁性成型体与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该外侧表面以及该至少一绝缘层的一外侧表面相接触，该磁性成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该内侧表面以及该至少一绝缘层一内侧表面相接触，其中，所述线圈的第一端包括一第一侧边延伸段延伸至该磁性成型体的第一侧面，所述第一侧边延伸段未被该磁性成型体包覆以耦合一第一外部电极，所述线圈的第二端包括一第二侧边延伸段延伸至该磁性成型体的一第二侧面，所述第二侧边延伸段未被该磁性成型体包覆以耦合一第二外部电极，其中，所述线圈的第一端与该多个导电层的最上层共同形成，所述线圈的第二端与该多个导电层的最底层共同形成，所述第一侧面与所述第二侧面相对。
5．一种电磁组件，其特征在于，包含：
一导电结构，所述导电结构包括被至少一绝缘层所分开的多个导电层以形成一线圈，其中，相邻的任二导电层经由至少一盲孔电性连接，其中，一贯穿孔由该导电结构的上表面经由该线圈的中空部位贯穿该至少一绝缘层以延伸至该导电结构的下表面，其中该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一内侧表面裸露于该至少一绝缘层之外，且该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一外侧表面裸露于该至少一绝缘层之外； 以及
成型体，包覆该导电结构及该线圈，并延伸至贯穿该至少一绝缘层的该贯穿孔中，该成型体与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该外侧表面以及该至少一绝缘层一外侧表面相接触，该成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该内侧表面以及该至少一绝缘层一内侧表面相接触。
6．根据权利要求5所述的电磁组件，其特征在于，位于一第一导电层上的该线圈的一第一部分具有两个端点，其中，该两个端点间有一狭缝， 所述两个端点分别经由一盲孔电性连接至相邻于该第一导电层上方与下方的两个导电层。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年04月24日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为：对于提出复审请求时增加的区别特征，对比文件2、7虽未公开上述区别特征，但对比文件7给出了磁性材料（即成型体）延伸至该贯穿孔中的部分与导体绕组的内侧表面相接触，磁性材料与导体绕组的外侧表面相接触的技术启示，本领域技术人员在对比文件2的基础上容易想到为提高电磁组件的磁性能，应该将磁性材料填充在线圈的内孔中，使得磁性材料与线圈的内侧表面接触，以及磁性材料包覆线圈的外侧，使得磁性材料与线圈的外侧表面接触。而相邻导电图案间的绝缘层可以与线圈图案的内侧表面和外侧表面齐平，也可以比线圈图案的径向尺寸小，即绝缘层被夹于相邻线圈图案之间，且位于线圈图案内、外侧面的内侧。本领域技术人员可以根据实际所需而任选其一，而并不用付出创造性的劳动。若选择前者，更能避免相邻线圈图案间产生不必要的电连接，这是本领域技术人员根据常规的技术常识容易想到的。也就是说，将成型体/磁性成型体与至少一绝缘层的一外侧表面相接触以及成型体/磁性成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该至少一绝缘层一内侧表面相接触是本领域技术人员在此基础上根据实际所需做的进一步变形，如上所述，其效果是可以预期到的。因此，修改后的权利要求1-6仍不具备创造性。因而坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年10月09日向复审请求人发出复审通知书，指出：本申请权利要求1、4、5相对于对比文件2（公开号为WO97/OO526A1，公开日为1997年01月03日）、对比文件7（公开号为CN1O2148089A，公开日为2011年08月10日）以及本领域公知常识的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性；权利要求2的附加技术特征在对比文件7的基础上容易想到；权利要求3的附加技术特征被对比文件1公开；权利要求6的附加技术特征被对比文件2公开；权利要求1-6不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
复审请求人于2019年11月25日提交了意见陈述书，但未修改申请文件。复审请求人认为：（1）对比文件7只有单一个导电层，完全没有绝缘层。因此，对比文件2无法结合对比文件7得到修改后的权利要求1的区别技术特征“一贯穿孔由该导电结构的上表面经由该线圈的中空部位贯穿所述至少一绝缘层以延伸至该导电结构的下表面，其中该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一内侧表面裸露于该至少一绝缘层之外，且该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一外侧表面裸露于该至少一绝缘层之外；成型体，包覆该导电结构及该线圈，并延伸至贯穿该至少一绝缘层的该贯穿孔中，该成型体与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该外侧表面以及该至少一绝缘层的一外侧表面相接触，该成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该内侧表面以及该至少一绝缘层一内侧表面相接触”；（2）对本领域技术人员来说，线圈图案与外部电连接是靠线圈的端子而不是靠多个导电层中每个导电层上的线圈图案的内侧表面；对比文件7没有绝缘层，对比文件2的线圈图案的内侧表面被绝缘层包覆而没有裸露出来以与外界接触，对比文件2和7没有结合启示也没有公开上述区别特征。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
复审请求人在2019年04月16日提出复审请求时提交了权利要求第1-6项的修改替换页，答复复审通知书时未对权利要求书进行修改。经审查，上述修改符合专利法第33条和专利法实施细则第61条的规定。因此，本决定所依据的文本为：分案申请递交日2015年12月16日提交的说明书摘要、说明书第1-49段、摘要附图、说明书附图；2019年04月16日提交的权利要求第1-6项。
具体理由的阐述
专利法第22条第3款规定：发明的创造性，是指与现有技术相比，该发明有突出的实质性特点和显著的进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案相对于最接近的现有技术存在区别技术特征，但该区别技术特征的一部分被其他现有技术公开且给出了将其结合到最接近的现有技术的技术启示，其余部分属于本领域的公知常识，则该项权利要求不具备创造性。
本决定所引用的对比文件与驳回决定和复审通知书中所引用的对比文件相同，即：
对比文件2：公开号为WO97/OO526A1，公开日为1997年01月03日；
对比文件7 ：公开号为CN1O2148089A，公开日为2011年08月10日；
对比文件1 ：公开号为CN1O2376416A，公开日为2012年03月14日。
（2.1）权利要求1请求保护一种电磁组件。对比文件2公开了一种感应构件，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第5页第1段至第6页第2段及图1-5）：一种感应构件（相当于本申请的电磁组件），包括一导电元件，该导电元件包括被多个绝缘层15所分开的多个导电层10和11以形成一线圈，该线圈在多个导电层上的线圈图案均为单一非封闭的线圈图案，彼此以错开的连接件13（相当于本申请的介层插塞）相互连接；为了得到一个特别平坦的几何形状，各导电眼孔的内部空间用另一绝缘层18填充，把一种绝缘糊刷在导电层10和11上，使它同时填满导电层10和11中的全部空旷的空间，并且还另外形成一个在较高处的绝缘层15；一通过孔19（相当于本申请的贯穿孔）穿过导体眼孔的内部空间，由该导电元件的上表面经由该线圈内侧的绝缘层的中空部位贯穿多个绝缘层以延伸至该导电元件的下表面。成型体，部分包覆导电元件和该线圈； 以及一端子元件12和另一端子元件14（相当于本申请的第一电极和第二电极）形成在成型体中，上述两端子元件的端面外露。一端子元件14与该多个导电层的最上层共同形成，一端子元件12与该多个导电层的最底层共同形成。
该权利要求所要求保护的技术方案与该对比文件所公开的技术内容相比，其区别特征在于：（1）多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一内侧表面、一外侧表面均裸露于该至少一绝缘层之外；（2）成型体与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该外侧表面以及该至少一绝缘层的一外侧表面相接触，该成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该内侧表面以及该至少一绝缘层的一内侧表面相接触；（3）第一电极与第二电极从成型体的相对两侧面伸出。
基于该区别技术特征可以确定，权利要求1相对于该对比文件实际要解决的技术问题均是提高电磁组件的磁性能并实现其与外部部件或电路电连接。
针对区别特征（1），在对比文件2已经公开了多个绝缘层分隔多个导电层形成一线圈的技术内容的基础上，本领域技术人员容易想到为了实现线圈与外部的电连接而将每一导电层上的线圈图案的一内侧表面、一外侧表面均裸露于至少一绝缘层之外。
针对区别特征（2），对比文件7公开了一种用于集成电感器的系统，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第0012段至第0016段、第0037段、第0044段及图1、6a-6e、11b）：图1示出根据本发明实施例的电感器100。电感器100在基板102的顶部上由导体绕组104制成。磁性材料108（相当于本申请的成型体）包围导体绕组104来提供闭合磁环110。提供衬垫（pad）106来产生到导体绕组104的电连接。也就是说，对比文件7给出了磁性材料（即成型体）延伸至该贯穿孔中的部分与导体绕组的内侧表面相接触，磁性材料与导体绕组的外侧表面相接触的技术启示。再结合对比文件2已经公开的多个绝缘层分隔多个导电层形成一线圈的技术内容，本领域技术人员容易想到成形体包覆线圈结构时使得成型体与每一导电层上的线圈图案的内外侧表面以及绝缘层的内外侧表面均相接触，以提高电磁组件的磁性能。
针对区别特征（3），对比文件2中公开了一端子元件12和另一端子元件14成一定角度伸出，在此基础上将第一电极与第二电极从成型体的相对两侧面伸出也是本领域技术人员根据元件结构及其连接关系可以进行的常规位置选择，属于本领域的公知常识。
由此，在对比文件2的基础上结合对比文件7和本领域的公知常识以获得该权利要求所要求保护的技术方案，对本领域的技术人员来说是显而易见的。因此，权利要求1所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（2.2）权利要求2引用权利要求1，其附加技术特征对形成线圈单元的工艺作了进一步限定。对比文件7也公开了以下技术特征（参见说明书第0012段至第0016段、第0037段、第0044段及图1、6、6e、11b）：导体线路104首先被提供在基板102上。通过使用物理汽相沉积（PVD）工艺，之后通过构图和蚀刻来提供导体线路104。可替换地，可以使用在PVD之后是剥离、电镀、印刷、或本领域中已知的其它技术。由此可知，将导体线圈以电镀层叠技术形成是本领域技术人员在此基础上容易想到且能简单实施的。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，上述从属权利要求所要求保护的技术方案也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（2.3）权利要求3引用权利要求1，其附加技术特征对形成线圈单元的工艺作了进一步限定。对比文件1公开了一种线圈元件，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第0057段至第0063段、第0066段至第0072段及图3-4、6-8）：线圈单元采用层压堆叠技术形成。可见，该附件技术特征已被对比文件1公开，且其在对比文件1中所起的作用与在本申请中所起的作用相同，都是制备实际所需的线圈以用于电磁组件中。由此，在对比文件2的基础上结合对比文件7、对比文件1和本领域的惯用技术手段以获得该权利要求所要求保护的技术方案，对本领域的技术人员来说是显而易见的。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，上述从属权利要求所要求保护的技术方案也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（2.4）权利要求4请求保护一种电磁组件。对比文件2公开了一种感应构件，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第5页第1段至第6页第2段及图1-5）：一种感应构件（相当于本申请的电磁组件），包括一导电元件，该导电元件包括被多个绝缘层15所分开的多个导电层10和11以形成一线圈，该线圈在多个导电层上的线圈图案均为单一非封闭的线圈图案，彼此以错开的连接件13（相当于本申请的介层插塞）相互连接；为了得到一个特别平坦的几何形状，各导电眼孔的内部空间用另一绝缘层18填充，把一种绝缘糊刷在导电层10和11上，使它同时填满导电层10和11中的全部空旷的空间，并且还另外形成一个在较高处的绝缘层15；一通过孔19（相当于本申请的贯穿孔）穿过导体眼孔的内部空间，由该导电元件的上表面经由该线圈内侧的绝缘层的中空部位贯穿多个绝缘层以延伸至该导电元件的下表面。成型体，部分包覆导电元件和该线圈； 以及一端子元件12和另一端子元件14（相当于本申请的第一电极和第二电极）形成在成型体中，上述两端子元件的端面外露。一端子元件14与该多个导电层的最上层共同形成，一端子元件12与该多个导电层的最底层共同形成。
该权利要求所要求保护的技术方案与该对比文件所公开的技术内容相比，其区别特征在于：（1）多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一内侧表面、一外侧表面均裸露于该至少一绝缘层之外；（2）磁性成型体与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该外侧表面以及该至少一绝缘层的一外侧表面相接触，该成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该内侧表面以及该至少一绝缘层的一内侧表面相接触；（3）线圈的第一端与该多个导电层的最上层共同形成，所述线圈的第二端与该多个导电层的最底层共同形成，所述第一侧面与所述第二侧面相对。
基于该区别技术特征可以确定，权利要求4相对于该对比文件实际要解决的技术问题均是提高电磁组件的磁性能并实现其与外部部件或电路电连接。
针对区别特征（1），在对比文件2已经公开了多个绝缘层分隔多个导电层形成一线圈的技术内容的基础上，本领域技术人员容易想到为了实现线圈与外部的电连接而将每一导电层上的线圈图案的一内侧表面、一外侧表面均裸露于至少一绝缘层之外。
针对区别特征（2），对比文件7公开了一种用于集成电感器的系统，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第0012段至第0016段、第0037段、第0044段及图1、6a-6e、11b）：图1示出根据本发明实施例的电感器100。电感器100在基板102的顶部上由导体绕组104制成。磁性材料108（相当于本申请的磁性成型体）包围导体绕组104来提供闭合磁环110。提供衬垫（pad）106来产生到导体绕组104的电连接。也就是说，对比文件7给出了磁性材料（即磁性成型体）延伸至该贯穿孔中的部分与导体绕组的内侧表面相接触，磁性材料与导体绕组的外侧表面相接触的技术启示。再结合对比文件2已经公开的多个绝缘层分隔多个导电层形成一线圈的技术内容，本领域技术人员容易想到成形体包覆线圈结构时使得成型体与每一导电层上的线圈图案的内外侧表面以及绝缘层的内外侧表面均相接触，以提高电磁组件的磁性能。
针对区别特征（3），对比文件2中公开了一端子元件12和另一端子元件14成一定角度伸出，在此基础上将第一电极与第二电极从成型体的相对两侧面伸出也是本领域技术人员根据元件结构及其连接关系可以进行的常规位置选择，属于本领域的公知常识。此外，本领域技术人员周知，端子元件是线圈元件的引出端，线圈的一端与多个导电层的最上层或最底层共同形成以实现线圈元件与外部电路的电连接，是线圈元件的引出端的常见引出方式，并没有带来预料不到的技术效果，属于本领域的公知常识。
由此，在对比文件2的基础上结合对比文件7和本领域的公知常识以获得该权利要求所要求保护的技术方案，对本领域的技术人员来说是显而易见的。因此，权利要求4所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（2.5）权利要求5请求保护一种电磁组件。对比文件2公开了一种感应构件，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第5页第1段至第6页第2段及图1-5）：一种感应构件（相当于本申请的电磁组件），包括一导电元件，该导电元件包括被多个绝缘层15所分开的多个导电层10和11以形成一线圈，该线圈在多个导电层上的线圈图案均为单一非封闭的线圈图案，彼此以错开的连接件13（相当于本申请的介层插塞）相互连接；为了得到一个特别平坦的几何形状，各导电眼孔的内部空间用另一绝缘层18填充，把一种绝缘糊刷在导电层10和11上，使它同时填满导电层10和11中的全部空旷的空间，并且还另外形成一个在较高处的绝缘层15；一通过孔19（相当于本申请的贯穿孔）穿过导体眼孔的内部空间，由该导电元件的上表面经由该线圈内侧的绝缘层的中空部位贯穿多个绝缘层以延伸至该导电元件的下表面。成型体，部分包覆导电元件和该线圈； 以及一端子元件12和另一端子元件14（相当于本申请的第一电极和第二电极）形成在成型体中，上述两端子元件的端面外露。一端子元件14与该多个导电层的最上层共同形成，一端子元件12与该多个导电层的最底层共同形成。对比文件2公开了绝缘层15中具有容纳连接件13的开口16，该开口的上下端均为上层导电层和下层导电层阻挡，实质上相当于公开了本申请中“相邻的任二导电层经由至少一盲孔电性连接”的技术特征。
该权利要求所要求保护的技术方案与该对比文件所公开的技术内容相比，其区别特征在于：（1）多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的一内侧表面、一外侧表面均裸露于该至少一绝缘层之外；（2）成型体与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该外侧表面以及该至少一绝缘层的一外侧表面相接触，该成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该多个导电层中的每一导电层上的线圈图案的该内侧表面以及该至少一绝缘层的一内侧表面相接触。
基于该区别技术特征可以确定，权利要求5相对于该对比文件实际要解决的技术问题均是提高电磁组件的磁性能并实现其与外部部件或电路电连接。
针对区别特征（1），在对比文件2已经公开了多个绝缘层分隔多个导电层形成一线圈的技术内容的基础上，本领域技术人员容易想到为了实现线圈与外部的电连接而将每一导电层上的线圈图案的一内侧表面、一外侧表面均裸露于至少一绝缘层之外。
针对区别特征（2），对比文件7公开了一种用于集成电感器的系统，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第0012段至第0016段、第0037段、第0044段及图1、6a-6e、11b）：图1示出根据本发明实施例的电感器100。电感器100在基板102的顶部上由导体绕组104制成。磁性材料108（相当于本申请的磁性成型体）包围导体绕组104来提供闭合磁环110。提供衬垫（pad）106来产生到导体绕组104的电连接。也就是说，对比文件7给出了磁性材料（即磁性成型体）延伸至该贯穿孔中的部分与导体绕组的内侧表面相接触，磁性材料与导体绕组的外侧表面相接触的技术启示。再结合对比文件2已经公开的多个绝缘层分隔多个导电层形成一线圈的技术内容，本领域技术人员容易想到成形体包覆线圈结构时使得成型体与每一导电层上的线圈图案的内外侧表面以及绝缘层的内外侧表面均相接触，以提高电磁组件的磁性能。
由此，在对比文件2的基础上结合对比文件7和本领域的公知常识以获得该权利要求所要求保护的技术方案，对本领域的技术人员来说是显而易见的。因此，权利要求5所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（2.6）权利要求6引用权利要求5，其附加技术特征对如何连接上下两导电层作了进一步限定。对比文件2也公开了以下技术特征（参见说明书第0037段至第0045段及图1-10）：位于导电层上的线圈具有两个端点，两个端点间有一狭缝，两个端点分别与两导电层之间的绝缘层中设置的开口16中容纳连接件13电性连接至相邻于该导电层上方与下方的两个导电层。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，上述从属权利要求所要求保护的技术方案也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对复审请求人相关意见的评述
针对复审请求人答复复审通知书的上述意见，合议组认为：
（1）对比文件2、7虽未公开技术特征“该成型体/磁性成型体与该至少一绝缘层的一外侧表面相接触”和“该成型体/磁性成型体延伸至该贯穿孔中的部分与该至少一绝缘层一内侧表面相接触”，但对比文件7给出了磁性材料（即成型体）延伸至该贯穿孔中的部分与导体绕组的内侧表面相接触，磁性材料与导体绕组的外侧表面相接触的技术启示，本领域技术人员在对比文件2的基础上容易想到为提高电磁组件的磁性能，应该将磁性材料填充在线圈的内孔中，使得磁性材料与线圈的内侧表面接触，以及磁性材料包覆线圈的外侧，使得磁性材料与线圈的外侧表面接触。
（2）对比文件7文字上虽然没有记载有关“绝缘层”的技术特征，但对于电子元件来说，除了电连接部分的其他部分对外绝缘是普遍的技术需求；并且，对比文件2已经公开了“导电元件包括被多个绝缘层15所分开的多个导电层10和11以形成一线圈”，即对比文件2公开了“绝缘层”的技术特征；此外，根据本领域的技术常识，本专利中的线圈图案的内外侧表面裸露于绝缘层之外，其裸露部分必然是为了形成与外部直接或间接的电连接，该区别特征属于本领域的公知常识。复审请求人的上述理由不成立。
综上，本申请权利要求1-6不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
基于上述理由，合议组作出如下决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2019年01月04日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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