发明创造名称：真空管道安装支架的利用方法
外观设计名称：
决定号：200470
决定日：2020-01-10
委内编号：1F270021
优先权日：
申请（专利）号：201410390830.X
申请日：2014-08-11
复审请求人：林博强
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：纪海燕
合议组组长：轩云龙
参审员：马稚懿
国际分类号：F16L3/00（2006.01）
外观设计分类号：
法律依据：专利法第33条
决定要点
：申请人对申请文件进行修改时增加了技术内容，如果增加的内容没有在原始说明书和权利要求书中记载，且也不能由原始说明书和权利要求书记载的信息中直接地毫无疑义地确定得出，则修改超出了原始说明书和权利要求书记载的范围。
全文：
本复审请求涉及申请号为201410390830.X，名称为“真空管道安装支架的利用方法”的发明专利申请。申请人为林博强。本申请的申请日为2014年08月11日，公开日为2015年01月21日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年10月08日发出驳回决定，驳回了本发明专利申请（下称本申请），其理由是：权利要求1-5不符合专利法第22条第3款的规定。驳回决定所依据的审查文本为：申请日提交的说明书附图图1（第1页）、说明书摘要及摘要附图；2018年1月26日提交的说明书第1-12段（第1-2页）以及2018年8月30日提交的权利要求第1-5项 。
驳回决定的驳回理由中引用了如下对比文件：
对比文件2：CN102368475A，公开日期为2012年03月07日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种真空管道安装支架的利用方法，属于半导体芯片和光伏太阳能电池板的制造领域，适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所，设置于真空泵(1)周围的真空管道安装支架(2)，将真空泵(1)的进气和排气管道安装到真空管道安装支架(2)内侧或外侧，其特征在于：在真空管道安装支架(2)的前、后两侧，安装其它的动力管道及相应的管件。
2. 根据权利要求1所述的真空管道安装支架的利用方法，其特征在于：所述动力管道可以是循环冷却水管道、氮气管道和压缩空气管道。
3. 根据权利要求1、2所述的真空管道安装支架的利用方法，其特征在于：在真空泵(1)的左右两侧并排放置多台真空泵，真空管道安装支架一并考虑时，动力管道的安装也要整体进行考虑。
4. 根据权利要求3所述的真空管道安装支架的利用方法，其特征在于：在真空管道安装支架(2)还有位置的情况下，可以将真空泵的开关箱安装到真空管道安装支架(2)上。
5. 根据权利要求4所述的真空管道安装支架的利用方法，不仅局限于半导体芯片的制造过程和光伏太阳能电池板的制造过程，在其它应用到此类真空泵的领域同样适用。”
驳回决定指出：权利要求1包含2个技术方案，其中技术方案A与对比文件2的区别技术特征是：适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所；真空泵的进气、排气管道安装在真空管道安装支架的外侧，在真空管道安装支架的后侧，安装其它的动力管道及相应的管件；技术方案B与对比文件2的区别技术特征是：适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所，在真空管道安装支架的后侧，安装其它的动力管道及相应的管件。上述区别技术特征均为本领域的公知常识。因此，在对比文件2的基础上结合本领域的公知常识进而得到权利要求1的技术方案，对于本领域的技术人员而言是显而易见的，权利要求1不具备创造性。从属权利要求2-4中的部分附加技术特征被对比文件2公开，其余技术特征均为本领域的常规技术手段，从属权利要求5的附加技术特征为本领域的公知常识，因此，在独立权利要求1不具备创造性的基础上，其从属权利要求2-5也不具备创造性。针对申请人的意见陈述，进一步指出对比文件2公开了本申请的真空管道安装支架，在支架前侧安装氮气管道作为其它的动力管道及相应的管件，同时给出了可以在支架前侧设置相应的动力管道和管件的技术启示。在此基础上在支架上安装其它的动力管道及相应的管件，以达到节约空间的效果，是本领域技术人员容易想到的；根据需要将真空泵的进、排气管道安装在支架内侧或外侧是本领域技术人员的常规设置。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服,于2018年12月27日向国家知识产权局提出了复审请求，未对申请文件进行修改。复审请求人认为：对比文件2中，主支架设置于分子泵周围，在主支架的前侧安装副支架，副支架上有预真空腔、检漏仪，主支架上安装有通气系统，通气系统通过与刻蚀腔连接的进气管道向刻蚀腔中通刻蚀气体、通气系统通过与预真空腔的进气管道向预真空腔冲入氮气，使得预真空腔的气压达到大气压；所述预真空腔与刻蚀腔之间、所述前级泵与分子泵之间、所述分子泵与刻蚀腔之间、机械泵与刻蚀腔之间、所述机械泵与预真空腔之间均安装有阀门，所述阀门均与控制其开关的气动阀控制器连；而本申请中，真空管道的安装支架设置在真空泵的周围，将真空管道安装在支架上，在真空管道安装支架的前、后两侧，安装其它的动力管道及相应阀门；因此，对比文件2公开的上述结构不能相当于本申请的真空管道安装支架，在真空管道安装支架的前侧，安装其它的动力管道及相应的管件。基于上述区别技术特征，权利要求1的技术方案更有效地利用真空管道安装支架，将真空泵的进气管道和排气管道安装到真空管道安装支架的内侧，使安装支架的前、后两侧的外侧用来安装其它动力管道，最大限度地利用真空管道安装支架，节约了有限的空间和施工工作，同时也节约了费用，尤其适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所，具有突出的实质性特点和显著的进步。因此，权利要求1及其从属权利要求2-5具备创造性。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年01月07日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为，对比文件2中的真空泵也是用于半导体制造工艺，根据对比文件2的图2可以确定分子泵的进排气管道设置在主支架的内侧，通过支撑板固定在主支架3内侧，虽然距离近，但是为了提高管件的稳定性，也需要对其进行支撑，因此，从权利要求1文字所记载的内容，对比文件2公开了真空管道安装支架；权利要求1中并没有具体的限定其它的动力管道及相应管件的具体结构以及安装方法，权利要求2中具体限定了动力管道可以是循环冷却水管道、氮气管道和压缩空气管道；对比文件2中公开了在主支架3的前侧，安装副支架4，副支架4上有预真空腔2、检漏仪，主支架3上安装有通气系统，所述预真空腔与刻蚀腔之间、所述前级泵与分子泵之间、所述分子泵与刻蚀腔之间、所述机械泵与刻蚀腔之间、所述机械泵与预真空腔之间均安装有阀门，所述阀门均与控制其开关的气动阀控制器连接。通气系统向预真空腔通入氮气，即包括氮气管道，属于其它的动力管道，阀门等属于相应的管件，结合对比文件2的说明书附图2也可以直接地、毫无疑义地确定，支架前侧也安装了诸如弯头、法兰、管接头等管件，由此可见，对比文件2公开了在支架的前侧，安装氮气管道作为其它的动力管道及相应的管件，即同时给出了可以在支架前侧设置相应的动力管道和管件的技术启示。因此，在对比文件2已经安装了上述动力管道和管件的基础上，本领域技术人员也容易想到，根据具体的需要安装其他的动力管道及相应的管件，以达到节约空间的效果。因此，申请人的意见陈述不具备说服力，因而坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年09月17日向复审请求人发出复审通知书，指出：复审请求人于2018年8月30日提交的权利要求1中增加了技术特征“适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”，上述技术方案排除了“制造设备的主机台不需要外接真空泵的场所”的情形，修改后的权利要求1所要求保护的技术方案既未明确地记载在原说明书和权利要求书中，本领域技术人员根据原说明书和权利要求书文字记载的内容以及说明书附图也不能够直接地、毫无疑义地确定上述内容，因此，权利要求1的修改不符合专利法第33条的规定。并假设复审请求人为克服上述修改超范围问题，而采用将权利要求1中“适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”这一技术特征删除，形成新的权利要求1。该新的权利要求1与对比文件2的区别技术特征是：1）本申请属于半导体芯片和光伏太阳能电池板的制造领域；2）本申请为一种真空管道支架的利用方法，真空泵的进气管道和排气管道安装到真空管道安装支架的内侧或外侧，其他的动力管道及相应的管件安装在真空管道安装支架的前、后两侧。对比文件2中记载了ICP刻蚀技术广泛应用于微电子、LED及光伏领域，在此基础上，本领域技术人员容易想到采用将对比文件2公开的刻蚀装置应用在半导体芯片和光伏太阳能电池板的制造领域；在对比文件2公开的支架的利用方法的基础上，为便于真空泵的进气和排气管道在使用过程中减少振动、增加其稳定性，而采用将真空泵的进气和排气管道安装到主支架的内侧或外侧，进而形成一种真空泵管道安装支架的利用方法，在对比文件2公开了通气系统7安装于主支架3的上部的基础上，结合实际工况中设备的具体布局，为便于其它动力管道的安装及布局，而将其它动力管道的布置位置进行调整而将其它的动力管道及相应的管件安装在真空管道安装支架的前、后两侧，这均为本领域的常用技术手段，由此可知，权利要求1相对于对比文件2及本领域常规技术手段的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-4中的部分附加技术特征被对比文件2公开，其余技术特征均为本领域的常规技术手段，从属权利要求5的附加技术特征为本领域的公知常识，因此，在独立权利要求1不具备创造性的基础上，从属权利要求2-5也不具备创造性。关于复审请求人的意见陈述，合议组认为根据对比文件2的图1-2可以确定分子泵的进气和排气管道设置在主支架的内侧，虽然距离近，但是为了提高管道在使用过程中的稳定性，而采用将进气和排气管道安装到主支架上，是本领域的常用技术手段，结合真空泵与支架的具体设置结构，为便于设备的维护、检修等，而采用将进气和排气管道安装在支架的内侧或外侧，属于本领域的常规选择；根据对比文件2说明书第0031段记载的内容：刻蚀腔和预真空腔上均连接有进气管道，所述进气管道与控制其通气的通气系统7连接；通气系统7通过与刻蚀腔连接的进气管道向刻蚀腔中通刻蚀气体；通气系统通过与预真空腔的进气管道向预真空腔充入氮气；由此可以确定与通气系统7相连的管道除进气管道外还应有输送气体的管道，且与通气系统7相连通的输送气体的管道相当于本申请的其它动力管道，通气系统7相当于本申请的动力管道相应的管件；根据对比文件2的图1-2可以确定通气系统7安装在主支架3的上部，在此基础上，结合实际工况中设备的具体布局，为便于动力管道的布置及提高动力管道的稳定性，而采用将动力管道的布管位置进行调整进而将其它的动力管道及相应的管件安装在管道安装支架的前、后两侧，这是本领域技术人员容易想到的，进而实现节约有限的空间、节约费用的技术效果也是本领域技术人员可以预期的。因此，权利要求1不具备创造性。
针对上述复审通知书复审请求人于2019年10月15日提交了意见陈述书，未对申请文件进行修改。复审请求人认为：1）根据说明书第[0002]段记载的内容，本领域技术人员可以认为：权利要求1中修改符合专利法第33条的规定；2）对比文件2仅公开了权利要求1的部分技术特征，其余技术特征能够为权利要求1带来有益的技术效果，权利要求1相对于对比文件2和本领域的公知常识的结合是非显而意见的，因此，独立权利要求1及其从属权利要求2-5具备创造性。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
复审请求人于复审阶段未对申请文件进行修改，因此，本复审决定所针对的文本与驳回决定针对的文本相同，即：申请日提交的说明书附图图1（第1页）、说明书摘要及摘要附图；2018年1月26日提交的说明书第1-12段（第1-2页）以及2018年8月30日提交的权利要求第1-5项 。
2、关于专利法第33条
专利法第33条规定：申请人可以对其专利申请文件进行修改，但是，对发明和实用新型专利申请文件的修改不得超出原说明书和权利要求书记载的范围。
如果修改后的权利要求既没有在原说明书和权利要求书中记载，也不能够从原始说明书和权利要求书所记载的内容直接、毫无疑义地确定，则修改超范围，不符合专利法第33条的规定。
复审请求人于2018年8月30日提交的权利要求1中记载了如下内容“适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”，使得权利要求1限定的技术方案排除了“制造设备的主机台不需要外接真空泵的场所”的情形，上述技术特征并未明确记载在原说明书和权利要求书中，同时，原说明书第[0002]段中相应的记载为“机台的真空泵大多安装在机台的下一层，即下夹层”，可见真空泵的安装场所并不必然为制造设备的主机台需要外接真空泵的场所，本领域技术人员根据原说明书和权利要求书文字记载的内容以及说明书附图也不能够直接地、毫无疑义地得到包含上述技术特征的技术方案，因此，权利要求1的修改超出了原说明书和权利要求书记载的范围，不符合专利法第33条的规定。
3、对复审请求人相关意见的答复
复审请求人认为：根据说明书第[0002]段记载的“在半导体芯片和硅基光伏太阳能电池的制造过程中，有多道工序需要在真空条件下进行，如半导体芯片制造中的刻蚀、CVD、注入等工序，需要使用较多台的真空泵，有时一部机台就要使用两至四台的真空泵。为了节约有限的洁净空间，机台的真空泵大多安装在机台的下一层，即下夹层”。本领域技术人员可以认为：权利要求1中的技术特征“适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”的存在。
对此，合议组认为：原说明书和权利要求书中并未明确记载本申请的真空管道安装支架应用的场所为“制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”，说明书第[0002]段中记载的上述内容中“机台的真空泵大多安装在机台的下一层”，由此仅能得到机台与真空泵的空间位置，不能确定真空泵是外接于机台的，因而并不能够直接地、毫无疑义地确定本申请的真空管道安装支架应用的场所为“制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”。本领域技术人员根据原说明书和权利要求书文字记载的内容以及说明书附图也不能够直接地、毫无疑义地确定本申请的真空管道安装支架的适用场所为“适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”。
据此，合议组对复审请求人的意见陈述不予支持。
根据以上事实和理由，本案合议组依法作出以下审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年10月8日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,复审请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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