发明创造名称：用于电子装置的热加工的设备和技术
外观设计名称：
决定号：200816
决定日：2020-01-08
委内编号：1F265833
优先权日：2013-12-26、2013-12-27、2014-01-21、2014-02-26、2014-03-04、2014-04-30、2014-05-23
申请（专利）号：201480071004.7
申请日：2014-12-23
复审请求人：科迪华公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：杨燕
合议组组长：赵致民
参审员：周文娟
国际分类号：H01L51/56，H01L51/50，H01L51/00
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点：如果一项权利要求与作为最接近的现有技术的对比文件相比存在区别技术特征，其中部分区别技术特征被其他对比文件公开且作用相同，其余区别技术特征属于本领域的公知常识，并且将上述对比文件与本领域的公知常识相结合得出该权利要求所要保护的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，则该项权利要求不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201480071004.7，名称为“用于电子装置的热加工的设备和技术”的PCT发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为科迪华公司，申请日为2014年12月23日，优先权日为2013年12月26日、2013年12月27日、2014年01月21日、2014年02月26日、2014年03月04日、2014年04月30日、2014年05月23日，进入中国国家阶段日为2016年06月24日，公开日为2016年08月24日。
经实质审查，国家知识产权局实质审查部门于2018年08月13日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-35不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为： 2016年06月24日进入中国国家阶段时提交的国际申请文件的中文译文的说明书摘要、摘要附图、说明书附图第1-32页；2016年06月24日按照条约28或41条修改的说明书第1-51页；2018年04月08日提交的权利要求第1-35项。
驳回决定所针对的权利要求书内容如下：
“1. 一种电子装置制造系统，其包括：
打印系统，其配置成在衬底上形成图案化有机层，所述图案化有机层包括制造于所述衬底上的发光装置的至少一部分，所述打印系统位于能够保持第一处理环境的封闭件中，所述第一处理环境具有低于第一指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量和臭氧含量；
热加工模块，其包括容置堆叠构型的热控区域的室，每个热控区域配置成容纳衬底，所述热加工模块能够在所述室中保持第二处理环境，所述第二处理环境具有低于第二指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量；
温度控制器，所述温度控制器操作性地联接以独立地控制至少两个热控区域的温度；以及
衬底转移模块，其配置成从所述打印系统接收所述衬底，并配置成将所述衬底提供到所述热加工模块的室内的所述第二处理环境。
2. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其包括衬底冷却模块，所述衬底冷却模块包括容置各自配置成容纳所述衬底的一个或更多个衬底固持区域的室，所述衬底冷却模块配置成固持所述衬底，直到所述衬底低于指定的阈值温度；
其中，所述衬底冷却模块能够保持第三处理环境，所述第三处理环境具有低于第三指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量。
3. 根据权利要求2所述的电子装置制造系统，其中，所述衬底转移模块配置成从所述热加工模块的室内的所述第二处理环境接收所述衬底，并配置成将所述衬底提供到衬底冷却模块的室内的所述第三处理环境。
4. 根据权利要求2所述的电子装置制造系统，还包括气体控制器，气体控制器保持第三处理环境的氧气含量的水平至少是所述第一处理环境的氧气含量的水平的100分之一。
5. 根据权利要求2所述的电子装置制造系统，其中，所述指定的阈值温度是100℃。
6. 根据权利要求2所述的电子装置制造系统，其中，所述衬底冷却模块的室容置呈堆叠构型的多个衬底冷却区域，每个冷却区域彼此偏移。
7. 根据权利要求2所述的电子装置制造系统，其中，所述第二处理环境和所述第三处理环境大致是相同的。
8. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，还包括借助于清洁干燥空气提供第一处理环境的气体控制器，清洁干燥空气被控制成水含量维持在100 ppm以下且臭氧含量维持在100 ppm以下。
9. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，还包括借助于经净化的非反应性气体提供所述第二处理环境的气体控制器，指定用于与沉积于所述衬底上的种类进行最小程度的反应或不反应。
10. 根据权利要求9所述的电子装置制造系统，还包括借助于高于气氛压力的氮气提供所述第二处理环境的气体控制器。
11. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，还包括建立所述第二处理环境的气体控制器，所述第二处理环境具有小于百万分之1000的氧气、小于百万分之100的水蒸气和小于百万分之100的臭氧。
12. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，还包括建立所述第一处理环境的气体控制器，所述第一处理环境具有超过百万分之1000的氧气含量。
13. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其包括第一操纵装置，所述第一操纵装置配置成从所述打印系统转移所述衬底。
14. 根据权利要求13所述的电子装置制造系统，其包括位于与所述第一操纵装置所位于的环境不同的环境中的第二操纵装置，所述第二操纵装置配置成将所述衬底转移到所述热加工模块。
15. 根据权利要求14所述的电子装置制造系统，其中，所述第二操纵装置配置成将所述衬底放置于所述热控区域中的指定的一者中。
16. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述衬底转移模块包括与所述打印系统和热加工模块的室分开的至少一个室。
17. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述打印系统是封闭的；以及
其中，所述衬底转移模块位于封闭的打印系统与热加工模块的室之间。
18. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述热加工模块的室配置成使用可移动工作台来提供通达各个不同的热控区域以进行衬底装载和卸载，所述可移动工作台配置来沿至少一个轴线移动所述热控区域。
19. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述打印系统包括喷墨打印系统。
20. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述衬底转移模块包括配置成从所述第一处理环境接收衬底并将衬底提供到所述第二处理环境的封闭的内部模块。
21. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，还包括建立第二处理环境的气体控制器，其中，所述衬底转移模块配置来在所述第二处理环境的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量在所述热加工模块的室内通过气体控制器维持在第二指定限制以下时将所述衬底从所述打印系统转移到所述热加工模块的室。
22. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述衬底转移模块配置成将所述衬底提供到所述热加工模块的室，所述热加工模块具有处于或高于气氛压力的环境，而不使所述热加工模块的室内的氧气含量升高到大于百万分之10的水平。
23. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其包括衬底操纵装置，所述衬底操纵装置配置成在所述热加工模块的室内移动所述衬底。
24. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述温度控制器配置成独立地控制每个热控区域的温度，从而保持指定的衬底温度。
25. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述温度控制器配置成独立地控制每个热控区域的温度，从而保持指定的衬底温度均匀性。
26. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其包括干燥模块，所述干燥模块配置成在形成所述图案化有机层之后接收所述衬底，并且配置来干燥所述图案化有机层。
27. 根据权利要求26所述的电子装置制造系统，其中，所述干燥模块配置来进行至少部分地排空或净化所述干燥模块内的气氛中的一项或更多项以有助于干燥操作。
28. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，还包括建立所述第二处理环境的气体控制器，所述第二处理环境具有小于百万分之10的氧气含量。
29. 一种电子装置制造系统，其包括：
两个或更多个打印系统，每个打印系统配置成将图案化有机层形成于衬底上，所述图案化有机层包括制造于所述衬底上的发光装置的至少一部分，所述两个或更多个打印系统位于能够保持第一处理环境的封闭件中，所述第一处理环境具有低于第一指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量和臭氧含量；
热加工模块，其包括容置堆叠构型的热控区域的室，每个热控区域配置成容纳衬底，所述热加工模块能够保持第二处理环境，所述第二处理环境具有低于第二指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量；
温度控制器，所述温度控制器操作性地联接以独立地控制至少两个热控区域的温度；以及
衬底转移模块，其配置成从所述两个或更多个打印系统中的任一个接收所述衬底，并配置成将所述衬底提供到所述热加工模块的室内的所述第二处理环境。
30. 根据权利要求29所述的电子装置制造系统，其中，所述两个或更多个打印系统中的每个配置成将不同的图案化有机层形成于所述衬底上；以及
其中，所述热加工模块配置成在形成所述不同的图案化有机层的过程之间或之后将热加工提供到所述衬底。
31. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述温度控制器配置成独立地控制每个热控区域的温度。
32. 根据权利要求31所述的电子装置制造系统，其中，所述温度控制器配置成独立地控制每个热控区域的温度，从而保持不同的指定的衬底温度或不同的指定的衬底温度均匀性。
33. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，还包括分别与至少两个热控区域相关联的至少两个加热装置，且其中，所述温度控制器配置成独立地控制所述至少两个加热装置，从而独立地控制至少两个热控区域的温度。
34. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，还包括气体控制器，以保持所述第一处理环境的氧气含量的水平是所述第二处理环境的氧气含量的水平的至少100倍。
35. 根据权利要求29所述的电子装置制造系统，还包括气体控制器，以保持所述第一处理环境的氧气含量的水平是所述第二处理环境的氧气含量的水平的至少100倍。”
驳回决定引用了以下对比文件：
对比文件1：US2008273072A1，公开日为2008年11月06日；
对比文件2：JP2011129275A，公开日为2011年06月30日；
对比文件3：US7258768B2，授权公告日为2007年08月21日；
对比文件4：US5788447A，授权公告日为1998年08月04日；
对比文件5：US2012326139A1，公开日为2012年12月27日。
驳回决定中指出：i）独立权利要求1、29与对比文件1的区别技术特征是：（1）第一处理环境具有低于第一指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量和臭氧含量，第二处理环境具有低于第二指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量；（2）温度控制器，所述温度控制器操作性地联接以独立的控制至少两个热控区域的温度。上述区别技术特征（1）被对比文件2公开且作用相同；上述区别技术特征（2）是本领域技术人员在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域公知常识所容易想到的。此外，对于权利要求29中涉及的“两个或更多个打印系统”，其被对比文件5公开且作用相同。ii）从属权利要求2-28和30-35的附加技术特征或被对比文件1公开、或被对比文件2公开、或被对比文件3-5公开且作用相同、或属于本领域的公知常识。因此，权利要求1-35不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年11月13日向国家知识产权局提出了复审请求，未修改申请文件，仅进行了意见陈述。复审请求人认为：对比文件1仅仅教导“加热器180将热量供应给第一和第二干燥室中的每一个”，但其没有公开或教导技术特征“温度控制器，所述温度控制器操作性地联接以独立地控制至少两个热控区域的温度”；对比文件1至多公开独立地控制第一和第二干燥室160a和160b的温度，对比文件1没有公开或教导温度控制器用于控制每个干燥室160a和160b内的至少两个区域（每个容纳衬底）的温度，在对比文件1中，每个干燥室360a，360b，360c，360d，360e，360f，360g和360h仅包括一个加热器，因此不可能控制每个干燥室360a，360b，360c，360d，360e，360f，360g和360h内的至少两个区域的温度，而本申请是“一个室容置堆叠构型的多个热控区域，每个热控区域配置成容纳衬底，在所述室中保持第二处理环境”，其与具有一个热控区域的独立室是不同的，且对比文件2-4也没有公开上述技术特征。因此，权利要求具备创造性。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年11月23日依法受理了该复审请求，并将其转送至实质审查部门进行前置审查。
实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局依法成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年04月23日向复审请求人发出复审通知书，指出：独立权利要求1、29和从属权利要求4的修改不符合专利法第33条的规定。假设复审请求人修改了上述权利要求，克服了上述修改超范围的问题，修改后的权利要求1-35仍不具备专利法第22条第3款规定的创造性。对于复审请求人的意见陈述，合议组认为：对比文件1公开了以堆叠构型设置的多个干燥室，且每个干燥室包括至少一个基板台以用于支撑至少一个玻璃基板，附图4中给出了基板台为一个的情况，每个干燥室（每个干燥室显然对应有一热控区域）可以被独立控制（参见说明书第[0042]-[0054]段，附图4）； 由此可见，对比文件1公开了对于具有热控区域的多个室能够独立地进行控制；此外，采用温度控制器操作性地联接以独立控制两个热控区域的温度是本领域技术人员为了独立控制多个热控区域所常采用的技术手段；虽然对比文件1的热控区域的设置方式与本申请略有不同，但是对于本领域技术人员而言，设置具有热控区域的多个堆叠的独立室还是在一个室内设置堆叠的多个热控区域是其为了对多个基板进行处理所常采用的技术手段，在一个室内设置堆叠的多个热控区域仅是技术上的常规选择，技术上易于实现，不需要付出创造性劳动。
复审请求人于2019年07月19日提交了意见陈述书，并提交了权利要求书的全文替换页（共包括35项权利要求），所作的修改是：将独立权利要求1中的“其配置成在衬底上形成图案化有机层，所述图案化有机层”修改为“在衬底上沉积有机材料，以在衬底上以图案形成有机层，所述有机层”、将“热加工模块”修改为“热处理模块”，删除“以及”，增加技术特征“以及气体净化系统，用于保持在衬底上沉积有机材料期间的第一处理环境的氧气含量的水平是封闭的热处理模块中热处理衬底期间的第二处理环境的氧气含量的水平的至少100倍”；将独立权利要求29中的“每个打印系统配置成将图案化有机层形成于衬底上，所述图案化有机层”修改为“每个打印系统配置成在衬底上沉积有机材料，以在衬底上以图案形成有机层，所述有机层”，将“热加工模块”修改为“热处理模块”，删除“以及”，增加技术特征“以及气体净化系统，用于保持在所述两个或更多个打印系统中的至少一个中在衬底上沉积有机材料期间的第一处理环境的氧气含量是封闭的热处理模块中热处理衬底期间的第二处理环境的氧气含量的至少100倍”；将从属权利要求3、14、16-18和21-23的“热加工模块”修改为“热处理模块”；将从属权利要求4的附加技术特征“还包括气体控制器，气体控制器保持第三处理环境的氧气含量的水平至少是所述第一处理环境的氧气含量的水平的100分之一”修改为“其中，气体净化系统保持第三处理环境的氧气含量的水平，使得所述第一处理环境的氧气含量的是至少是第三处理环境的氧气含量的至少100倍”；将从属权利要求8-12和21中的“还”修改为“其中，气体净化系统”；将从属权利要求26的附加技术特征“其包括干燥模块，所述干燥模块配置成在形成所述图案化有机层之后接收所述衬底，并且配置来干燥所述图案化有机层”修改为“其包括干燥模块，所述干燥模块配置成在沉积有机材料之后接收所述衬底，所述干燥模块配置来干燥有机材料以便以图案形成有机层”；将从属权利要求28的“还包括”修改为“其中，气体净化系统包括”；将从属权利要求30的附加技术特征“其中，所述两个或更多个打印系统中的每个配置成将不同的图案化有机层形成于所述衬底上；以及其中，所述热加工模块配置成在形成所述不同的图案化有机层的过程之间或之后将热加工提供到所述衬底”修改为“其中，所述两个或更多个打印系统中的每个配置成在衬底上沉积有机材料，以在衬底上以不同于所述两个或更多个打印系统中的的另一个的图案形成有机层；以及其中，所述热处理模块配置成在沉积有机材料之间或之后将热处理提供到所述衬底”；将从属权利要求34的“还包括气体控制器，以”修改为“其中，气体净化系统”，并删除“的水平”；将从属权利要求35的“还包括气体控制器，以”修改为“气体净化系统”，并删除“的水平”。
修改后的权利要求书的内容如下：
“1. 一种电子装置制造系统，其包括：
打印系统，在衬底上沉积有机材料，以在衬底上以图案形成有机层，所述有机层包括制造于所述衬底上的发光装置的至少一部分，所述打印系统位于能够保持第一处理环境的封闭件中，所述第一处理环境具有低于第一指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量和臭氧含量；
热处理模块，其包括容置堆叠构型的热控区域的室，每个热控区域配置成容纳衬底，所述热处理模块能够在所述室中保持第二处理环境，所述第二处理环境具有低于第二指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量；
温度控制器，所述温度控制器操作性地联接以独立地控制至少两个热控区域的温度；
衬底转移模块，其配置成从所述打印系统接收所述衬底，并配置成将所述衬底提供到所述热处理模块的室内的所述第二处理环境；以及
气体净化系统，用于保持在衬底上沉积有机材料期间的第一处理环境的氧气含量的水平是封闭的热处理模块中热处理衬底期间的第二处理环境的氧气含量的水平的至少100倍。
2. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其包括衬底冷却模块，所述衬底冷却模块包括容置各自配置成容纳所述衬底的一个或更多个衬底固持区域的室，所述衬底冷却模块配置成固持所述衬底，直到所述衬底低于指定的阈值温度；
其中，所述衬底冷却模块能够保持第三处理环境，所述第三处理环境具有低于第三指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量。
3. 根据权利要求2所述的电子装置制造系统，其中，所述衬底转移模块配置成从所述热处理模块的室内的所述第二处理环境接收所述衬底，并配置成将所述衬底提供到衬底冷却模块的室内的所述第三处理环境。
4. 根据权利要求2所述的电子装置制造系统，其中，气体净化系统保持第三处理环境的氧气含量的水平，使得所述第一处理环境的氧气含量的是至少是第三处理环境的氧气含量的至少100倍。
5. 根据权利要求2所述的电子装置制造系统，其中，所述指定的阈值温度是100℃。
6. 根据权利要求2所述的电子装置制造系统，其中，所述衬底冷却模块的室容置呈堆叠构型的多个衬底冷却区域，每个冷却区域彼此偏移。
7. 根据权利要求2所述的电子装置制造系统，其中，所述第二处理环境和所述第三处理环境大致是相同的。
8. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，气体净化系统包括借助于清洁干燥空气提供第一处理环境的气体控制器，清洁干燥空气被控制成水含量维持在100 ppm以下且臭氧含量维持在100 ppm以下。
9. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，气体净化系统包括借助于经净化的非反应性气体提供所述第二处理环境的气体控制器，指定用于与沉积于所述衬底上的种类进行最小程度的反应或不反应。
10. 根据权利要求9所述的电子装置制造系统，其中，气体净化系统包括借助于高于气氛压力的氮气提供所述第二处理环境的气体控制器。
11. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，气体净化系统包括建立所述第二处理环境的气体控制器，所述第二处理环境具有小于百万分之1000的氧气、小于百万分之100的水蒸气和小于百万分之100的臭氧。
12. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，气体净化系统包括建立所述第一处理环境的气体控制器，所述第一处理环境具有超过百万分之1000的氧气含量。
13. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其包括第一操纵装置，所述第一操纵装置配置成从所述打印系统转移所述衬底。
14. 根据权利要求13所述的电子装置制造系统，其包括位于与所述第一操纵装置所位于的环境不同的环境中的第二操纵装置，所述第二操纵装置配置成将所述衬底转移到所述热处理模块。
15. 根据权利要求14所述的电子装置制造系统，其中，所述第二操纵装置配置成将所述衬底放置于所述热控区域中的指定的一者中。
16. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述衬底转移模块包括与所述打印系统和热处理模块的室分开的至少一个室。
17. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述打印系统是封闭的；以及
其中，所述衬底转移模块位于封闭的打印系统与热处理模块的室之间。
18. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述热处理模块的室配置成使用可移动工作台来提供通达各个不同的热控区域以进行衬底装载和卸载，所述可移动工作台配置来沿至少一个轴线移动所述热控区域。
19. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述打印系统包括喷墨打印系统。
20. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述衬底转移模块包括配置成从所述第一处理环境接收衬底并将衬底提供到所述第二处理环境的封闭的内部模块。
21. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，气体净化系统包括建立第二处理环境的气体控制器，其中，所述衬底转移模块配置来在所述第二处理环境的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量在所述热处理模块的室内通过气体控制器维持在第二指定限制以下时将所述衬底从所述打印系统转移到所述热处理模块的室。
22. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述衬底转移模块配置成将所述衬底提供到所述热处理模块的室，所述热处理模块具有处于或高于气氛压力的环境，而不使所述热处理模块的室内的氧气含量升高到大于百万分之10的水平。
23. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其包括衬底操纵装置，所述衬底操纵装置配置成在所述热处理模块的室内移动所述衬底。
24. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述温度控制器配置成独立地控制每个热控区域的温度，从而保持指定的衬底温度。
25. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述温度控制器配置成独立地控制每个热控区域的温度，从而保持指定的衬底温度均匀性。
26. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其包括干燥模块，所述干燥模块配置成在沉积有机材料之后接收所述衬底，所述干燥模块配置来干燥有机材料以便以图案形成有机层。
27. 根据权利要求26所述的电子装置制造系统，其中，所述干燥模块配置来进行至少部分地排空或净化所述干燥模块内的气氛中的一项或更多项以有助于干燥操作。
28. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，气体净化系统包括建立所述第二处理环境的气体控制器，所述第二处理环境具有小于百万分之10的氧气含量。
29. 一种电子装置制造系统，其包括：
两个或更多个打印系统，每个打印系统配置成在衬底上沉积有机材料，以在衬底上以图案形成有机层，所述有机层包括制造于所述衬底上的发光装置的至少一部分，所述两个或更多个打印系统位于能够保持第一处理环境的封闭件中，所述第一处理环境具有低于第一指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量和臭氧含量；
热处理模块，其包括容置堆叠构型的热控区域的室，每个热控区域配置成容纳衬底，所述热处理模块能够保持第二处理环境，所述第二处理环境具有低于第二指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量；
温度控制器，所述温度控制器操作性地联接以独立地控制至少两个热控区域的温度；
衬底转移模块，其配置成从所述两个或更多个打印系统中的任一个接收所述衬底，并配置成将所述衬底提供到所述热处理模块的室内的所述第二处理环境；以及
气体净化系统，用于保持在所述两个或更多个打印系统中的至少一个中在衬底上沉积有机材料期间的第一处理环境的氧气含量是封闭的热处理模块中热处理衬底期间的第二处理环境的氧气含量的至少100倍。
30. 根据权利要求29所述的电子装置制造系统，其中，所述两个或更多个打印系统中的每个配置成在衬底上沉积有机材料，以在衬底上以不同于所述两个或更多个打印系统中的的另一个的图案形成有机层；以及
其中，所述热处理模块配置成在沉积有机材料之间或之后将热处理提供到所述衬底。
31. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，所述温度控制器配置成独立地控制每个热控区域的温度。
32. 根据权利要求31所述的电子装置制造系统，其中，所述温度控制器配置成独立地控制每个热控区域的温度，从而保持不同的指定的衬底温度或不同的指定的衬底温度均匀性。
33. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，还包括分别与至少两个热控区域相关联的至少两个加热装置，且其中，所述温度控制器配置成独立地控制所述至少两个加热装置，从而独立地控制至少两个热控区域的温度。
34. 根据权利要求1所述的电子装置制造系统，其中，气体净化系统保持所述第一处理环境的氧气含量是所述第二处理环境的氧气含量的至少100倍。
35. 根据权利要求29所述的电子装置制造系统，其中，气体净化系统保持所述第一处理环境的氧气含量是所述第二处理环境的氧气含量的至少100倍。”
复审请求人认为：（1）“温度控制器，所述温度控制器操作性地联接以独立地控制至少两个热控区域的温度”并非本领域公知常识，因为设置多个堆叠的独立室（每个室具有一个热控区域）与在一个室中设置多个堆叠的热控区域是完全不同的，对比文件1公开的是每个干燥室仅仅包括一个加热器，从而不能独立地控制每个干燥室内的至少两个区域的温度，对比文件1没有教导“温度控制器”，即使将对比文件2的温度控制器与对比文件1结合，得到的是温度控制器控制第一和第二干燥室中的每个的温度，而不可能得到温度控制器用一个控制每个干燥室内的至少两个区域（每个容纳衬底）的温度；此外，对比文件2也未教导“温度控制器，所述温度控制器操作性地联接以独立地控制至少两个热控区域的温度”，而根据本申请说明书以及附图5A针对热加工模块5000A的描述可知，“一个室容置堆叠构型的多个热控区域，每个热控区域配置成容纳衬底，在所述室中保持第二处理环境”与具有一个热控区域的独立室是不同的；（2）对比文件2没有教导“气体净化系统，用于保持在衬底上沉积有机材料期间的第一处理环境的氧气含量的水平是封闭的热处理模块中热处理衬底期间的第二处理环境的氧气含量的水平的至少100倍”，根据对比文件2说明书第[0076]段，其至多公开了印刷系统中的第一处理环境的氧含量保持在21体积%或更低，但并没有提及热处理模块中的第二处理环境的氧含量，故本领域技术人员不能推断第一和第二处理环境中相对要求保护的氧含量。因此，权利要求具备创造性。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以依法作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人于2019年07月19日提交了权利要求书的全文修改替换页。经审查，所作的修改符合专利法实施细则第61条第1款及专利法第33条的规定。本复审请求审查决定针对的文本为：复审请求人于2016年06月24日进入中国国家阶段时提交的国际申请文件的中文译文的说明书摘要、摘要附图、说明书附图第1-32页；2016年06月24日按照条约28或41条修改的说明书第1-51页；2019年07月19日提交的权利要求第1-35项。
关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求与作为最接近的现有技术的对比文件相比存在区别技术特征，其中部分区别技术特征被其他对比文件公开且作用相同，其余区别技术特征属于本领域的公知常识，并且将上述对比文件与本领域的公知常识相结合得出该权利要求所要保护的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，则该项权利要求不具备创造性。
本复审请求审查决定引用驳回决定引用的对比文件1-3，与复审通知书引用的对比文件相同，即：
对比文件1：US2008273072A1，公开日为2008年11月06日；
对比文件2：JP2011129275A，公开日为2011年06月30日；
对比文件3：US7258768B2，授权公告日为2007年08月21日。
2-1、权利要求1请求保护一种电子装置制造系统，对比文件1公开了一种形成薄膜的制造设备（相当于本申请的电子装置制造系统），并具体公开了以下技术特征（参见说明书第[0029]-[0054]段，附图4）：其包括喷墨打印机130，在玻璃基板上形成预定图案的有机层（即本申请的沉积有机材料，以在衬底上以图案形成有机层），有机层可以为OLED等的发光层等，喷墨打印机130位于封闭的打印室210中，该打印室210能够保持真空态，则打印室210中显然具有低于指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量和臭氧含量的处理环境（相当于本申请的第一处理环境）；第一至第四干燥室260a-260d，每个干燥室260a-260d包括一放气部275以保持第一至第四干燥室260a-260d内为真空态，则第一至第四干燥室260a-260d中显然具有低于指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量的处理环境（相当于本申请的第二处理环境），每个干燥室260a-260d包括至少一个基板台270以用于支撑至少一个玻璃基板，附图4中给出了基板台270为一个的情况（每个干燥室260a-260d中显然对应有一热控区域），第一至第四干燥室260a-260d堆叠设置且第一至第四干燥室260a-260d可以被独立控制，第一至第四干燥室260a-260d的每一个显然对应有用于对其进行干燥的加热装置；缓冲室250（相当于本申请的衬底转移模块），其将玻璃基板从打印室210提供到第一至第四干燥室260a-260d。
权利要求1与对比文件1的区别技术特征是：（1）热处理模块包括的是容置堆叠构型的容纳衬底的热控区域的室，至少两个热控区域的温度是通过温度控制器操作性地联接以独立地控制的；（2）气体净化系统，用于保持在所述衬底上沉积有机材料期间的第一处理环境的氧气含量的水平是封闭的热处理模块中热处理衬底期间的第二处理环境的氧气含量的水平的至少100倍。其所要解决的技术问题是：提供另一可供选择的热控区域的设置方式，以及避免有机材料受氧气和高温损坏。
对于区别技术特征（1），虽然对比文件1公开的是多个堆叠设置且能够独立控制的具有热控区域的干燥室，但是对于本领域技术人员而言，将多个堆叠的热控区域设置于同一室且对不同的热控区域进行相应的温度控制或是将热控区域设置于多个堆叠的室内而对每个室内的热控区域进行相应的温度控制是其根据制造系统的需要所做出的常规选择；此外，采用温度控制器操作性地联接以独立控制至少两个热控区域的温度是本领域技术人员为了使得每个热控区域能够被独立控制所常采用的技术手段。
对于区别技术特征（2），对比文件2公开了一种有机电致发光器件的制作方法（参见说明书摘要、说明书第[0010]-[0014]段、第[0075]-[0081]段、第[0115]-[0120]段、第[0146]-[0148]段、第[0168]-[0181]段），并具体公开了以下技术特征：在氧密度为18-20体积%的环境下通过湿膜形成法例如喷墨打印形成发光层，显然有对应该步骤的湿法形成装置如喷墨打印装置，该装置中的处理环境显然构建为低于微粒污染水平、水蒸气水平和臭氧含量的指定限制的受控环境；在惰性气体中加热该发光层，显然有对应该步骤的加热装置，该装置中的处理环境显然构建为低于微粒污染水平、水蒸气水平、氧气水平和臭氧含量的指定限制的受控环境，并且显然在上述喷墨打印装置中沉积发光层期间，喷墨打印装置中的处理环境的氧气含量是至少为加热装置中的处理环境的氧气含量的100倍。为了实现上述喷墨打印装置和加热装置中的气体处理环境，其显然需要具有相应于其的气体控制器（其属于气体净化系统的一部分）。由此可见，区别技术特征（2）已被对比文件2公开且所起作用与其在本申请中所起的作用相同，都是使得有机材料免受氧气和高温损坏，故对比文件2给出了将上述技术特征应用于对比文件1以解决其技术问题的启示。
由此可见，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域公知常识所获得的权利要求1的技术方案，相对于本领域技术人员而言是显而易见的，其不具有突出的实质性特点，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-2、权利要求2是权利要求1的从属权利要求，对比文件1公开了以下技术特征（参见说明书第[0055]-[0067]段，附图5）：其还包括冷却室390，其中显然配置成容纳至少一个衬底的衬底固持区，且固持所述衬底低于指定的阈值温度；此外，对于本领域技术人员而言，将冷却室中的处理环境设置为具有低于第三指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量是其根据冷却的需求所作出的常规选择。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求2不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-3、权利要求3是权利要求2的从属权利要求，其附加技术特征已经被对比文件1所公开（参见说明书第[0057]段，附图5）：缓冲室350，将其上具有干燥有机层的玻璃基板传送到冷却室390（相当于本申请的衬底转移模块配置成从所述热处理模块的室内的所述第二处理环境接收所述衬底，并配置成将所述衬底提供到衬底冷却模块的室内的所述第三处理环境）。因此，在其引用的权利要求2不具备创造性的前提下，权利要求3不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-4、权利要求4是权利要求2的从属权利要求，对于本领域技术人员而言，在所述打印模块中打印所述衬底期间，第一处理环境的氧气含量至少是在封闭的衬底冷却模块中冷却所述衬底期间的第三处理环境的氧气含量的100倍是其为了防止冷却物受氧气影响所常采用的技术手段，其显然需要气体控制器（其属于气体净化系统的一部分）来控制相应的气体环境。因此，在其引用的权利要求2不具备创造性的前提下，权利要求4不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-5、权利要求5是权利要求2的从属权利要求，阈值温度的具体数值是本领域技术人员进行冷却时所常采用的技术手段。因此，在其引用的权利要求2不具备创造性的前提下，权利要求5不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-6、权利要求6是权利要求2的从属权利要求，尽管对比文件1并未明确公开冷却室内的具体构造，但是对于本领域技术人员而言，将衬底冷却模块的室设置为堆叠构型的多个且彼此偏移的衬底冷却区域是其为了提高冷却基板的处理效率所做出的常规选择。因此，在其引用的权利要求2不具备创造性的前提下，权利要求6不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-7、权利要求7是权利要求2的从属权利要求，将第二处理环境和所述第三处理环境设置为相同是本领域技术人员根据工艺处理设置需求所作出的常规选择。因此，在其引用的权利要求2不具备创造性的前提下，权利要求7不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-8、权利要求8是权利要求1的从属权利要求，第一处理环境中的水分以及臭氧含量是本领域技术人员根据处理工艺的需求所作出的常规选择，而借助清洁干燥空气是本领域技术人员为了提供限定水分和臭氧含量的处理环境所常采用的技术手段，为了提供清洁干燥空气显然需要气体控制器（其属于气体净化系统的一部分）。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求8不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-9、权利要求9是权利要求1的从属权利要求，对比文件2公开了以下技术特征（参见说明书摘要、说明书第[0010]-[0014]段）：在惰性气体如氮气（其显然与沉积于衬底上的种类不反应）中加热该发光层，显然有对应该步骤的其中具有处理环境的加热装置，以及用于提供经净化的惰性气体的气体控制器（其属于气体净化系统的一部分）；此外，对于本领域技术人员而言，经净化的非反应性气体与沉积于衬底上的种类进行最小程度的反应是其根据加热装置中所采用的气体所作出的常规选择。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求9不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-10、权利要求10是权利要求9的从属权利要求，在高于气氛压力的氮气下的处理环境下进行加热处理是本领域技术人员所常采用的技术手段，其显然需要用于提供高于气氛压力的氮气的气体控制器（其属于气体净化系统的一部分）。因此，在其引用的权利要求9不具备创造性的前提下，权利要求10不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-11、权利要求11是权利要求1的从属权利要求，第二处理环境的氧气、水蒸气和臭氧的含量是本领域技术人员根据处理工艺环境的需求所作出的常规选择，其显然需要用于提供上述气体环境的气体控制器（其属于气体净化系统的一部分）。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求11不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-12、权利要求12是权利要求1的从属权利要求，对比文件2公开了以下技术特征（参见说明书摘要、说明书第[0014]段）：在氧密度为18-20体积％的环境下通过湿膜形成法例如喷墨打印形成发光层，其显然需要提供上述气体环境的气体控制器（其属于气体净化系统的一部分）。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求12不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-13、权利要求13是权利要求1的从属权利要求，其附加技术特征已被对比文件1所公开（参见说明书第[0049]段，附图4）：缓冲室250中具有将玻璃基板从打印室210传送到第一至第四干燥室26Oa-26Od的传送臂（相当于本申请的第一操纵装置）。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求13不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-14、权利要求14是权利要求13的从属权利要求，对比文件3公开了一种制作EL元件的线性薄膜形成装置（参见说明书第8栏第4段一第9页第3段，附图4），并具体公开了以下技术特征：其包括施加溶液的处理室409通过门408与第一公共室404连接，第一公共室404中的第一传送机构405（相当于本申请第一操纵装置）从施加溶液的处理室409转移基板；用于烘干的处理室416通过门415连接到第二公共室413，第二公共室413中的第二传送机构414（相当于本申请的第二操纵装置）将基板转移到烘干的处理室416中。由此可见，根据对比文件3的启示，本领域技术人员有动机采用其所公开的方式构造对比文件1的制造装备以提供另一类型的制造装备；此外，将第一操纵装置所位于的环境设置为与第二操纵装置所位于的环境不同是本领域技术人员根据其所连接的处理装置的环境所作出的常规选择。因此，在其引用的权利要求13不具备创造性的前提下，权利要求14不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-15、权利要求15是权利要求14的从属权利要求，对比文件3公开了以下技术特征（参见说明书第8栏倒数第2段，附图4）：用于烘干的处理室416通过门415连接到第二公共室413，第二公共室413中的第二传送机构414（相当于本申请的第二操纵装置）将基板转移到烘干的处理室416中；此外，通过第二操纵装置将衬底放置于热控区域中的指定一者是本领域技术人员为了将衬底放置于具有若干热控区域的加热装置的相应位置所常采用的技术手段。因此，在其引用的权利要求14不具备创造性的前提下，权利要求15不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-16、权利要求16是权利要求1的从属权利要求，其附加技术特征已被对比文件1所公开（参见附图4）：缓冲室250与打印室210、第一至第四干燥室26Oa-26Od分开。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求16不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-17、权利要求17是权利要求1的从属权利要求，其附加技术特征已被对比文件1所公开（参见说明书第[0046]-[0047]段，附图4）：打印室210能够保持真空态或高于大气压的加压态，则该打印室210显然是封闭的；缓冲室250位于打印室210和第一至第四干燥室26Oa-26Od之间。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求17不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-18、权利要求18是权利要求1的从属权利要求，对于本领域技术人员而言，在热处理模块的室内配置提供通达不同热控区域以进行装载和卸载的可移动工作台是其为了将衬底放置到堆叠构型的热控区域的相应热控区域或从相应热控区域卸载衬底所常采用的技术手段，将可移动工作台配置为沿着至少一个轴线移动热控区域是本领域技术人员为了将热控区域放置到相应的位置所常采用的技术手段。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求18不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-19、权利要求19是权利要求1的从属权利要求，其附加技术特征已被对比文件1所公开（参见说明书第[0046]-[0047]段）：打印室210中设置有喷墨打印机130。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求19不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-20、权利要求20是权利要求1的从属权利要求，其附加技术特征已被对比文件1所公开（参见说明书第[0044]-[0050]段，附图4）：缓冲室250从打印室210接收玻璃基板并将其提供给第一至第四干燥室26Oa-26Od，每个干燥室26oa-26od包括一放气部275以保持第一至第四干燥室26Oa-26Od内为真空态，则该第一至第四干燥室26Oa-26Od显然是封闭的。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求20不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-21、权利要求21是权利要求1的从属权利要求，其附加技术特征已被对比文件1所公开（参见说明书第[0044]-[0048]段，附图4）：缓冲室250从打印室210接收玻璃基板并将其提供给第一至第四干燥室26oa-26od，每个干燥室26oa-26od包括一放气部275以保持第一至第四干燥室26Oa-26Od内为真空态，则第一至第四干燥室26Oa-26Od中显然具有低于指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量的处理环境（相当于本申请的第二处理环境），其显然是通过气体控制器（其属于气体净化系统的一部分）控制上述气体环境，缓冲室250显然是在第一至第四干燥室26Oa-26Od维持上述处理环境的情况下将玻璃基板从打印室210转移到第一至第四干燥室26oa-260d。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求21不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-22、权利要求22是权利要求1的从属权利要求，对比文件1公开了以下技术特征（参见说明书第[0044]-[0049]段，附图4）：缓冲室250从打印室210接收玻璃基板并将其提供给第一至第四干燥室26Oa-26Od；对比文件2公开了以下技术特征（参见说明书第[0013]段）：在惰性气体中加热发光层，显然有对应该步骤的加热装置，该装置中的氧气含量显然低于百万分之10。此外，对于本领域技术人员而言，热处理模块处于或高于气氛压力的环境是其根据热加工对象的需求所作出的常规选择。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求22不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-23、权利要求23是权利要求1的从属权利要求，在热处理模块的室内设置移动衬底的衬底操纵装置是本领域技术人员根据装置的设置需求所作出的常规选择。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求23不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-24、权利要求24是权利要求1的从属权利要求，对比文件1公开了以下技术特征（参见说明书第[0052]段，附图4）：每个干燥室26Oa-26Od包括至少一个基板台270以用于支撑至少一个玻璃基板，附图4中为每个干燥室中具有一个基板台270的情况（每个干燥室中显然对应有一热控区域），第一至第四干燥室260a-26Od可以被独立控制；此外，采用温度控制器独立的控制每个热控区域的温度而保持指定的衬底温度是本领域技术人员为了独立控制每个衬底的温度所常采用的技术手段。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前
提下，权利要求24不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-25、权利要求25是权利要求1的从属权利要求，对于本领域技术人员而言，加热时保持衬底温度的均匀性是其所作出的常规选择，而采用温度控制器独立地控制每个热控区域的温度是其为了保持衬底温度均匀所常采用的技术手段。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求25不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-26、权利要求26是权利要求1的从属权利要求，其附加技术特征已被对比文件1所公开（参见说明书第[0043]-[0047]段，附图4）：缓冲室250将其上形成有图案化有机层的玻璃基板从打印室210提供到第一至第四干燥室260a-260d，从而形成有机层（即本申请的干燥模块配置成在沉积有机材料之后接收所述衬底，干燥模块配置来干燥有机材料以便形成有机层）。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求26不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-27、权利要求27是权利要求26的从属权利要求，对比文件1公开了以下技术特征（参见说明书第[0050]段）：第一至第四干燥室26Oa-26Od包括放气部275以使得第一至第四干燥室26Oa-26Od内保持真空状态；此外，净化干燥模块内的气氛的一项或更多项是本领域技术人员为了有助于干燥操作所常采用的技术手段。因此，在其引用的权利要求26不具备创造性的前提下，权利要求27不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-28、权利要求28是权利要求1的从属权利要求，其附加技术特征已被对比文件2所公开（参见说明书第[0013]段）：在惰性气体中加热发光层，显然有对应该步骤的加热装置，该装置中的处理环境显然具有非常低的氧气含量，显然是通过气体控制器（其属于气体净化系统的一部分）以保持上述处理环境；此外，氧气的具体含量是本领域技术人员在惰性气氛下进行加热而做出的常规选择。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求28不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-29、权利要求29请求保护一种电子装置制造系统，对比文件1公开了一种形成薄膜的制造设备（相当于本申请的电子装置制造系统），并具体公开了以下技术特征（参见说明书第[0029]-[0054]段，附图4）：其包括喷墨打印机130，在玻璃基板上形成预定图案的有机层(相当于本申请的打印系统配置成在衬底上沉积有机材料，以在衬底上以图案形成有机层)，有机层可以为OLED等的发光层等，喷墨打印机130位于封闭的打印室210中，该打印室210能够保持真空态，则打印室210中显然具有低于指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量和臭氧含量的处理环境（相当于本申请的第一处理环境）；第一至第四干燥室26Oa-26Od，每个干燥室26Oa-26Od包括一放气部275以保持第一至第四干燥室26Oa-26Od内为真空态，则第一至第四干燥室26Oa-26Od中显然具有低于指定限制的微粒污染水平、水蒸气含量、氧气含量和臭氧含量的处理环境（相当于本申请的第二处理环境），每个干燥室260a-260d（其中显然对应有热控区域）包括至少一个基板台270以用于支撑至少一个玻璃基板，第一至第四干燥室26Oa-26Od堆叠设置且第一至第四干燥室26Oa-26Od可以被独立控制；缓冲室250（相当于本申请的衬底转移模块），其将玻璃基板从打印室210提供到第一至第四干燥室260a-260d内。
权利要求29与对比文件1的区别技术特征是：（1）打印系统为两个或更多个，衬底转移模块是从两个或更多个打印系统中的任一个接收衬底；（2）热处理模块包括的是容置堆叠构型的热控区域的室，至少两个热控区域的温度是通过温度控制器操作性地联接以独立地控制的；（3）气体净化系统，用于保持在所述两个或更多个打印系统中的至少一个中在衬底上沉积有机材料期间的第一处理环境的氧气含量是封闭的热处理模块中热处理衬底期间的第二处理环境的氧气含量的至少100倍。其所要解决的技术问题是：提供具有多个打印系统的装置、提供另一可供选择的热控区域的设置方式，以及避免有机材料受氧气和高温损坏。
对于区别技术特征（1），对比文件3公开了一种制作EL元件的薄膜形成装置（参见说明书第4栏倒数第4段、第9栏第4-7段），并具体公开了以下技术特征：处理室用于施加包括高分子EL材料的溶液；如果需要，可配置两个或更多个用于施加溶液的处理室。对于本领域技术人员而言，喷墨打印属于溶液施加的一种方式，故根据对比文件3的启示，本领域技术人员显然有动机将对比文件1中的打印室设置为两个或更多个，则显然需要将转移衬底模块配置为能够从两个或更多个打印系统中的任一接收衬底。
对于区别技术特征（2），虽然对比文件1公开的是多个堆叠设置且能够独立控制的具有热控区域的干燥室，但是对于本领域技术人员而言，将多个堆叠的热控区域设置于同一室且对不同的热控区域进行相应的温度控制或是将热控区域设置于多个堆叠的室内而对每个室内的热控区域进行相应的温度控制是其根据制造系统的需要所做出的常规选择；此外，采用温度控制器操作性地联接以独立控制至少两个热控区域的温度是本领域技术人员为了使得多个热控区域能够被独立控制所常采用的技术手段。
对于区别技术特征（3），对比文件2公开了一种有机电致发光器件的制作方法（参见说明书摘要、说明书第[0010]-[0014]段、第[0075]-[0081]段、第[0115]-[0120]段、第[0146]-[0148]段、第[0168]-[0181]段），并具体公开了以下技术特征：在氧密度为18-20体积％的环境下通过湿膜形成法例如喷墨打印形成发光层，显然有对应该该步骤的湿法形成装置如喷墨打印装置，该装置中的处理环境显然构建为低于微粒污染水平、水蒸气水平和臭氧含量的指定限制的受控环境；在惰性气体中加热该发光层，显然有对应该步骤的加热装置，该装置中的处理环境显然构建为低于微粒污染水平、水蒸气水平、氧气水平和臭氧含量的指定限制的受控环境，并且显然在上述喷墨打印装置中沉积发光层期间，喷墨打印装置中的处理环境的氧气含量显然是至少为加热装置中的处理环境的氧气含量的100倍。为了实现上述喷墨打印装置和加热装置中的气体处理环境，其显然需要具有相应于其的气体控制器（其属于气体净化系统的一部分）。由此可见，区别技术特征（3）已被对比文件2公开且所起作用与其在本申请中所起的作用相同，都是使得有机材料免受氧气和高温损坏，故对比文件2给出了将上述技术特征应用于对比文件1以解决其技术问题的启示。
由此可见，在对比文件1的基础上结合对比文件2-3以及本领域公知常识所获得的权利要求29的技术方案，相对于本领域技术人员而言是显而易见的，其不具有突出的实质性特点，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-30、权利要求30是权利要求29的从属权利要求，对比文件2公开了以下技术特征（参见说明书第[0075]-[0084]段、第[0107]-[0117]段、第[0120]段、第[0138]段、第[0169]-[0178]段）：通过湿膜形成法形EL的有机空穴注入层、有机空穴传输层和有机发光层，湿膜形成法例如为喷墨打印；且实施例1中给出了通过旋涂形成空穴注入层并对其进行烘干，之后通过旋涂形成空穴传输层并对其进行烘干，随后通过旋涂形成发光层并对其进行烘干（即在衬底上沉积多个有机材料，以在衬底上形成多个图案的有机层）；则对于本领域技术人员而言，通过配置形成不同膜层的多个打印系统以及将热处理模块配置在形成不同膜层的过程之间以将热处理提供到衬底是其为了以对比文件2所公开的方法形成EL所常采用的制造系统的配置方式；此外，热处理模块配置在形成不同的图案化有机层的过程之后将热处理提供到衬底是本领域技术人员根据电子装置制作方式的需求所作出的常规选择。因此，在其引用的权利要求29不具备创造性的前提下，权利要求30不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-31、权利要求31是权利要求1的从属权利要求，对比文件1公开了以下技术特征（参见说明书第[0052]段，附图4）：每个干燥室26Oa-26Od包括至少一个基板台270以用于支撑至少一个玻璃基板，附图4中为每个干燥室中具有一个基板台270的情况（每个干燥室中显然对应有一热控区域），第一至第四干燥室260a-26Od可以被独立控制；此外，采用温度控制器独立的控制每个热控区域的温度而保持指定的衬底温度是本领域技术人员为了独立控制每个衬底的温度所常采用的技术手段。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求31不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-32、权利要求32是权利要求31的从属权利要求，对比文件1公开了以下技术特征（参见说明书第[0052]段，附图4）：每个干燥室26Oa-26Od包括至少一个基板台270以用于支撑至少一个玻璃基板，附图4中为每个干燥室中具有一个基板台270的情况（每个干燥室中显然对应有一热控区域），第一至第四干燥室260a-26Od可以被独立控制；此外，采用温度控制器独立的控制每个热控区域的温度而保持指定的衬底温度是本领域技术人员为了独立控制每个衬底的温度所常采用的技术手段；且对于本领域技术人员而言，加热时保持衬底温
度的均匀性是其所作出的常规选择，则采用温度控制器独立地控制每个热控区域的温度是其为了保持衬底温度均匀性所常采用的技术手段。因此，在其引用的权利要求31不具备创造性的前提下，权利要求32不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-33、权利要求33是权利要求1的从属权利要求，对比文件1公开了以下技术特征（参见说明书第[0052]段，附图4）：每个干燥室26Oa-26Od包括至少一个基板台270以用于支撑至少一个玻璃基板，附图4中为每个干燥室中具有一个基板台270的情况（每个干燥室中显然对应有一热控区域），第一至第四干燥室260a-26Od可以被独立控制，第一至第四干燥室26Oa-26Od的每个干燥室显然对应有相应的加热装置；此外，采用温度控制器独立的控制至少两个加热装置是本领域技术人员为了独立控制至少两个热控区域的温度所常采用的技术手段。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求33不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-34、权利要求34-35分别是权利要求1和29的从属权利要求，其附加技术特征已被对比文件2所公开（参见说明书摘要、说明书第[0010]-[0014]段、第[0075]-[0081]段、第[0115]-[0120]段、第[0146]-[0148]段、第[0168]-[0181]段）：在氧密度为18-20体积％的环境下通过湿膜形成法例如喷墨打印形成发光层；在惰性气体中加热该发光层，显然有对应该步骤的加热装置，显然在上述喷墨打印装置中的处理环境的氧气含量是至少为加热装置中的处理环境的氧气含量的100倍。为了实现上述喷墨打印装置和加热装置中的气体处理环境，其显然需要具有相应于其的气体控制器（其属于气体净化系统的一部分）。因此，在其引用的权利要求1和29不具备创造性的前提下，权利要求34-35不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、对复审请求人相关意见的答复
针对复审请求人答复复审通知书时的意见陈述，合议组认为：（1）发明专利权的保护范围以权利要求请求保护的内容为准，在权利要求中并未体现出复审请求人所陈述的说明书以及附图5A中所记载的热加工模块5000A的具体构造，权利要求与对比文件1关于热处理模块的区别主要在于：权利要求中的热处理模块是以在一个室中设置有堆叠的热控区域的方式进行构造的，而非对比文件1中的以多个堆叠的每个室具有一个热控区域的方式进行构造的。首先，对比文件1的附图4中给出了基板台270为一个的情况，即每个干燥室260a-206d中显然对应有一热控区域，且说明书第[0051]-[0052]段明确公开了第一至第四干燥室260a-260d堆叠设置且第一至第四干燥室260a-260d可以被独立控制，则每个干燥室中显然对应有用于进行干燥的加热装置；由此可见，对比文件1公开了多个独立的干燥室堆叠设置，每个干燥室对应有一个热控区域以及为了进行干燥的加热装置；且对于本领域技术人员而言，将多个堆叠的热控区域设置于同一室且对不同的热控区域进行相应的温度控制或是将热控区域设置于多个堆叠的室内而对每个室内的热控区域进行相应的温度控制是其根据制造系统的需要所做出的常规选择；而为了对每个热控区域都进行相应的温度控制，采用对应于每个热控区域的温度控制器还是采用能够操作性的联接以独立的控制至少两个热控区域的温度是本领域技术人员为了对每个热控区域进行独立的控制所常采用的技术手段；（2）对比文件2的说明书第[0010]-[0014]段 明确公开了在氧密度为18-20体积％的环境下通过湿膜形成法例如喷墨打印形成发光层；在惰性气体中加热该发光层，显然有对应该步骤的加热装置；从对比文件2公开的内容可知，其明确提及了加热装置即热处理模块中的处理环境为惰性气体，即其显然应该是没有氧气的，即便有不可避免的氧气，其含量也是非常微小，并且对比文件2也明确提及了喷墨打印形成发光层的环境为氧密度为18-20体积％的环境下，即含氧量高，则相对惰性气体的气体环境中的氧气含量而言，氧密度为18-20体积％的环境的氧气含量水平显然是非常高，显然是惰性气体的气体环境中的氧气含量的至少100倍。综上，复审请求人的意见陈述不具有说服力，合议组不予支持。
根据以上事实和理由，本案合议组依法作出如下决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年08月13日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
郑重声明：本文版权归原作者所有，转载文章仅为传播更多信息之目的，如作者信息标记有误，请第一时间联系我们修改或删除，多谢。
