发明创造名称：基于调频辐射光源的多传感器成像温度场测量方法及装置
外观设计名称：
决定号：199732
决定日：2020-01-07
委内编号：1F265682
优先权日：
申请（专利）号：201611111185.9
申请日：2016-12-06
复审请求人：清华大学
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：李彦琴
合议组组长：田静怡
参审员：朱晓琳
国际分类号：G01J5/00
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征，该区别技术特征的一部分被其他对比文件公开且给出了相关启示，其余部分是本领域技术人员在最接近的现有技术公开内容的基础上结合本领域的惯用技术手段容易想到的，则该权利要求所请求保护的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，该权利要求不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201611111185.9，名称为“基于调频辐射光源的多传感器成像温度场测量方法及装置”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为清华大学。本申请的申请日为2016年12月06日，公开日为2017年05月31日。
经实质审查，国家知识产权局专利实质审查部门于2018年08月28日以权利要求1-6不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由驳回了本申请。驳回决定所依据的文本为2018年06月25日提交的权利要求第1-6项；申请日2016年12月06日提交的说明书第1-13页、说明书附图第1页、说明书摘要、摘要附图。驳回决定中采用的对比文件如下：
对比文件1：《Emissivity-Free Thermal Imaging with Dual-Wavelength Reflectance-Ratio Method》，Yu Yamaguchi，Yoshiro Yamada，SICE Annual Conference 2015， July 28-30，2015，第183-186页，公开日2015年07月30日；
对比文件2：CN105067125A，公开日为2015年11月18日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种基于调频辐射光源的多传感器成像温度场测量装置，其特征在于，包括：朝向待测物体的辐射测量设备、带通滤光片和调频辐射光源；所述辐射测量设备包括多个不同光谱响应波段的面成像传感器；不同的所述面成像传感器具有相同光学视场；所述调频辐射光源与所述辐射测量设备具有相同光学视场；
其中，所述不同光谱响应波段的面成像传感器对应不同的温度测量范围；所述辐射测量设备的温度测量范围为多个所述面成像传感器的温度测量范围的叠加；所述带通滤光片设置在所述面成像传感器的辐射信号采集入口处；
所述辐射测量设备用于在所述调频辐射光源关闭的状态下通过不同的面成像传感器探测得到所述待测物体的预设位置辐射的第一辐射强度以及在所述调频辐射光源开启的状态下通过不同的面成像传感器探测得到第二辐射强度；其中，所述第二辐射强度为所述调频辐射光源发出的经待测物体反射的辐射强度和所述待测物体预设位置的辐射强度之和；
所述待测物体的预设位置的辐射温度为根据所述第一辐射强度、所述第二辐射强度以及所述调频辐射光源自身的辐射强度确定的。
2. 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，不同的所述面成像传感器的成像像素在空间上一一对应。
3. 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述面成像传感器的采集频率是所述调频辐射光源的调制频率的偶数倍；
其中，所述调频辐射光源的调制频率为所述调频辐射光源开启或关闭的频率。
4. 一种基于调频辐射光源的多传感器成像温度场测量方法，其特征在于，包括：利用朝向待测物体的辐射测量设备和调频辐射光源；所述辐射测量设备包括多个不同光谱响应波段的面成像传感器；不同 的所述面成像传感器具有相同光学视场；所述调频辐射光源与所述辐射测量设备具有相同光学视场；其中，所述不同光谱响应波段的面成像传感器对应不同的温度测量范围；所述辐射测量设备的温度测量范围为多个所述面成像传感器的温度测量范围的叠加；所述面成像传感器的辐射信号采集入口处设有带通滤光片；
所述方法包括：
在所述调频辐射光源关闭的状态下，通过不同的面成像传感器探测得到所述待测物体的预设位置辐射的第一辐射强度；
在所述调频辐射光源开启的状态下，通过不同的面成像传感器探测得到所述待测物体的预设位置辐射的第二辐射强度；其中，所述第二辐射强度为所述调频辐射光源发出的经待测物体 反射的辐射强度和所述待测物体预设位置的辐射强度之和；
根据所述第一辐射强度、所述第二辐射强度以及所述调频辐射光源自身的辐射强度确定所述待测物体的预设位置的辐射温度。
5. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据第一辐射强度、所述第二辐射强度度以及所述调频辐射光源自身的辐射强度确定所述待测物体的预设位置的辐射温度，具体采用以下公式进行计算：
其中，T是任一像素所对应的物体表面测量位置区域的温度；N是面成像传感器的数量；λi、λi △λi是第i个传感器通道的响应波段起始、终止波长；△λi是通道响应的波段带宽；ηi是第i个传感器的增益；Vi,1表示在调频辐射光源关闭状态下，第i个传感器通道测量输出的有效辐射强度信号，即第一辐射强度；Vi,2表示在调频辐射光源开启状态下，第i个传感器通道测量输出的有效辐射强度信号，即第二 辐射强度；εi表示在第i个传感器光谱通道的物体表面测量位置区域的发射率；Ib(λ,T)表示在与物体表面测量位置区域具有相同温度的黑体光谱辐射强度，是温度T、波长λ的函数；Ie(λ)是调频辐射光源开启状态时自身的光谱辐射强度。
6. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，不同的所述面成像传感器的成像像素在空间上一一对应。”
驳回决定中指出：（1）、权利要求1与对比文件1的区别在于：（a）使用多传感器，所述多个传感器具有不同响应波段，辐射测量设备的测量范围为多个传感器测量范围的叠加，带通滤波器设置在面成像传感器的辐射信号采集入口处；（b）调频辐射光源与辐射测量设备具有相同的光学视场。对于上述区别技术特征，对比文件2给出了使用不同响应波段的传感器组合以增大辐射测温测量范围的技术启示，本领域技术人员能够在此启示下改进辐射测温设备的测温范围，而带通滤波器的设置，以及将辐射光源和采集设备设置在相对稳定的测量区域内是测量领域中的技术常识，在对比文件1的基础上结合对比文件2和本领域常识获得该权利要求的技术方案是显而易见的，权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）、权利要求2-3的附加技术特征被对比文件1公开，因此也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（3）、权利要求4、6是与权利要求1、2对应的方法权利要求，权利要求5的附加特征属于惯用手段，因此，权利要求4-6也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年11月06日向国家知识产权局提出了复审请求，同时修改了权利要求书，具体修改为：相对于申请日提交的权利要求书，在权利要求1和6中增加了特征“不同的所述面成像传感器具有相同光学视场”、“当面成像传感器形成的图像失真时，表示测温位置区域的温度超出该传感器的测温区间，从而可以由另一通道的面成像传感器进行光谱辐射强度的探测”，删除权利要求3和9，同时适应性修改权利要求的引用关系和序号。复审请求人认为：修改后的权利要求与对比文件1具有区别一：不同的所述面成像传感器具有相同光学视场，区别二：当面成像传感器形成的图像失真时，表示测温位置区域的温度超出该传感器的测温区间，从而可以由另一通道的面成像传感器进行光谱辐射强度的探测。本申请实际要解决的技术问题是：如何实现对大温度梯度物体温度场的动态测量，而对比文件1实际要解决的技术问题是如何提高对实际温度分布的理解，这与本申请要解决的技术问题没有任何联系，对比文件1并没有给出任何相关启示；针对区别一，对比文件1中采用的是一个探测器，而本申请采用多个探测器，并且位置不同，但光学视场相同，对比文件2中是将目标聚焦为一点，点测量，视野为点，而本申请为面观察，形成的是光学视场；针对区别二，本申请的整个辐射测量设备具有一个大跨度的温度范围，通过多个面成像传感器进行辐射强度信号的同步采集，也可以灵活调整，实现对目标物体的多通道成像测量，测量范围并不局限于固定的范围；对比文件1中的辐射光源是两种波长，而本申请是对于多种波长测量，针对的对象不同；对比文件2是采用高、中温高速比色红外传感器分布采集短波、长波两波段的温度信号，提高温度测量精度；另外，对比文件2中的传感器组与本申请中的多个面成像传感器相比：采用的元件不同，使用目的不同；对中温、高温分别提取，并调理成电流信号输出，通过取样电路转换为模拟电压信号输出，并通过多通道数据采集进行采样、储存、处理，即技术手段方面不同；其通过中温、高温区红外测温双比色、快速响应特性，提高了测试精度，而本申请是实现对大温度梯度物体温度场的动态测量，效果不同。因此，对比文件2并没有给出相应启示。本申请的独立权利要求和从属权利要求均具备创造性。
复审请求时新修改的权利要求书如下：
“1. 一种基于调频辐射光源的多传感器成像温度场测量装置，其特征在于，包括：朝向待测物体的辐射测量设备和调频辐射光源；所述辐射测量设备包括多个不同光谱响应波段的面成像传感器；
其中，所述不同光谱响应波段的面成像传感器对应不同的温度测量范围；所述辐射测量设备的温度测量范围为多个所述面成像传感器的温度测量范围的叠加；不同的所述面成像传感器具有相同光学视场；
所述辐射测量设备用于在所述调频辐射光源关闭的状态下通过不同的面成像传感器探测得到所述待测物体的预设位置辐射的第一辐射强度以及在所述调频辐射光源开启的状态下通过不同的面成像传感器探测得到第二辐射强度；其中，所述第二辐射强度为所述调频辐射光源发出的经待测物体反射的辐射强度和所述待测物体预设位置的辐射强度之和；当面成像传感器形成的图像失真时，表示测温位置区域的温度超出该传感器的测温区间，从而可以由另一通道的面成像传感器进行光谱辐射强度的探测；
所述待测物体的预设位置的辐射温度为根据所述第一辐射强度、所述第二辐射强度以及所述调频辐射光源自身的辐射强度确定的。
2. 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，不同的所述面成像传感器的成像像素在空间上一一对应。
3. 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：带通滤光片，所述带通滤光片设置在所述面成像传感器的辐射信号采集入口处。
4. 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述面成像传感器的采集频率是所述调频辐射光源的调制频率的偶数倍；
其中，所述调频辐射光源的调制频率为所述调频辐射光源开启或关闭的频率。
5. 一种基于调频辐射光源的多传感器成像温度场测量方法，其特征在于，包括：利用朝向待测物体的辐射测量设备和调频辐射光源；所述辐射测量设备包括多个不同光谱响应波段的面成像传感器；其中，所述不同光谱响应波段的面成像传感器对应不同的温度测量范围；所述辐射测量设备的温度测量范围为多个所述面成像传感器的温度测量范围的叠加；不同的所述面成像传感器具有相同光学视场；
所述方法包括：
在所述调频辐射光源关闭的状态下，通过不同的面成像传感器探测得到所述待测物体的预设位置辐射的第一辐射强度；
在所述调频辐射光源开启的状态下，通过不同的面成像传感器探测得到所述待测物体的预设位置辐射的第二辐射强度；其中，所述第二辐射强度为所述调频辐射光源发出的经待测物体反射的辐射强度和所述待测物体预设位置的辐射强度之和；当面成像传感器形成的图像失真时，表示测温位置区域的温度超出该传感器的测温区间，从而可以由另一通道的面成像传感器进行光谱辐射强度的探测；
根据所述第一辐射强度、所述第二辐射强度以及所述调频辐射光源自身的辐射强度确定所述待测物体的预设位置的辐射温度。
6. 根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据第一辐射强度、所述第二辐射强度度以及所述调频辐射光源自身的辐射强度确定所述待测物体的预设位置的辐射温度，具体采用以下公式进行计算：
其中，T是任一像素所对应的物体表面测量位置区域的温度；N是面成像传感器的数量；λi、λi Δλi是第i个传感器通道的响应波段起始、终止波长；Δλi是通道响应的波段带宽；ηi是第i个传感器的增益；Vi，1表示在调频辐射光源关闭状态下，第i个传感器通道测量输出的有效辐射强度信号，即第一辐射强度；Vi，2表示在调频辐射光源开启状态下，第i个传感器通道测量输出的有效辐射强度信号，即第二辐射强度；εi表示在第i个传感器光谱通道的物体表面测量位置区域的发射率；Ib(λ，T)表示在与物体表面测量位置区域具有相同温度的黑体光谱辐射强度，是温度T、波长λ的函数；Ie(λ)是调频辐射光源开启状态时自身的光谱辐射强度。
7. 根据权利要求5所述的方法，其特征在于，不同的所述面成像传感器的成像像素在空间上一一对应。
8. 根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述面成像传感器的辐射信号采集入口处设有带通滤光片。”
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年11月22日依法受理了该复审请求，并将其转送至原专利实质审查部门进行前置审查。
原专利实质审查部门在前置审查意见书中坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年08月08日向复审请求人发出复审通知书，采用的对比文件与驳回决定中引用的两篇对比文件相同，指出：（1）、权利要求1与对比文件1的区别在于：本申请采用调频辐射光源，对应设置多个不同光谱响应波段的面成像传感器，不同的面成像传感器具有相同的光学视场、对应不同的温度测量范围，辐射测量设备的测量范围为多个传感器测量范围的叠加，当面成像传感器形成的图像失真时，表示测温位置区域的温度超出该传感器的测温区间，从而可以由另一通道的面成像传感器进行光谱辐射强度的探测。对比文件2给出了使用不同响应波段的传感器进行组合以增大辐射测温测量范围、并且两个传感器对准目标以实现精准测量的技术启示，本领域技术人员在此启示下结合公知常识获得该权利要求的技术方案是显而易见的，因此权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）、权利要求2-4的附加技术特征部分被对比文件1公开，部分属于惯用手段，因此也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（3）、权利要求5、7、8是分别对应于权利要求1-3的方法权利要求，对于权利要求6的附加技术特征，对比文件1给出了相关启示，因此，权利要求5-8也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。同时针对复审请求人的意见陈述进行了答复。
复审请求人于2019年09月19日提交了意见陈述书，未修改申请文件。复审请求人陈述了权利要求具备创造性的理由。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
复审请求人在答复复审通知书时没有修改申请文件，本复审请求审查决定所依据的审查文本为：2018年11月06日提交的权利要求第1-8项；申请日2016年12月06日提交的说明书第1-13页、说明书附图第1页、说明书摘要、摘要附图。
（二）关于专利法第22条第3款规定的创造性
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征，该区别技术特征的一部分被其他对比文件公开且给出了相关启示，其余部分是本领域技术人员在最接近的现有技术公开内容的基础上结合本领域的惯用技术手段容易想到的，则该权利要求所请求保护的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，该权利要求不具备创造性。
具体到本案：
1、权利要求1请求保护一种基于调频辐射光源的多传感器成像温度场测量装置，对比文件1公开了一种基于双波长辐射光源的辐射热成像测温方法和装置（参见第183-185页），测温装置包括：发射双波长的辐射光源和朝向待测物体的红外摄像机（相当于辐射测量设备，为面成像传感器）； 红外摄像机在辐射光源两种开关状态下对待测物体的待测表面（相当于预设位置）进行测量，用于在所述辐射光源关闭的状态下测量所述待测物体的辐射的第一辐射强度，，以及在所述辐射光源开启的状态下测量的第二辐射强度，，即所述第二辐射强度为所述辐射光源发出的经待测物体反射的辐射强度和所述待测物体的待测表面的辐射强度之和；通过上述过程获得待测表面的温度，即所述待测物体的辐射温度是根据所述第一辐射强度、所述第二辐射强度和所述辐射光源自身的辐射强度确定的；在红外摄像机的辐射信号采集入口处设置相应的滤光片将待测波长光引入红外摄像机，而且在探测过程中红外摄像机的位置不变，即视场不改变。
该权利要求相对于对比文件1的区别在于：本申请采用调频辐射光源，对应设置多个不同光谱响应波段的面成像传感器，不同的面成像传感器具有相同的光学视场、对应不同的温度测量范围，辐射测量设备的测量范围为多个传感器测量范围的叠加，当面成像传感器形成的图像失真时，表示测温位置区域的温度超出该传感器的测温区间，从而可以由另一通道的面成像传感器进行光谱辐射强度的探测。
基于上述区别技术特征该申请实际要解决的技术问题是如何实现对大温度梯度物体温度场的动态测量。对比文件2公开了一种火炮高速比色红外测温装置及方法，并公开了（参见说明书第1-3页、附图2）：根据火炮发射过程中温度参量具有瞬态、脉冲式等热冲击特性，其温度测试系统必须具有更宽的量程范围，因此其采用中温高速比色红外温度传感器和高温高速比色红外温度传感器，中温高速比色红外温度传感器为中心波长为1.35um和1.60um的两波段红外探测器，对400-1000℃温度范围的信号进行提取，高温高速比色红外温度传感器采用中心波长为0.96um和1.06um的两波段红外探测器，对900-2500℃温度范围的信号进行提取（参见说明书第1-2页），二者具有不同响应波段，其测温范围相叠加，以增大温度装置的测量范围；在机械安装与瞄准过程中，使目标尽可能在目镜小黑点的中央，并尽可能充满小黑点，使目标聚焦清晰（参见说明书第3页）。可见对比文件2给出了使用不同响应波段的传感器进行组合以增大辐射测温测量范围、并且两个传感器对准目标以实现精准测量的技术启示，本领域技术人员在此启示下有动机在对比文件1设置多个不同光谱响应波段的面成像传感器，以对应不同的温度范围，从而增大辐射测温设备的测量范围，使得应用更广泛，并且针对对比文件1中的多个面成像传感器使得其光学视场相同以对准待测物体的待测表面进行测量，使得测量精准；而采用对某一波长辐射信号进行采集或对某一波段辐射信号进行采集以得到相应的辐射强度则是本领域技术人员根据需要可以选择的；另外，本领域技术人员熟知当待测温度超出传感器的测量范围时，其误差会骤然增大，从而会针对待测物体温度选择合适测量范围的仪器或设备，对于面成像传感器而言增大的误差必然会导致面成像传感器形成的图像失真，因此在图像失真的情况下选择另一通道的传感器进行探测也是本领域的常用手段。也就是说，在对比文件1的基础上结合对比文件2和公知常识获得该权利要求的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，因此权利要求1不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2、权利要求2-4均引用权利要求1，对比文件1公开了在红外摄像机的辐射信号采集入口处设置相应的滤光片将待测波长光λ1、λ2引入红外摄像机，而且在探测过程中，其光场相同，像素对应关系不变，同时每次采集对应着打开辐射光源和关闭辐射光源两种状态，故采集频率是辐射光源开启或关闭频率的两倍。本领域技术人员在对比文件1中设置多个面成像传感器增大测温范围的同时也会使得各个面成像传感器的成像像素在空间上一一对应以确保光学视场相同从而使得其均对准待测物体的待测表面实现对同一目标的精准测量。因此在权利要求1不具备创造性的前提下，权利要求2-4也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、 权利要求5、7、8是分别对应于权利要求1-3的方法权利要求，基于前面的评述，权利要求1-3所请求保护的测量装置相对于对比文件1和2及公知常识不具备创造性，而采用上述测量装置实现对待测物体的温度进行测量的方法也是基于惯用手段容易实现的，因此，权利要求5、7、8相对于对比文件1和2及公知常识不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
4、 权利要求6引用权利要求5，对比文件1公开了：红外摄像机在辐射光源两种开关状态下对待测物体的待测表面进行测量，用于在所述辐射光源关闭的状态下测量所述待测物体的辐射的第一辐射强度，，以及在所述辐射光源开启的状态下测量的第二辐射强度，，其中，和是待测表面的发射率，是待测物体待测表面的温度，和是待测物体对应于两个波长在温度T时的黑体辐射强度，是与温度和波长相关的，和是待测物体的待测表面的反射率，，即，和是辐射光源开启状态时自身的光谱辐射强度。对比文件1采用的是双波长辐射光源，对应的红外摄像机也是对相应的波长信号进行采集，对应的公式也是单波长的表达方式。当本领域技术人员根据精度需求而使用波段光测量时必然将该波段内各波长的光辐射强度进行积分以获得波段内各波长光辐射强度的总量。因此在引用的权利要求不具备创造性时，该权利要求6也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对复审请求人相关意见的评述
复审请求人认为：
权利要求1与对比文件1具有区别：（1）不同的所述面成像传感器具有相同光学视场；（2）辐射测量设备包括多个不同光谱响应波段的面成像传感器，当面成像传感器形成的图像失真时，表示测温位置区域的温度超出该传感器的测温区间，从而可以由另一通道的面成像传感器进行光谱辐射强度的探测。本申请相对于对比文件1实际要解决的技术问题是：如何实现对大温度梯度物体温度场的动态测量，而对比文件1实际要解决的技术问题是如何在测量温度的过程中消除发射率的影响，没有对本申请给出相关启示。
针对上述区别特征（1）-（2），本申请的多个面成像传感器温度测量范围叠加为辐射测试设备的温度测量范围，具有一个大跨度的温度范围，在一个面成像传感器形成图像失真后，会通过另一通道的面成像传感器进行探测，可以灵活调整，进一步，测量第一、第二辐射强度时可以采用不同或相同的面成像传感器，温度测量的范围不局限于固定的范围，能够实现对目标物体的多通道成像测量。对比文件1中使用相应的滤波器将待测的波长光引入探测器，由于探测器位置不变，视场不变，测得两种波长的反射率，从而获得温度和发射率，进一步实现在测量温度的过程中消除发射率的影响。对比文件2中通过两个传感器使目标尽可能在两台传感器目镜的小黑点的中央，即将目标聚焦为一点，点测量，对中温、高温分别提取，并调理成电流信号输出，通过取样电路转换为模拟电压信号输出，并通过多通道数据采集进行采样、储存、处理，而且中、高温高速比色红外温度传感器温度测量范围是固定的范围，具有快速响应特性，提高了测试精度，不同于本申请中多个面成像传感器融合成像测量方案。因此，对比文件1和2没有给出相关启示。
本申请的有益效果是：通过多个不同光谱响应波段的面成像传感器，在调频辐射光源开启和关闭两种状态下分别探测待测物体的辐射强度，实现在未知发射率情形下的温度场非接触在线测量，克服了现有辐射温度测试方法对发射率数据的依赖性、发射率假设模型的局限性缺陷；由于不同光谱响应波段的面成像传感器对应不同的温度测量范围，克服了现有辐射温度测试方法测温范围有限性和测温光谱局限性的缺陷，实现了对大温度梯度物体温度场的动态测量。因此本申请的独立权利要求和从属权利要求均具备创造性。
对此，合议组认为：
对于本申请实际要解决的技术问题，虽然对比文件1实际要解决的技术问题是如何在测量过程中消除发射率的影响，但是并不排除本领域技术人员根据现有技术或其所具备的基本技能而对其进行其他方面改进的可能性，尤其是根据待测物体的温度范围或跨度选择合适的红外传感器以确保其测量结果的合理性和准确性问题是本领域技术人员在实施上述方案时所必须要考虑的，本领域技术人员在对具有大温度梯度的物体进行温度测量时，自然会考虑如何保证其设备的测量范围能覆盖其温度跨度，而且对比文件2也给出了对于具有脉冲式热冲击特性的物体通过不同温度测量范围的传感器进行叠加以获得更宽的量程范围的启示。
对于复审请求人认定的区别技术特征（1），对比文件1中的红外摄像机在辐射光源关闭、以及开启状态发出两种不同波长的光的探测过程中，其位置不变，光场相同，像素对应关系不变，即针对同一待测物体的待测表面进行探测，并且采用的是面成像传感器；对比文件2中的两种传感器在机械安装和瞄准过程中，使目标尽可能在目镜小黑点的中央，并尽可能充满小黑点，使目标整体聚焦清晰，测量准确，其所针对的是目标整体，并非点测量，其目的也是为了确保两种传感器针对相同的目标进行测量，从而使得测量结果精准，测温的过程针对同一目标进行测量其结果才能准确，才有价值，即不论是同一传感器在不同波长进行测量的情况下还是采用不同传感器对同一目标进行温度测量的过程中，均需要视场一致。
对于复审请求人认定的区别技术特征（2），虽然对比文件1中采用双波长辐射光源，但是其作用同样是提供辐射光源，以基于辐射光源关闭和开启状态下获得的辐射强度，以及辐射光源开启时自身的光谱辐射强度为已知量的特点，来消除物体待测表面发射率未知的影响，从而使得测量的温度更为准确，而采用调频辐射光源并对应使得传感器对相应的波段光进行测量则是基于需要可以选择的；对比文件2中的红外传感器的类型和处理过程与本申请不同，并没有影响，其所给出的启示在于采用不同波段的传感器，其测温范围不同，相互叠加从而扩大测量范围，从对比文件2的附图中可以看出，中温和高温红外传感器的测量范围叠加从而获得了大跨度的温度测量范围，另外中温和高温红外传感器的测量范围是有重叠的，即对于重叠区域的温度可以采用中温或高温或二者同时测量的数据，也可以实现灵活调整，实现对目标物体的多通道测量，而这也是本领域技术人员根据启示结合实际需要容易想到将其应用于对比文件1中并容易实现的，并且待测温度与设备的量程相适应以确保结果精准也是惯用手段，当待测温度超出传感器的测量范围时，其误差会骤然增大，对于面成像传感器而言增大的误差必然会导致面成像传感器形成的图像失真，因此在图像失真的情况下选择另一通道的传感器进行探测也是本领域技术人员根据惯用手段容易想到和实现的，也就是说对比文件2给出了解决本申请所实际要解决的技术问题的启示。
对于复审请求人所强调的有益技术效果，在对比文件1和2中已分别有所体现，对比文件1通过在调频辐射光源开启和关闭两种状态下分别探测待测物体的辐射强度，实现在未知发射率情形下的温度场非接触在线测量；对比文件2通过中温和高温红外传感器的测量范围叠加从而获得了大跨度的温度测量范围，实现对目标物体的多通道测量。在对比文件1的基础上结合对比文件2和惯用手段得到该申请的权利要求对本领域技术人员是显而易见的，相应的技术效果也是可以预见的。
因此，复审请求人所提出的权利要求具备创造性的理由不能被接受。
基于上述事实和理由，合议组依法作出如下审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年08月28日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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