发明创造名称：液晶显示面板及其制作方法
外观设计名称：
决定号：199465
决定日：2020-01-06
委内编号：1F272747
优先权日：
申请（专利）号：201510612554.1
申请日：2015-09-22
复审请求人：武汉华星光电技术有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：杨婷
合议组组长：彭予泓
参审员：李闻
国际分类号：G02F1/1333,G02F1/1335
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术公开的技术方案之间具有区别技术特征，但该区别技术特征属于本领域的惯用技术手段，则该权利要求请求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201510612554.1、名称为“液晶显示面板及其制作方法”的发明专利申请（下称本申请），其申请日为2015年09月22日，公开日为2015年12月02日，申请人为武汉华星光电技术有限公司。
国家知识产权局专利实质审查部门于2018年11月01日驳回了本申请。驳回理由是：本申请权利要求1-6不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所针对的文本为：2018年06月05日提交的权利要求第1-6项，申请日2015年09月22日提交的说明书第1-5页、说明书附图第1-2页、说明书摘要及摘要附图。
驳回决定中引用了如下对比文件：
对比文件1：CN104777677A，公开日为2015年07月15日。
驳回决定针对的权利要求书如下：
“1. 一种液晶显示面板，其特征在于，包括：阵列基板(1)、与所述阵列基板(1)相对设置的彩膜基板(2)、及夹设于所述阵列基板(1)与彩膜基板(2)之间的液晶层(3)；
所述阵列基板(1)包括：衬底基板(11)、设于所述衬底基板(11)上的TFT层(12)、设于所述TFT层(12)上的平坦层(13)、及设于所述平坦层(13)上的像素电极层(14)；
所述平坦层(13)中掺杂有能够吸收短波蓝光的UV吸收剂(5)；
所述UV吸收剂(5)包括苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种；
所述UV吸收剂(5)能够完全吸收420nm以下波段的蓝光，部分吸收420nm～450nm波段的蓝光；
所述平坦层(13)的主体材料为光阻。
2. 如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜基板(2)包括衬底基板、及设于所述衬底基板上的色阻层与黑色矩阵。
3. 如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，还包括设于所述阵列基板(1)下表面的下偏光片(4)、以及设于所述彩膜基板(2)上表面的上偏光片(6)。
4. 一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供一衬底基板(11)，在所述衬底基板(11)上制作TFT层(12)；
步骤2、在所述TFT层(12)上制作平坦层(13)，所述平坦层(13)中掺杂有用于吸收短波蓝光的UV吸收剂(5)；
步骤3、在所述平坦层(13)上制作像素电极层(14)，制得阵列基板(1)；
步骤4、制作彩膜基板(2)，将彩膜基板(2)与阵列基板(1)对组，并灌入液晶形成液晶层(3)，制得液晶显示面板；
所述UV吸收剂(5)包括苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种；
所述UV吸收剂(5)能够完全吸收420nm以下波段的蓝光，部分吸收420nm～450nm波段的蓝光；
所述平坦层(13)的主体材料为光阻。
5. 如权利要求4所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板(2)包括衬底基板、及设于所述衬底基板上的色阻层与黑色矩阵。
6. 如权利要求4所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，还包括：步骤5、在所述阵列基板(1)的下表面贴附下偏光片(4)，在所述彩膜基板(2)的上表面贴附上偏光片(6)。”
驳回决定中指出：1、独立权利要求1与对比文件1的区别技术特征是：（1）本申请是液晶显示面板，还包括与所述阵列基板相对设置的彩膜基板及夹设于所述阵列基板与彩膜基板之间的液晶层，设于所述平坦层上的像素电极层；（2）所述UV吸收剂包括苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种；所述UV吸收剂能够完全吸收420nm以下波段的蓝光，部分吸收420nm～450nm波段的蓝光；（3）所述平坦层的主体材料为光阻。上述区别技术特征均属于本领域的惯用技术手段。因此，权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。2、从属权利要求2-3均引用了权利要求1，它们的附加技术特征属于本领域的惯用技术手段，因此权利要求2-3也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。3、独立权利要求4与对比文件1的区别技术特征是：（1）本申请是液晶显示面板的制作方法，还包括在所述平坦层上制作像素电极层，制得阵列基板；制作彩膜基板，将彩膜基板与阵列基板对组，并灌入液晶形成液晶层，制得液晶显示面板；（2）所述UV吸收剂包括苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种；所述UV吸收剂能够完全吸收420nm以下波段的蓝光，部分吸收420nm～450nm波段的蓝光；（3）所述平坦层的主体材料为光阻。上述区别技术特征均属于本领域的惯用技术手段。因此，权利要求4不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（4）从属权利要求5-6均引用了权利要求4，它们的附加技术特征属于本领域的惯用技术手段，因此权利要求5-6也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人武汉华星光电技术有限公司（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年01月30日向国家知识产权局提出了复审请求，同时提交了权利要求书的全文修改替换页，具体修改涉及：将从属权利要求3、6的附加技术特征分别加入独立权利要求1、4之中，删除从属权利要求3、6，同时适应性修改了权利要求的编号和引用关系。
修改后的权利要求书如下：
“1. 一种液晶显示面板，其特征在于，包括：阵列基板(1)、与所述阵列基板(1)相对设置的彩膜基板(2)、及夹设于所述阵列基板(1)与彩膜基板(2)之间的液晶层(3)；
所述阵列基板(1)包括：衬底基板(11)、设于所述衬底基板(11)上的TFT层(12)、设于所述TFT层(12)上的平坦层(13)、及设于所述平坦层(13)上的像素电极层(14)；
所述平坦层(13)中掺杂有能够吸收短波蓝光的UV吸收剂(5)；
所述UV吸收剂(5)包括苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种；
所述UV吸收剂(5)能够完全吸收420nm以下波段的蓝光，部分吸收420nm～450nm波段的蓝光；
所述平坦层(13)的主体材料为光阻；
所述液晶显示面板还包括设于所述阵列基板(1)下表面的下偏光片(4)、以及设于所述彩膜基板(2)上表面的上偏光片(6)。
2. 如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜基板(2)包括衬底基板、及设于所述衬底基板上的色阻层与黑色矩阵。
3. 一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供一衬底基板(11)，在所述衬底基板(11)上制作TFT层(12)；
步骤2、在所述TFT层(12)上制作平坦层(13)，所述平坦层(13)中掺杂有用于吸收短波蓝光的UV吸收剂(5)；
步骤3、在所述平坦层(13)上制作像素电极层(14)，制得阵列基板(1)；
步骤4、制作彩膜基板(2)，将彩膜基板(2)与阵列基板(1)对组，并灌入液晶形成液晶层(3)，制得液晶显示面板；
所述UV吸收剂(5)包括苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种；
所述UV吸收剂(5)能够完全吸收420nm以下波段的蓝光，部分吸收420nm～450nm波段的蓝光；
所述平坦层(13)的主体材料为光阻；
还包括：步骤5、在所述阵列基板(1)的下表面贴附下偏光片(4)，在所述彩膜基板(2)的上表面贴附上偏光片(6)。
4. 如权利要求3所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板(2)包括衬底基板、及设于所述衬底基板上的色阻层与黑色矩阵。”
复审请求人指出：（1）对比文件1的衬底基板上的ITO即为像素电极，其保护层/平坦层设置于像素电极之上，而本申请的平坦层设置于像素电极与TFT之间，二者结构不同。另外，对比文件1的取向层（PI层）设置在保护层/平坦层之上，对比文件1通过保护层/平坦层将透过PI膜的紫外光吸收掉或者将其转化为无法对PI膜取向的红光或者蓝光，从而保证良好的取向效果。也就是说，对比文件1中的取向层起到偏光、光取向的作用，也就相当于偏光片。而本申请的下偏光片设于阵列基板下表面、以及上偏光片设于彩膜基板上表面，这与对比文件1的结构设置也不相同。可见，对比文件1与本申请的阵列基板的结构具有显著差异。（2）对比文件1解决的技术问题是在光配向膜的光取向过程中，如何防止反射的UV 重复取向而导致微观范围内取向紊乱，锚定效果下降的现象发生，且避免UV 照射TFT 导致TFT 性能变差及信赖性下降。也即是说，对比文件1设置紫外线吸收剂的技术效果是吸收紫外光。而本申请所要解决的技术问题是如何使液晶显示面板能够有效的过滤短波蓝光，降低短波蓝光对人眼的危害，也即是说，本申请设置UV吸收剂的技术效果是吸收蓝光，由此可见，本申请与对比文件1的技术问题和技术效果均不相同，即二者的技术方案不同。并且，虽然对比文件1公开了苯并三唑及其衍生物的有效吸收光波长的范围可以达到300nm-400nm，如果通过加入磺酸基还可以改变其吸收波长范围向蓝光迁移，然而由于对比文件1的紫外线吸收剂用于吸收紫外线，因此本领域技术人员难以利用该技术启示用于完全吸收420nm以下波段的蓝光以及部分吸收420nm ~ 450nm波段的蓝光，从而得到本申请的技术方案。此外，对比文件1并未公开保护层和/或平坦层的具体材料，无法给出平坦层材料的技术启示。本申请的平坦层的主体材料为光阻，且平坦层中掺杂有能够吸收短波蓝光的UV吸收剂，在平坦层中，光阻材料和UV吸收剂能够很好地结合在一起，使得所述平坦层能够吸收短波蓝光，能够降低短波蓝光对人眼的危害，避免长期使用显示设备引起的视觉疲劳和慢性损伤，且不会影响画面显示效果，对比文件1并未公开上述技术特征，也无法给出相应的技术启示，这也并非本领域的惯用技术手段，在没有技术启示的情况下，本申请的技术方案需要本申请技术人员付出创造性劳动才能实现。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年02月11日依法受理了该复审请求，并将其转送至原专利实审审查部门进行前置审查。
国家知识产权局原专利实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年08月28日向复审请求人发出了复审通知书，指出：1、独立权利要求1与对比文件1相比，区别在于：（1）显示面板包括相对设置的阵列基板、彩膜基板，液晶层是夹设于二者之间的，还包括设于阵列基板下表面的下偏光片、以及设于彩膜基板上表面的上偏光片；还包括设于平坦层上的像素电极层，所述平坦层的主体材料为光阻；（2）UV吸收剂包括苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种，能够吸收短波蓝光，具体能够完全吸收420nm以下波段的蓝光，部分吸收420nm～450nm波段的蓝光。其中，区别技术特征（1）是本领域的惯用技术手段；区别技术特征（2）是本领域技术人员在对比文件1的基础上结合本领域的惯用技术手段容易得到的。因此，权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。2、从属权利要求2的附加技术特征属于本领域的惯用技术手段，因此权利要求2也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。3、独立权利要求3与对比文件1相比，区别在于：（1）显示面板包括相对设置的阵列基板、彩膜基板，液晶层是夹设于二者之间的，还包括设于阵列基板下表面的下偏光片、以及设于彩膜基板上表面的上偏光片；还包括设于平坦层上的像素电极层，所述平坦层的主体材料为光阻。（2）UV吸收剂包括苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种，能够吸收短波蓝光，具体能够完全吸收420nm以下波段的蓝光，部分吸收420nm～450nm波段的蓝光。（3）形成液晶面板的具体制作步骤。其中，区别技术特征（1）是本领域的惯用手段；区别技术特征（2）是本领域技术人员在对比文件1的基础上结合本领域的惯用技术手段容易得到的；区别技术特征（3）属于本领域的常规制造工艺。因此，权利要求3不具备专利法第22条第3款规定的创造性。4、从属权利要求4的附加技术特征属于本领域的惯用技术手段，因此权利要求4也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。5、合议组针对复审请求人的意见陈述进行了答复。
针对上述复审通知书，复审请求人于2019年09月19日提交了意见陈述书，未对申请文件进行修改，仅陈述了权利要求1-4具备创造性的理由。
在以上审查程序的基础上，合议组认为，本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
复审请求人于2019年01月30日提出复审请求时提交了权利要求书的全文修改替换页，经审查，上述修改符合专利法第33条的规定。本复审通知书针对的文本是：2019年01月30日提交的权利要求第1-4项、申请日2015年09月22日提交的说明书第1-5页、说明书附图第1-2页、说明书摘要及摘要附图。
（二）关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术公开的技术方案之间具有区别技术特征，但该区别技术特征属于本领域的惯用技术手段，则该权利要求请求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，不具备创造性。
具体到本案：
1．权利要求1请求保护一种液晶显示面板。对比文件1公开了一种显示基板及制作方法、显示装置，并具体公开以下技术特征（参见说明书第25段至第61段、附图1-2，4）：所述显示基板为阵列基板或彩膜基板，当显示基板为阵列基板时，其包括衬底基板和设置在衬底基板上的取向层、设置在衬底基板和取向层之间的保护层、位于所述衬底基板和所述保护层之间的薄膜晶体管（即TFT层）；其中，保护层可以与平坦层（OC）一体形成，保护层为掺杂有紫外光吸收材料（即UV吸收剂）的平坦层（OC），紫外光吸收材料可以为紫外线吸收剂UVP-327，可以包括水杨酸苯酯及其衍生物，其有效吸收光波长范围可以达到 290-320nm，还可以包括苯并三唑及其衍生物，其有效吸收光波长的范围可以达到300nm-400nm，并且通过加入磺酸基还可以改变其吸收波长范围向蓝光迁移。显示装置（隐含公开了显示面板）包括上述显示基板。由于上述显示基板上具有取向膜、需要取向后才能进行显示，则本领域技术人员可以直接地、毫无疑义地确定该显示装置的工作介质是液晶，相应的显示面板为液晶显示面板。
该权利要求与对比文件1相比，区别在于：（1）显示面板包括相对设置的阵列基板、彩膜基板，液晶层是夹设于二者之间的，还包括设于阵列基板下表面的下偏光片、以及设于彩膜基板上表面的上偏光片；还包括设于平坦层上的像素电极层，所述平坦层的主体材料为光阻；（2）UV吸收剂包括苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种，能够吸收短波蓝光，具体能够完全吸收420nm以下波段的蓝光，部分吸收420nm～450nm波段的蓝光。
基于上述区别技术特征，权利要求1实际解决的技术问题是：形成液晶显示面板、选择吸收蓝光的波段。
对于区别技术特征（1），液晶显示面板包括与阵列基板相对设置的彩膜基板及夹设于阵列基板与彩膜基板之间的液晶层、在阵列基板和彩膜基板的表面分别设置下偏光片、上偏光片、平坦层上设置像素电极层、平坦层主体材料选择光阻均为液晶显示面板的常规结构，属于本领域的惯用技术手段。
对于区别技术特征（2），液晶显示器出射的蓝光对人眼有危害，并且防止短波蓝光对人眼的危害是显示领域公知的、普遍存在的需要解决的技术问题。对比文件1已经公开了平坦层中设置紫外线吸收剂，并且紫外线吸收剂可以包括苯并三唑及其衍生物，其有效吸收光波长的范围可以达到300nm-400nm，如果通过加入磺酸基还可以改变其吸收波长范围“向蓝光迁移”。基于此，本领域技术人员容易想到将对比文件1中的紫外线吸收剂的吸收波长范围向蓝光迁移时，迁移到“短波蓝光”的波长范围以过滤短波蓝光。并且，本领域技术人员根据其掌握的技术常识知晓：波长450nm以下的短波蓝光对人眼有伤害，其中以波长420nm以下蓝光的伤害更为明显。因此，本领域技术人员相应可以将紫外线吸收剂设置为420nm以下的波段的蓝光完全吸收；而对于420-450nm的蓝光，如果将之全部吸收，可能引起显示装置产生明显色偏，因此对其进行部分吸收为佳。同时，苯酮类化合物也是本领域常用的UV吸收剂成分，本领域技术人员可以根据实际需要选用苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种。可见，区别技术特征（2）是本领域技术人员在对比文件1的基础上结合本领域的惯用技术手段容易得到的。
可见，在对比文件1的基础上结合本领域的惯用技术手段得到该权利要求所要求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的。因此，权利要求1不具备突出的实质性特点与显著的进步，不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
2．权利要求2引用了权利要求1。然而，彩膜基板包括衬底基板、及设于所述衬底基板上的色阻层与黑色矩阵是显示面板的常规结构，属于本领域的惯用技术手段。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，该权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3．权利要求3请求保护一种液晶显示面板的制作方法。对比文件1公开了一种显示基板及制作方法、显示装置，并具体公开以下技术特征（参见说明书第25段至第61段、附图1-2，4）：所述显示基板为阵列基板或彩膜基板，当显示基板为阵列基板时，该阵列基板包括衬底基板和设置在其上的取向层、设置在衬底基板和取向层之间的保护层、位于所述衬底基板和所述保护层之间的薄膜晶体管（即TFT层）；其中，保护层可以与平坦层（OC）一体形成，保护层为掺杂有紫外光吸收材料（即UV吸收剂）的平坦层（OC），紫外光吸收材料可以为紫外线吸收剂UVP-327，可以包括水杨酸苯酯及其衍生物，其有效吸收光波长范围可以达到 290-320nm，还可以包括苯并三唑及其衍生物，其有效吸收光波长的范围可以达到300nm-400nm，如果通过加入磺酸基还可以改变其吸收波长范围向蓝光迁移。显示装置（隐含公开了显示面板）包括上述显示基板。由于上述显示基板上具有取向膜、需要取向后才能进行显示，则本领域技术人员可以直接地、毫无疑义地确定该显示装置的工作介质是液晶，相应的显示面板为液晶显示面板。
该权利要求与对比文件1相比，区别在于：（1）显示面板包括相对设置的阵列基板、彩膜基板，液晶层是夹设于二者之间的，还包括设于阵列基板下表面的下偏光片、以及设于彩膜基板上表面的上偏光片；还包括设于平坦层上的像素电极层，所述平坦层的主体材料为光阻。（2）UV吸收剂包括苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种，能够吸收短波蓝光，具体能够完全吸收420nm以下波段的蓝光，部分吸收420nm～450nm波段的蓝光。（3）形成液晶面板的具体制作步骤。
基于上述区别技术特征，权利要求3实际解决的技术问题是：如何形成和制作液晶显示面板、如何选择吸收蓝光的波段。
对于区别技术特征（1），液晶显示面板包括与阵列基板相对设置的彩膜基板及夹设于阵列基板与彩膜基板之间的液晶层、在阵列基板和彩膜基板的表面分别设置下偏光片、上偏光片、平坦层上设置像素电极层、平坦层主体材料选择光阻均为液晶显示面板的常规结构，属于本领域的惯用技术手段。
对于区别技术特征（2），液晶显示器出射的蓝光对人眼有危害，并且防止短波蓝光对人眼的危害是显示领域公知的、普遍存在的需要解决的技术问题。对比文件1已经公开了平坦层中设置紫外线吸收剂，并且紫外线吸收剂可以包括苯并三唑及其衍生物，其有效吸收光波长的范围可以达到300nm-400nm，如果通过加入磺酸基还可以改变其吸收波长范围“向蓝光迁移”。基于此，本领域技术人员容易想到将对比文件1中的紫外线吸收剂的吸收波长范围向蓝光迁移时，迁移到“短波蓝光”的波长范围以过滤短波蓝光。并且，本领域技术人员根据其掌握的技术常识知晓：波长450nm以下的短波蓝光对人眼有伤害，其中以波长420nm以下蓝光的伤害更为明显。因此，本领域技术人员相应可以将紫外线吸收剂设置为420nm以下的波段的蓝光完全吸收；而对于420-450nm的蓝光，如果将之全部吸收，可能引起显示装置产生明显色偏，因此对其进行部分吸收为佳。同时，苯酮类化合物也是本领域常用的UV吸收剂成分，本领域技术人员可以根据实际需要选用苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种。可见，区别技术特征（2）是本领域技术人员在对比文件1的基础上结合本领域的惯用技术手段容易得到的。
对于区别技术特征（3），对应于液晶显示面板的结构，本领域技术人员根据其掌握的技术常识容易想到相应逐步地制作阵列基板上的各层结构、并与彩膜基板对组后灌入液晶形成液晶面板，属于本领域的常规制造工艺。
可见，在对比文件1的基础上结合本领域惯用技术手段得到该权利要求所要求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的。因此，权利要求3不具备突出的实质性特点与显著的进步，不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
4．权利要求4引用了权利要求3。然而，彩膜基板包括衬底基板、及设于所述衬底基板上的色阻层与黑色矩阵是显示面板的常规结构，属于本领域惯用技术手段。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，该权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（三）针对复审请求人意见陈述的答复
复审请求人认为：对比文件1公开的技术方案是在衬底基板（玻璃基板）和取向层（PI层）之间设置一个保护层，能够吸收UV或将UV转化为不能对PI层进行光取向的红光或蓝光，从而保证良好的取向效果。可见，对比文件1解决的技术问题是“如何提高取向层的光取向效果”；而本申请中，平坦层中掺杂有能吸收短波蓝光的UV吸收剂；所述UV吸收剂包括苯酮类化合物和苯并三唑类化合物中的至少一种，能够吸收短波蓝光，具体能够完全吸收420nm以下波段的蓝光，部分吸收420nm～450nm波段的蓝光。解决的技术问题是“如何降低短波蓝光对人眼的危害”。本申请针对于吸收显示面板本身发出的蓝光，而对比文件1针对于吸收或转化外界的紫外光。对比文件 1与本申请的技术方案完全不同，解决的技术问题也完全不同，并且对比文件1还公开了可以将紫外光转化为蓝光，这并不能给予本申请相应的技术启示。此外，虽然对比文件1公开了苯并三唑及其衍生物的有效吸收光波长的范围可以达到300-400nm，如果加入磺酸基还可以改变其吸收波长范围“向蓝光迁移”，但这也只是给予了通过在苯并三唑及其衍生物中加入磺酸基吸收外界蓝光的技术启示，而并不是于吸收显示面板本身发出的蓝光。对比文件1并未公开上述技术特征，也无法给出相应的技术启示，本申请的技术方案需要本领域技术人员付出创造性劳动才能得到，且本申请的技术方案既降低了短波蓝光对人眼的危害，又避免了画面颜色效果的严重破坏。因此，权利要求1具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。基于同样的理由，权利要求2-4也具备创造性。
对此，合议组认为：
虽然对比文件1的侧重点在于吸收紫外光以避免其反射之后对取向层产生不良影响，但其中毕竟明确公开了阵列基板的平坦层中掺杂有紫外吸收剂，其结构与本申请非常相似，并且对比文件1还公开了紫外吸收剂可以是苯并三唑及其衍生物，其有效吸收光波长的范围可以达到300nm-400nm，如果通过加入磺酸基还可以改变其吸收波长范围向蓝光迁移。这明确体现了对比文件1客观上具备吸收蓝光的能力、倾向和动机。同时，对比文件1公开了两种不同的技术方案：第一种方案是使用紫外光“吸收”材料形成保护层，能够将紫外光吸收掉；第二种方案是使用紫外线“转化”材料形成保护层，能够“将紫外光转化为蓝光”。然而，前面对于权利要求创造性的评述采用的是对比文件1的第一种方案，即：使用紫外光吸收材料的技术方案，其中，当紫外吸收剂的吸收波长向蓝光迁移时，其对蓝光是吸收的，这一点与本申请一致。并且，既然该紫外吸收剂能够吸收外界的紫外光和/或蓝光，则其客观上必然也能够吸收显示面板本身发出的紫外光和/或蓝光。
同时，如何防止短波蓝光对人眼的危害是显示领域公知的、普遍存在的技术问题。基于此，本领域技术人员容易想到将对比文件1中的紫外线吸收剂的吸收波长范围向蓝光迁移达到“短波蓝光”的波长范围。并且，本领域技术人员根据其掌握的技术常识知晓：波长450nm以下的短波蓝光对人眼有伤害，其中以波长420nm以下蓝光的伤害更为明显。因此，本领域技术人员相应可以将紫外线吸收剂设置为420nm以下的波段的蓝光完全吸收；而对于420-450nm的蓝光，如果将之全部吸收，可能引起显示装置产生明显色偏，因此对其进行部分吸收为佳。这是本领域技术人员在对比文件1的基础上容易想到和做到的。另外，对比文件1已经公开了在平坦层中掺杂紫外吸收剂，表明紫外吸收剂能够和平坦层很好地结合在一起，而光阻是平坦层的常用材料，本领域技术人员可以根据实际需要选用。这并不需要付出创造性劳动。
基于以上理由，复审请求人的意见陈述合议组不予支持。
根据以上事实和理由，本案合议组依法作出如下审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年11月01日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本复审请求审查决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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