发明创造名称：用于蚀刻含有铜和钛的多层膜的液体组合物、和使用该组合物的蚀刻方法、多层膜配线的制造方法、基板
外观设计名称：
决定号：199348
决定日：2019-12-31
委内编号：1F255079
优先权日：2013-04-12
申请（专利）号：201480007128.9
申请日：2014-03-31
复审请求人：三菱瓦斯化学株式会社
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：李家刚
合议组组长：倪永乐
参审员：王子瑜
国际分类号：C23F1/18，C11D7/08，C11D7/10，C11D7/26，C11D17/08，C23F1/26，H01L21/306
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第2、3款
决定要点
：在判断一项产品权利要求是否具备新颖性时，如果权利要求中包含制备方法特征，则应当考虑该制备方法是否导致产品具有某种特定的结构和\/或组成，如果所属技术领域的技术人员无法判断该制备方法带来了产品结构和\/或组成上的变化，而权利要求中的结构和\/或组成特征又已被对比文件公开，则认为产品不具备新颖性；在判断一项权利要求是否具备创造性时，首先将权利要求请求保护的技术方案与现有技术最接近的技术方案进行对比分析，确定二者之间的区别技术特征和实际要解决的技术问题，随后判断现有技术整体上是否给出将这些区别技术特征应用到该最接近的技术方案以解决技术问题的启示，如果现有技术整体上存在这种启示，并通过有限的试验可以得到该技术方案，则该技术方案不具备创造性。
全文：
本复审请求审查决定涉及申请号为201480007128.9，名称为“用于蚀刻含有铜和钛的多层膜的液体组合物、和使用该组合物的蚀刻方法、多层膜配线的制造方法、基板”的发明专利申请。申请人为三菱瓦斯化学株式会社。本申请的申请日为2014年03月31日，优先权日为2013年04月12日，公开日为2015年10月07日，进入国家阶段日为2015年07月31日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年03月19日发出驳回决定，驳回了本发明专利申请，其理由是：权利要求1-11相对于对比文件3（KR10-2011-00764568A,公开日为2011年7月6日）和本领域常规技术手段的结合不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。驳回决定所依据的文本为2018年1月10日提交的权利要求第1-11项、2015年7月31日提交的原始国际申请中文译文的说明书第1-136段、说明书附图、说明书摘要和摘要附图。驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种液体组合物，其为用于蚀刻多层膜的液体组合物，所述多层膜包含：由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层和由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层，所述液体组合物包含：
(A)马来酸根离子供给源、
(B)铜离子供给源、以及
(C)氟化物离子供给源，
pH值为0～7，
且所述(A)马来酸根离子供给源相对于所述(B)铜离子供给源的配混比以摩尔基准计为0.1～10，
所述(A)马来酸根离子供给源为选自由马来酸和马来酸酐组成的组中的至少一种，其浓度为0.01～5摩尔/kg，所述(B)铜离子供给源为选自由铜、硫酸铜、硝酸铜、氢氧化铜和氯化铜组成的组中的至少一种，其浓度为0.01～5摩尔/kg，且所述(C)氟化物离子供给源为选自由氢氟酸、氟化铵、酸式氟化铵和缓冲氢氟酸组成的组中的至少一种，其浓度为0.001～5摩尔/kg。
2. 根据权利要求1所述的液体组合物，其还包含(D)除了马来酸根离子之外的羧酸根离子供给源。
3. 根据权利要求2所述的液体组合物，其中，所述(D)除了马来酸根离子之外的羧酸根离子供给源为选自由醋酸、乙醇酸、丙二酸、琥珀酸、乳酸、柠檬酸和这些羧酸的盐、以及醋酸酐组成的组中的至少一种，其浓度为0～5摩尔/kg。
4. 根据权利要求1或2所述的液体组合物，其还包含(E)除了氟化物离子之外的卤化物离子供给源。
5. 根据权利要求4所述的液体组合物，其中，所述(E)除了氟化物离子之外的卤化物离子供给源为选自由盐酸、氢溴酸、氯化铵、氯化钾、氯化铜和溴化钾组成的组中的至少一种，其浓度为0～5摩尔/kg。
6. 根据权利要求1或2所述的液体组合物，其还包含pH调节剂。
7. 一种蚀刻方法，其为对多层膜进行蚀刻的方法，所述多层膜包含：由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层和由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层，所述蚀刻方法包括：使权利要求1～6中任一项所述的液体组合物接触该多层膜。
8. 根据权利要求7所述的蚀刻方法，其中，所述多层膜为将由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层与由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层进行层叠的双层膜。
9. 根据权利要求7所述的蚀刻方法，其中，所述多层膜为将钛或含钛作为主成分的化合物的层、由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层、以及由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层依次进行层叠的三层膜。
10. 一种多层膜配线的制造方法，其为在基板上制造多层膜配线的方法，所述多层膜配线至少包含：由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层和由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层，
在基板上设置由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层和由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层，从而形成多层膜，
在该多层膜上覆盖抗蚀剂，从而形成抗蚀膜，
通过对该抗蚀膜进行曝光和显影而形成规定的抗蚀图案，从而形成蚀刻对象物，
使权利要求1～6中任一项所述的液体组合物接触该蚀刻对象物，从而对该多层膜进行蚀刻来形成多层膜配线。
11. 一种基板，其为设置有多层膜配线的基板，所述多层膜配线至少包含：由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层和由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层，
所述基板使用权利要求10所述的多层膜配线的制造方法进行制造。”
驳回决定中认为：权利要求1请求保护的技术方案与对比文件3公开的内容相比，存在一些区别技术特征，但这些区别技术特征被对比文件3的其他技术方案公开或为本领域常规技术手段，因此得到权利要求1的技术方案是显而易见的，权利要求1不具有突出的实质性特点，不符合专利法第22条第3款的规定。权利要求2-11也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年06月29日向国家知识产权局提出了复审请求，但未修改权利要求书。复审请求人认为：（1）基于对比文件3选择得到本申请限定的马来酸根离子供给源是需要付出创造性劳动的，对比文件3第[0019]段未加区别地记载了有机酸的实例，基于该记载，本领域技术人员能够获得的启示是这些列举的有机酸带来的技术效果是等效的；（2）本申请限定的pH值并不能通过常规技术手段得到；（3）本申请限定的浓度范围及混配比不属于常规技术手段，由追加例可知，数学意义上的数值差异不大，却带来蚀刻效果的显著差异；（4）关于本申请中pH值为0-7以及（A）/（B）=0.1-10（以摩尔基准计）的关系，只有同时满足这二个要求，才能获得期望的蚀刻特性。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年07月13日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为，复审请求人的意见陈述没有说服力，因而坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理，合议组于2019年07月02日发出复审通知书，指出权利要求1-10不具备专利法第22条第3款规定的创造性，权利要求11不具备专利法第22条第2款规定的新颖性。针对复审请求人的上述意见，合议组认为：（1）对比文件3公开了有机酸的实例，且具体公开了有机酸可为马来酸，在此基础上，本领域技术人员有动机去尝试各种有机酸，并通过常规试验确定各种酸的效果，通常而言，基于对比文件3的记载，本领域技术人员只会得到这些有机酸均可使用的技术启示，而不会认为这些有机酸带来的技术效果是等效的，复审请求人认为这些不同有机酸能带来等效技术效果的依据和理由不足，实际上，复审请求人提供的效果数据也说明这一点，即这些有机酸带来不等效的技术效果，这符合本领域技术人员的普通认知；另外，关于对比文件3的实施例1使用了冰醋酸，并不能说明选择马来酸就是非显而易见的，对比文件3的实施例2还使用了丙烯酸，由对比文件3的实施例1和2，本领域的技术人员也可知晓其所列举的有机酸均可使用，因此自然也就有动机去选择列举的各种具体有机酸，包括马来酸，这对于本领域技术人员来说是显而易见的；（2）蚀刻液既可以为酸性，也可以为碱性，这是本领域技术人员的普遍认识，可以根据实际需要来选择蚀刻液的pH值是酸性还是碱性，在组合物的组分及含量确定的情况下，可以通过添加pH值调节剂来调节，对比文件3的pH值尽管为碱性，但本领域的技术人员在对比文件3公开内容的基础上，会考虑pH值为酸性时的情况，是采用酸性还是采用碱性，会从技术效果的角度去比较，并不会阻碍去选择酸性pH值，就本申请而言，多个实施例（pH值为酸性）中的蚀刻速度都劣于对比文件3的实施例1和2；（3）对比文件3公开了以重量浓度计的各组分含量范围，本申请记载了以摩尔浓度计的含量，二者之间虽然难以直接换算，但对比文件3显然给出了如何选择适宜的含量以满足蚀刻速度和稳定性的要求，对比文件3还探讨了铜离子、卤离子、有机酸对蚀刻速度和稳定性的影响（参见说明书第12、16和20段），即对比文件3要解决的技术问题包括蚀刻速度和蚀刻液的稳定性，而本申请的重点就在于蚀刻速度的改善，然而，如本申请的实施例1-5、7和10-11可知，其蚀刻速度显著低于对比文件3的实施例1和2，因此，复审请求人认为这些参数的选择需要付出创造性劳动的依据不足，依据对比文件3，本领域技术人员可任意改变参数，且能够获得一定的蚀刻速度；另外，复审请求人认为0.009摩尔/kg与0.086摩尔/kg在数学意义上的差别不大没有依据，二者在数学上差别也很大，实际上，关于各要素数值范围对蚀刻速度的影响，对比文件3已在多处段落中提到，即给出了各参数范围的选择对蚀刻速度有影响的技术启示，在此基础上，本领域技术人员显然有动机通过常规试验却选择适宜的参数范围；（4）复审请求人认为是通过选择pH值为0-7以及（A）/（B）=0.1-10（以摩尔基准计）才能达到期望的蚀刻特性，并做了对比试验，然而，原申请文件中并未有针对二者之间存在关系的记载，由原申请文件记载的比较例1可知，其同样满足该要求，但蚀刻速度却达不到期望的值，实际上，从蚀刻速度的技术效果来看，本申请的多个实施例都低于对比文件3中实施例1和2的蚀刻速度，因此，复审请求人的对比试验和数据不具有说服力。
复审请求人于2019年10月16日提交了意见陈述书，并修改了权利要求书。复审请求人认为：（1）本发明要解决的技术问题是：将含有铜和钛的多层膜共同且以良好的蚀刻速度进行蚀刻，并不是仅仅关注铜的蚀刻而不考虑钛的蚀刻，为了蚀刻后得到良好配线形状，要求铜和钛的蚀刻速度没有差异，如果存在差异，则不能得到良好配线形状，对比文件3中仅仅记载了铜的蚀刻速度，其值不能与本申请中所述的“铜和钛的共同蚀刻速度”直接对比；（2）提供追加比较例10-13来说明对比文件3可以对铜进行蚀刻，但是钛仅被蚀刻一小部分，即对比文件3中铜的蚀刻速度和钛的蚀刻速度存在差异，不能得到良好的配线图案，即对比文件3不能达到本申请所述的“将含有铜和钛的多层膜共同且以良好的蚀刻速度进行蚀刻，从而蚀刻后可以得到良好的配线形状”的技术效果；（3）由于对比文件3未教导本申请所要解决的技术问题，因此没有动机调整各组分浓度和配混比至本申请限定的范围内；（4）在权利要求1具有创造性的前提下，权利要求2-11也具有创造性。复审请求人于2019年10月16日提交的权利要求书如下：
“1. 一种液体组合物，其为用于蚀刻多层膜的液体组合物，所述多层膜包含：由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层和由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层，所述液体组合物包含：
(A)马来酸根离子供给源、
(B)铜离子供给源、以及
(C)氟化物离子供给源，
pH值为0～4.6，
且所述(A)马来酸根离子供给源相对于所述(B)铜离子供给源的配混比以摩尔基准计为0.1～10，
所述(A)马来酸根离子供给源为选自由马来酸和马来酸酐组成的组中的至少一种，其浓度为0.01～5摩尔/kg，所述(B)铜离子供给源为选自由铜、硫酸铜、硝酸铜、氢氧化铜和氯化铜组成的组中的至少一种，其浓度为0.01～5摩尔/kg，且所述(C)氟化物离子供给源为选自由氢氟酸、氟化铵、酸式氟化铵和缓冲氢氟酸组成的组中的至少一种，其浓度为0.001～5摩尔/kg，
所述多层膜的蚀刻结束直至露出衬底为止的恰当蚀刻时间为30～400秒。
2. 根据权利要求1所述的液体组合物，其还包含(D)除了马来酸根离子之外的羧酸根离子供给源。
3. 根据权利要求2所述的液体组合物，其中，所述(D)除了马来酸根离子之外的羧酸根离子供给源为选自由醋酸、乙醇酸、丙二酸、琥珀酸、乳酸、柠檬酸和这些羧酸的盐、以及醋酸酐组成的组中的至少一种，其浓度为0～5摩尔/kg。
4. 根据权利要求1或2所述的液体组合物，其还包含(E)除了氟化物离子之外的卤化物离子供给源。
5. 根据权利要求4所述的液体组合物，其中，所述(E)除了氟化物离子之外的卤化物离子供给源为选自由盐酸、氢溴酸、氯化铵、氯化钾、氯化铜和溴化钾组成的组中的至少一种，其浓度为0～5摩尔/kg。
6. 根据权利要求1或2所述的液体组合物，其还包含pH调节剂。
7. 一种蚀刻方法，其为对多层膜进行蚀刻的方法，所述多层膜包含：由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层和由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层，所述蚀刻方法包括：使权利要求1～6中任一项所述的液体组合物接触该多层膜。
8. 根据权利要求7所述的蚀刻方法，其中，所述多层膜为将由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层与由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层进行层叠的双层膜。
9. 根据权利要求7所述的蚀刻方法，其中，所述多层膜为将钛或含钛作为主成分的化合物的层、由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层、以及由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层依次进行层叠的三层膜。
10. 一种多层膜配线的制造方法，其为在基板上制造多层膜配线的方法，所述多层膜配线至少包含：由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层和由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层，
在基板上设置由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层和由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层，从而形成多层膜，
在该多层膜上覆盖抗蚀剂，从而形成抗蚀膜，
通过对该抗蚀膜进行曝光和显影而形成规定的抗蚀图案，从而形成蚀刻对象物，
使权利要求1～6中任一项所述的液体组合物接触该蚀刻对象物，从而对该多层膜进行蚀刻来形成多层膜配线。
11. 一种基板，其为设置有多层膜配线的基板，所述多层膜配线至少包含：由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层和由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层，
所述基板使用权利要求10所述的多层膜配线的制造方法进行制造。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本
复审请求人于2019年10月16日提交了权利要求书的替换页，本复审决定针对的审查文本为：2019年10月16日提交的权利要求第1-11项、2015年7月31日提交的原始国际申请中文译文的说明书第1-136段、说明书附图、说明书摘要和摘要附图。
关于专利法第22条第2款和第3款
专利法第22条第2款规定：是指该发明不属于现有技术；也没有任何单位或者个人就同样的发明在申请日以前向国务院专利行政部门提出过申请，并记载在申请日以后公布的专利申请文件或者公告的专利文件中。
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步。
在判断一项产品权利要求是否具备新颖性时，如果权利要求中包含制备方法特征，则应当考虑该制备方法是否导致产品具有某种特定的结构和/或组成，如果所属技术领域的技术人员无法判断该制备方法带来了产品结构和/或组成上的变化，而权利要求中的结构和/或组成特征又已被对比文件公开，则认为产品不具备新颖性。
在判断一项权利要求是否具备创造性时，首先将权利要求请求保护的技术方案与现有技术最接近的技术方案进行对比分析，确定二者之间的区别技术特征和实际要解决的技术问题，随后判断现有技术整体上是否给出将这些区别技术特征应用到该最接近的技术方案以解决技术问题的启示，如果现有技术整体上存在这种启示，并通过有限的试验可以得到该技术方案，则该技术方案不具备创造性。
（1）、权利要求1不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
权利要求1要求保护一种液体组合物。对比文件3公开了用于液晶显示器的金属层蚀刻液，用于蚀刻二个或多个金属层，金属层包括含铜的层和含钛的层，蚀刻液包含铜离子源、卤离子源、胺化合物、有机酸和蚀刻抑制剂（参见权利要求1、说明书第7和24段），其中铜离子浓度为0.5-20wt%，卤素离子浓度为0.001-10wt%，胺化合物浓度为3-40wt%，有机酸浓度为0.5-35wt%，蚀刻抑制剂浓度为0.001-5wt%，余量为水。优选铜离子浓度为1-15wt%，卤素离子浓度为0.01-6wt%，胺化合物浓度为5-30wt%，有机酸浓度为1-20wt%，蚀刻抑制剂浓度为0.01-1wt%（参见权利要求1-4）。铜离子可以源于氯化铜、硫酸铜、碳酸铜、醋酸铜、氧化铜等（参见说明书第10段），卤离子可以以盐酸、溴酸、氟化钠、氯化钠、溴化钠、氟化钾、氯化钾、溴化钾、氯化铵、氟化铵和氟化氯铵等形式存在（参见说明书第15段），有机酸可为马来酸、甲酸、醋酸、丙酸、丁酸、丙烯酸、丁烯酸、乙二酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、乙醇酸、乳酸、羟基丁二酸、柠檬酸等（参见说明书第19段）。另外，对比文件3还探讨了铜离子、卤离子、有机酸对蚀刻速度和稳定性的影响（参见说明书第12、16和20段），即对比文件3要解决的技术问题包括蚀刻速度和蚀刻液的稳定性。
权利要求1中用“所述多层膜的蚀刻结束直至露出衬底为止的恰当蚀刻时间为30～400秒”限定液体组合物，但对于所属技术领域的技术人员来说，无法根据这种限定来判断其对液体组合物的结构和/或组成上的影响，因此在进行对比分析时不予考虑。因此，权利要求1的技术方案与对比文件3公开的内容相比，区别技术特征在于：（1）限定了马来酸根离子和氟化物离子与铜离子配合使用；（2）限定了pH值为0-4.6；（3）以摩尔/kg的方式限定了各离子源的浓度以及马来酸根离子与铜离子的摩尔基准计混配比；（4）马来酸根、铜离子和氟化物离子的来源未被对比文件3完全公开。基于上述区别技术特征，本申请实际要解决的技术问题是选择具体的离子种类和来源以及浓度和配比以获得一定的蚀刻速度和蚀刻时间。
对于上述区别技术特征（1），在对比文件3明确公开了有机酸可为马来酸和卤离子可源自氟化物的情况下，本领域技术人员显然有动机去尝试使用对比文件3中公开的物质去与铜离子组合使用，并通过常规试验来确定是否满足所需的蚀刻速度、蚀刻时间和稳定性；
对于上述区别技术特征（2），对比文件3明确公开了实施例1和2的pH值为8.8或9.2（碱性），同时公开了对比例的pH值为2.8，并且实施例1和2以及对比例分别达到了0.30-0.35微米/分钟和0.25-0.30微米/分钟的蚀刻速度，由这些公开内容可知，针对不同的蚀刻液组成，可以选择不同的pH值，只要满足蚀刻速度和稳定性等要求即可，实际上，本申请的实施例例如实施例1-5在pH值为3.0的情况下，都不能达到对比文件3公开的蚀刻速度；
对于上述区别技术特征（3），在对比文件3公开的以重量百分比基准计的各离子浓度的基础上，本领域技术人员通过常规试验并基于蚀刻速度和稳定性的要求就可以选择并确定各离子源以摩尔基准计的浓度和混配比；
对于上述区别技术特征（4），未被对比文件3公开的马来酸根、铜离子和氟化物离子的其他来源均为常规选择；
由此可见，在对比文件3公开内容的基础上，本领域技术人员结合常规技术知识通过常规试验作出进一步的物质和浓度选择以满足一定的蚀刻速度和蚀刻时间要求是显而易见的，且未产生任何预料不到的技术效果，因此，权利要求1的技术方案不具有突出的实质性特点，因而不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
（2）、权利要求2-6不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
对于权利要求2-3，对比文件3公开了多种羧酸（参见说明书第19段），醋酸酐也是常见羧酸根离子源，羧酸浓度可通过常规试验确定；
对于权利要求4-5，对比文件3公开了除氟化物离子外的其它卤化物离子，氯化铜也是常见氯离子供给源，这些卤化物离子的浓度通过常规试验就可以确定；
对于权利要求6，pH值调节剂是蚀刻液中的常规使用物质；
因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，权利要求2-6不具备创造性。
（3）、权利要求7-9不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
对于权利要求7，对比文件3公开了使用蚀刻液对样品的蚀刻方法，其中样品的金属层包括含铜的层和含钛的层，蚀刻液包含铜离子源、卤离子源、胺化合物、有机酸和蚀刻抑制剂（参见权利要求1、说明书第7和24段），权利要求7与对比文件3公开内容的区别在于：使用权利要求1-6的液体组合物代替对比文件3的蚀刻液，然而，根据上面的评述，权利要求1-6不具备创造性，因此，权利要求7的技术方案也是显而易见的，不具有突出的实质性特点，不具备创造性；
对于权利要求8-9，对比文件3公开了双层膜，而三层膜也是常见膜层形式，因此，权利要求8-9不具备创造性。
（4）、权利要求10不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
对于权利要求10，对比文件3公开了通过在基板上设置双层金属膜并采用蚀刻液进行蚀刻，其中在金属膜上形成光致抗蚀剂层并进行光刻过程，当剥离光致抗蚀剂层时，与金属层对应的电极和信号线保持均匀的蚀刻形式，双层金属膜包括含铜的层和含钛的层（参见说明书第23-25段）。因此，对比文件3也公开了基板上多层膜配线的制造方法，权利要求10与对比文件3的公开内容相比，区别在于：使用权利要求1-6的液体组合物代替对比文件3的蚀刻液，然而，根据上面的评述，权利要求1-6不具备创造性，因此，权利要求10的技术方案也是显而易见的，不具有突出的实质性特点，不具备创造性。
（5）、权利要求11不具备新颖性，不符合专利法第22条第2款的规定。
对于权利要求11，对比文件3公开了基板，其上包括双层金属膜经蚀刻后形成的电极和信号线，双层金属膜包括含铜的层和含钛的层，其中在金属膜上形成光致抗蚀剂层并进行光刻过程，当剥离光致抗蚀剂层时，与金属层对应的电极和信号线保持均匀的蚀刻形式（参见说明书第23-25段），即权利要求11基板的结构和组成特征已被对比文件3公开，尽管权利要求11限定其要求保护的基板由权利要求10的制造方法得到，然而，本领域技术人员无法根据权利要求10的制造方法来确定权利要求11的产品相对于对比文件3带来何种结构和/或组成上的变化，从而可推定权利要求11要求保护的基板与对比文件3的基板相同，因此，权利要求11不具备新颖性，不符合专利法第22条第2款的规定。
对复审请求人相关意见的意见
对于复审请求人的陈述意见，合议组经审查后认为：
（1）首先，复审请求人认为将含有铜和钛的多层膜共同且以良好的蚀刻速度进行蚀刻意味着本申请中钛和铜具有共同蚀刻速度没有充分的理由和依据，本申请中未有任何内容记载“钛和铜的共同蚀刻速度”，仅仅提供了相关“蚀刻速度”，而且这种认识不符合本领域技术人员的普通认识，“共同蚀刻”并不意味着蚀刻速度相同，仅仅是表面二种组分都能用同一蚀刻液最终被蚀刻掉，对于本申请的多层膜而言，由于被蚀刻的顺序不同，在同样的蚀刻液中，蚀刻速度也不必然相同；其次，关于技术问题，对比文件3要解决的技术问题包括蚀刻速度和蚀刻液的稳定性（参见说明书第12、16和18段），并且能实现铜和钛的完全蚀刻并具有良好的配线形状（参见说明书第25段），因此对比文件3已给出了解决相应技术问题的技术启示，且取得了良好的技术效果；最后，对比文件3中明确了蚀刻后玻璃基底表面上没有钛残留（参见说明书第25段），因此，对比文件3同样关注钛的蚀刻，尽管对比文件3只明确提及了铜的蚀刻速度，但本申请中的蚀刻速度同样未明确蚀刻速度，如果按照复审请求人的解释，“共同蚀刻”代表铜和钛的蚀刻速度，则本申请中的铜的蚀刻速度低于对比文件3，本领域技术人员有理由认为本申请总的平均蚀刻速度也会低于对比文件3。
（2）复审请求人提供了追加比较例10-13来说明对比文件3中钛仅是被蚀刻一小部分，这与对比文件3公开的内容明显不同，对比文件3已明确公开没有钛残留并且能得到良好的配线图案（参见说明书第25段）,在对比文件3已有相关明确公开内容的基础上，这些追加比较例没有说服力。
（3）参见上述意见，对比文件3已给出了解决相关技术问题的技术启示，并且对比文件3详细探讨了铜离子、卤离子、有机酸对蚀刻速度和稳定性的影响（参见说明书第12、16和20段），即对比文件3要解决的技术问题包括蚀刻速度和蚀刻液的稳定性，而本申请的重点就在于蚀刻速度的改善，而关于各要素数值范围对蚀刻速度的影响，对比文件3已在多处段落中提到，即给出了各参数范围的选择对蚀刻速度有影响的技术启示，在此基础上，本领域技术人员显然有动机通过常规试验却选择和调整参数范围。
（4）2019年07月02日发出的复审通知书中指出了权利要求11不具备新颖性的缺陷，复审请求人对权利要求11不具备新颖性的意见未提供反对意见。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年03月19日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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