发明创造名称：使用自组装核酸形成纳米结构的方法及其纳米结构
外观设计名称：
决定号：199254
决定日：2019-12-30
委内编号：1F288663
优先权日：2015-04-02
申请（专利）号：201680019953.X
申请日：2016-03-11
复审请求人：美光科技公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：裴亚芳
合议组组长：白燕
参审员：杨燕
国际分类号：H01L21/02，B82Y10/00，B82Y40/00
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点：如果一项权利要求请求保护的技术方案相对于最接近的现有技术存在区别技术特征，该区别技术特征既没有被其他对比文件披露，也不属于本领域的公知常识，并且该区别技术特征为该项权利要求的技术方案带来了有益的技术效果，则该项权利要求具有突出的实质性特点和显著的进步，具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201680019953.X，发明名称为“使用自组装核酸形成纳米结构的方法及其纳米结构”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为美光科技公司，申请日为2016年03月11日，优先权日为2015年04月02日，进入中国国家阶段日为2017年09月29日，公开日为2017年12月01日。
经实质审查，国家知识产权局实质审查部门于2019年03月13日发出驳回决定，以权利要求1-6、10-23、26-32不符合专利法第22条第3款的规定为由驳回了本申请。驳回决定所依据的文本为：2018年03月28日提交的权利要求第1-32项；2017年09月29日进入中国国家阶段时提交的国际申请的中文译文的说明书第1-8页、说明书附图第1-6页、说明书摘要及摘要附图。
驳回决定所针对的权利要求书内容如下：
“1. 一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：
形成包括多个区域的图案化衬底，所述图案化衬底的所述区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构；
在形成所述图案化衬底之后，使所述图案化衬底与包含所述特定核酸结构的核酸结构接触；以及
在使所述图案化衬底与所述核酸结构接触之后，将所述核酸结构的特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域，以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。
2. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装。
3. 根据权利要求2所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装包括在所述图案化衬底上由具有小于10nm的尺寸的多个DNA子单元形成所述DNA结构。
4. 根据权利要求2所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装包括在所述图案化衬底上形成具有100到200nm的尺寸的DNA折纸结构。
5. 根据权利要求1所述的方法，其中形成图案化衬底包括：
图案化所述衬底以产生所述多个区域，其中所述区域中的每一个显示对所述核酸结构中的特定核酸结构的拓扑特异性。
6. 根据权利要求1所述的方法，其中形成图案化衬底包括：
图案化所述衬底以产生所述多个区域，其中所述区域中的每一个显示对所述核酸结构中的特定核酸结构的化学特异性。
7. 根据权利要求1所述的方法，其中形成图案化衬底包括：
在所述图案化衬底上形成官能化间隔物，其中所述官能化间隔物包括官能团，其 经配置以与所述核酸结构上的官能团化学地相互作用。
8. 根据权利要求7所述的方法，其进一步包括在所述图案化衬底上形成核酸结构的所述定向自组装之前，官能化所述核酸结构以在所述核酸结构上提供所述官能团。
9. 根据权利要求7所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成官能化间隔物包括：
在所述图案化衬底上形成牺牲图案材料及间隔物；
从所述图案化衬底移除所述牺牲图案材料；及
官能化从所述图案化衬底突出的所述间隔物。
10. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括：使用定向控制及顺序控制中的至少一者在所述图案化衬底上形成核酸结构的所述定向自组装。
11. 根据权利要求1所述的方法，进一步包括使用所述图案化衬底上的核酸结构的所述定向自组装形成接触孔图案。
12. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括在所述图案化衬底上形成包含呈次光刻节距的多个开口的核酸结构的定向自组装。
13. 根据权利要求12所述的方法，进一步包括使用核酸结构的所述定向自组装在所述图案化衬底上形成呈次光刻节距的次光刻特征或支柱的阵列。
14. 根据权利要求1所述的方法，其进一步包括使用核酸结构的所述定向自组装在所述图案化衬底上形成次光刻特征。
15. 根据权利要求14所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成次光刻特征包括在所述图案化衬底上形成包括规则、周期性图案或不规则图案的所述次光刻特征。
16. 根据权利要求15所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成所述规则、周期性图案或不规则图案包括形成对应于所述图案化衬底上的密集阵列特征或外围布线、逻 辑、互连件或触点的图案。
17. 一种纳米结构，其包括图案化衬底上的DNA结构的定向自组装，
所述图案化衬底包括区域以及选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的每一个的DNA结构的所述定向自组装的特定DNA结构，所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述特定DNA结构的大小或形态中的至少一个。
18. 根据权利要求17所述的纳米结构，其中所述DNA结构包括具有小于10nm的尺寸的多个DNA子单元。
19. 根据权利要求17所述的纳米结构，其中所述DNA结构包括DNA折纸结构，其具有100nm到200nm的尺寸。
20. 根据权利要求17所述的纳米结构，其中所述图案化衬底的所述区域中的每一个显示对DNA结构的所述定向自组装的所述DNA结构中的一个的化学特异性或拓扑特异性中的至少一个。
21. 一种纳米结构，其包括：
在包含区域的图案化衬底上的核酸结构的定向自组装，核酸结构的所述定向自组装中的所述核酸结构中的每一个经选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的一个，并且所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述核酸结构中的每一个的大小或形态中的至少一个。
22. 根据权利要求21所述的纳米结构，其中所述核酸结构包括在所述核酸结构内的各向同性图案或子结构。
23. 根据权利要求21所述的纳米结构，其中所述核酸结构包括在所述核酸结构内的各向异性图案或子结构。
24. 根据权利要求21所述的纳米结构，其中所述图案化衬底包括多个间隔物，所述间隔物中的每一者包括官能团，其经配置以与核酸结构的所述定向自组装中的所述核酸结构中的一者化学地相互作用。
25. 根据权利要求24所述的纳米结构，其中所述核酸结构包括官能团，其经配置以与所述图案化衬底的所述间隔物上的所述官能团化学地相互作用。
26. 一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：
形成包含区域的图案化衬底，所述区域包含对核酸结构的化学特异性或拓扑特异性中的至少一种；以及
在形成图案化衬底之后，选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。
27. 根据权利要求26所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：选择性地将特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的特定区域上。
28. 根据权利要求27所述的方法，其中选择性地将特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的特定区域上包括：将所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述区域以实现最低能量配置。
29. 根据权利要求26所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：将所述核酸结构吸附到包含拓扑特异性的所述图案化衬底的所述对应区域。
30. 根据权利要求29所述的方法，其中将所述核酸结构吸附到包含拓扑特异性的所述图案化衬底的所述对应区域包括：将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域，所述图案化衬底的所述对应区域包含对应于所述核酸结构的大小或形态中的至少一个的尺寸或形态中的至少一个。
31. 根据权利要求26所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上包括：将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域，所述图案化衬底的所述对应区域包含与所述核酸结构的化学特异性。
32. 根据权利要求31所述的方法，其中将所述核酸结构吸附到包含与所述核酸结构的化学特异性的所述图案化衬底的所述对应区域包括：通过范德华、离子相互作用或静电相互作用中的至少一个将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域。”
驳回决定中引用如下对比文件：
对比文件1：US2007117109A1，公开日为2007年05月24日；
对比文件2：CN1379113A，公开日为2002年11月13日。
驳回决定具体理由为：1）独立权利要求1请求保护的技术方案相对于对比文件1的区别技术特征在于：图案化衬底包括多个区域，每一个区域吸附特定核酸结构。独立权利要求17请求保护的技术方案相对于对比文件1的区别技术特征在于：图案化衬底包括多个区域，每一个区域吸附特定DNA结构，区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于特定DNA结构的大小或形态中的至少一个。独立权利要求21请求保护的技术方案相对于对比文件1的区别技术特征在于：核酸结构中的每一个经选择性吸附到图案化衬底的一个区域，区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于核酸结构的大小或形态中的至少一个。独立权利要求26请求保护的技术方案相对于对比文件1的区别技术特征在于：选择性地将核酸结构吸附到图案化衬底的对应区域。上述区别技术特征在对比文件2中已经公开且作用相同。从属权利要求2-6、10-16、18-20、22-23、27-32的附加技术特征或被对比文件1、2公开或为本领域的公知常识。因此，权利要求1-6、10-23、26-32不具备专利法第22条第3款规定的创造性。针对申请人的意见陈述，驳回决定中指出：对比文件1已经公开了通过激光图案化（参见说明书第43段），形成特定核酸结构（参见说明书第37段），权利要求1与对比文件1的区别在于：图案化衬底包括多个区域，每一个区域吸附特定核酸结构。对比文件2公开了：刻蚀基底形成具有边长的直角线框（相当于该权利要求中的多个区域），使DNA分子在基底上吸附，形成同样边长的方形DNA网络（相当于该权利要求中的每一个区域吸附特定核酸结构）（参见说明书第4页第10行-第13行）。可见，对比文件2给出了图案化衬底时将衬底分成多个区域以及在相关区域吸附DNA的技术启示。本领域技术人员在对比文件1和对比文件2的启示下，很容易想到图案化衬底包括多个区域，每一个区域吸附特定核酸结构，并不会带来预料不到的技术效果。因此，权利要求1-6、10-23、26-32不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年06月26日向国家知识产权局提出了复审请求，同时提交了权利要求书的修改替换页（包括权利要求第1-27项）。具体修改如下：在驳回决定所针对的权利要求的基础上，主要修改内容如下：在独立权利要求1、17、21中分别增加 “并且所述区域中的每一个显示：对所述特定核酸结构的拓扑特异性；或对所述特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性”、“并且所述区域中的每一个显示：对所述特定DNA结构的拓扑特异性；或对所述特定DNA结构的拓扑特异性和化学特异性”、“并且所述区域中的每一个显示：对所述核酸结构的拓扑特异性；或对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性”，将独立权利要求26“所述区域包含对核酸结构的化学特异性或拓扑特异性中的至少一种”修改为“所述区域包含：对核酸结构的拓扑特异性；或对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性”，将原独立权利要求1以及从属权利要求2、10、12 “特定核酸”修改为“所述特定核酸”，将原从属权利要求18-19 “所述DNA结构”修改为“所述特定DNA结构”，将原从属权利要求30的附加技术特征修改为“其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：选择性地将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上，所述图案化衬底的所述对应区域包含对应于所述核酸结构的大小或形态中的至少一个的尺寸或形态中的至少一个”，将原从属权利要求32的附加技术特征修改为“其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：通过范德华、离子相互作用或静电相互作用中的至少一个选择性地将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上”，删除原从属权利要求5-6、20、29、31，适应性修改权利要求序号和引用关系。复审请求人认为：1）对比文件1、2均未公开“所述区域中的每一个显示：对所述特定核酸结构的拓扑特异性；或对所述特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性”（特征A），因而没有教导或暗示“形成包括多个区域的图案化衬底，所述图案化衬底的所述区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构，所述区域中的每一个具有特征A”, 并且，必然没有教导或暗示“将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域，其中所述区域具有特征A”。2）对比文件1没有教导或暗示形成图案化的衬底，教导的是将核苷酸支架以预定图案放置在衬底上。
提交复审请求时新修改的权利要求1-2、8、10、15-18、23、26-27内容如下：
“1. 一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：
形成包括多个区域的图案化衬底，所述图案化衬底的所述区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构，并且所述区域中的每一个显示：
对所述特定核酸结构的拓扑特异性；或
对所述特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；
在形成所述图案化衬底之后，使所述图案化衬底与包含所述特定核酸结构的核酸结构接触；以及
在使所述图案化衬底与所述核酸结构接触之后，将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域，以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。”
“2. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装。”
“8. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括：使用定向控制及顺序控制中的至少一者在所述图案化衬底上形成核酸结构的所述定向自组装。”
“10. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括在所述图案化衬底上形成包含呈次光刻节距的多个开口的核酸结构的定向自组装。”
“15. 一种纳米结构，其包括图案化衬底上的DNA结构的定向自组装，
所述图案化衬底包括区域以及选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的每一个的DNA结构的所述定向自组装的特定DNA结构，所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述特定DNA结构的大小或形态中的至少一个，并且 所述区域中的每一个显示：
对所述特定DNA结构的拓扑特异性；或
对所述特定DNA结构的拓扑特异性和化学特异性。”
“16. 根据权利要求15所述的纳米结构，其中所述特定DNA结构包括具有小于10nm的尺寸的多个DNA子单元。”
“17. 根据权利要求15所述的纳米结构，其中所述特定DNA结构包括DNA折纸结构，其具有100nm到200nm的尺寸。”
“18. 一种纳米结构，其包括：
在包含区域的图案化衬底上的核酸结构的定向自组装，核酸结构的所述定向自组装中的所述核酸结构中的每一个经选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的一个，并且所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述核酸结构中的每一个的大小或形态中的至少一个，并且所述区域中的每一个显示：
对所述核酸结构的拓扑特异性；或
对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性。”
“23. 一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：
形成包含区域的图案化衬底，所述区域包含：
对核酸结构的拓扑特异性；或
对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；以及
在形成图案化衬底之后，选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。”
“26. 根据权利要求23所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：选择性地将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上，所述图案化衬底的所述对应区域包含对应于所述核酸结构的大小或形态中的至少一个的尺寸或形态中的至少一个。”
“27. 根据权利要求23所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：通过范德华、离子相互作用或静电相互作用中的至少一个选择性地将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上。”
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年07月02日依法受理了该复审请求，并将其转送至实质审查部门进行前置审查。
实质审查部门在前置审查意见书中认为，对比文件1已经公开了：图案化衬底显示对核酸结构的特定核酸结构的拓扑特异性（附图3e、3f呈拓扑（网络）特性）（参见说明书附图3e、3f，说明书第13-14段）。可见，对比文件1已经公开了衬底具有对特定核酸结构的拓扑特异性，而具有化学特异性是本领域的公知常识。因此，新修改的权利要求1、15、18、23不具备创造性，坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
经过充分阅卷并合议，合议组认为本案事实已经清楚，可以依法作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人提交复审请求时，提交了权利要求书的全文修改替换页（包括权利要求第1-27项）。经审查，所作修改符合专利法实施细则第61条第1款和专利法第33条的规定。本复审请求审查决定所依据的文本为：复审请求日2019年06月26日提交的权利要求第1-27项；2017年09月29日进入中国国家阶段时提交的国际申请的中文译文的说明书第1-8页、说明书附图第1-6页、说明书摘要及摘要附图。
2、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案相对于最接近的现有技术存在区别技术特征，该区别技术特征既没有被其他对比文件披露，也不属于本领域的公知常识，并且该区别技术特征为该项权利要求的技术方案带来了有益的技术效果，则该项权利要求具有突出的实质性特点和显著的进步，具备创造性。
本复审请求审查决定引用的对比文件与驳回决定中引用的对比文件相同，即：
对比文件1：US2007117109A1，公开日为2007年05月24日；
对比文件2：CN1379113A，公开日为2002年11月13日。
2-1、权利要求1请求保护一种形成纳米结构的方法。对比文件1为最接近的现有技术，其公开了一种核酸纳米结构（参见说明书第[0007]-[0011]段，附图1-3）：包括结构单元，每一结构单元包括单链多核苷酸支架以及多条辅助链，辅助链设计为与单链多核苷酸支架至少部分互补以与单链多核苷酸支架自退火成结构单元，其中，辅助链在两个或更多的区域结合单链多核苷酸支架，将单链多核苷酸支架的这些分开的区域放在一起以在单链多核苷酸支架中形成所需的弯曲，从而将支架折叠成各种形状的纳米图案；其中，辅助链与单链多核苷酸支架在缓冲溶液中混合而与单链多核苷酸支架杂交，使得单链多核苷酸支架在溶液中折叠并施加到衬底上（说明书第[0056]段）；基板表面包含特定类型的电荷和/或可以连接至单链多核苷酸支架的配体，纳米图案沉积在衬底上可以作为衬底进一步处理的掩模，如图案化电子电路（说明书第[0098]-[0100]段）。纳米图案用作图案化电子电路的掩模，必定是特定图案（即特定核酸结构）并经由特定电荷和/或配体吸附于衬底上的特定区域。由此可以确定，衬底必定经图案化以在特定区域包含用于吸附纳米图案的特定电荷和/或配体，显示对纳米图案的化学特异性，特定区域经调试以吸附特定核酸结构，衬底与特定核酸结构接触而使得特定核酸结构吸附到衬底上的特定区域，以在衬底上形成核酸结构的自组装。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征在于：形成包括多个区域的图案化衬底，图案化衬底的区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构，区域中的每一个显示：对特定核酸结构的拓扑特异性；或对特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；将核酸结构的特定核酸结构吸附到图案化衬底的每个区域，以在图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。 基于上述区别技术特征，可以确定该权利要求相对于对比文件1实际解决的技术问题是：实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的定向自组装。
首先，对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的核酸纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装，仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的数量、以及所述区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，即衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，核酸纳米图案不能被选择性的吸附于衬底上的特定区域，不能实现衬底上的区域与核酸纳米图案一一对应的自组装，核酸纳米结构在衬底上的自组装没有方向性，也无法实现定向自组装，没有给出衬底上的多个区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现多个区域与多个核酸纳米图案一一对应的定向自组装的教导。
其次，对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第1行至第5页最后1行）：使用末端固定剂，对末端固定剂在衬底上进行处理以形成不等边长直角或等边长直角框；将处理后的衬底浸入稀释的DNA溶液，使DNA分子吸附在衬底上；采用分子梳梳理吸附在衬底上的DNA分子，DNA分子链被拉直，由于分子梳梳理DNA不可逆，沿着一个方向梳理后，将衬底再次浸入DNA溶液，让DNA分子再次吸附在衬底上，调换分子梳90度，对再次吸附在衬底上的DNA分子进行梳理，形成DNA网络。由此可见，对比文件2的DNA分子被吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框，而是经由水平分子梳的梳理，将两条NDA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个水平边平行排列，并在衬底上再次吸附DNA分子，用垂直分子梳梳理，将两条DNA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个垂直边平行排列，由四条被梳直的DNA分子链形成一个直角框，显然，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性而能够使得一个矩形框形状的DNA分子吸附于末端固定剂的直角框区域，因而并未公开上述区别技术特征，无法给出相应的技术启示。并且，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
并且，上述区别技术特征也不是所属技术领域的公知常识，同时，该技术特征使得权利要求1的技术方案产生了有益的技术效果：衬底上的多个区域的每一个区域吸附一个与该区域大小和/或形态对应的特定核酸结构，实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的自组装，并且能够实现核酸结构在衬底上具有方向性定向自组装。
基于以上理由，权利要求1相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-2、权利要求15请求保护一种形成纳米结构。对比文件1为最接近的现有技术，其公开了一种核酸纳米结构（参见说明书第[0007]-[0011]段，附图1-3）：包括结构单元，每一结构单元包括单链多核苷酸支架以及多条辅助链，辅助链设计为与单链多核苷酸支架至少部分互补以与单链多核苷酸支架自退火成结构单元，其中，辅助链在两个或更多的区域结合单链多核苷酸支架，将单链多核苷酸支架的这些分开的区域放在一起以在单链多核苷酸支架中形成所需的弯曲，从而将支架折叠成各种形状的纳米图案；其中，辅助链与单链多核苷酸支架在缓冲溶液中混合而与单链多核苷酸支架杂交，使得单链多核苷酸支架在溶液中折叠并施加到衬底上（说明书第[0056]段）；基板表面包含特定类型的电荷和/或可以连接至单链多核苷酸支架的配体，纳米图案沉积在衬底上可以作为衬底进一步处理的掩模，如图案化电子电路（说明书第[0098]-[0100]段）。纳米图案用作图案化电子电路的掩模，必定是特定图案（即特定核酸结构）并经由特定电荷和/或配体吸附于衬底上的特定区域，由此可以确定，衬底必定经图案化以在特定区域包含用于吸附纳米图案的特定电荷和/或配体，显示对纳米图案的化学特异性，特定区域经调试以吸附特定核酸结构，衬底与特定核酸结构接触而使得特定核酸结构吸附到衬底上的特定区域，以在衬底上形成核酸结构的自组装。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征在于：DNA结构的定向自组装；选择性吸附到图案化衬底的区域中的每一个的DNA结构的定向自组装的特定DNA结构，区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于特定DNA结构的大小或形态中的至少一个，并且区域中的每一个显示： 对特定DNA结构的拓扑特异性；或对所述特定DNA结构的拓扑特异性和化学特异性。基于上述区别技术特征，可以确定该权利要求相对于对比文件1实际解决的技术问题是：实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的定向自组装。
首先，对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的核酸纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装，仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的数量、以及所述区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，即衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，核酸纳米图案不能被选择性的吸附于衬底上的特定区域，不能实现衬底上的区域与核酸纳米图案一一对应的自组装，核酸纳米结构在衬底上的自组装没有方向性，也无法实现定向自组装，没有给出衬底上的多个区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现多个区域与多个核酸纳米图案一一对应的定向自组装的教导。
其次，对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第1行至第5页最后1行）：使用末端固定剂，对末端固定剂在衬底上进行处理以形成不等边长直角或等边长直角框；将处理后的衬底浸入稀释的DNA溶液，使DNA分子吸附在衬底上；采用分子梳梳理吸附在衬底上的DNA分子，DNA分子链被拉直，由于分子梳梳理DNA不可逆，沿着一个方向梳理后，将衬底再次浸入DNA溶液，让DNA分子再次吸附在衬底上，调换分子梳90度，对再次吸附在衬底上的DNA分子进行梳理，形成DNA网络。由此可见，对比文件2的DNA分子被吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框区域，而是经由水平分子梳的梳理，将两条NDA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个水平边平行排列，并在衬底上再次吸附DNA分子，用垂直分子梳梳理，将两条DNA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个垂直边平行排列，由四条被梳直的DNA分子链形成一个直角框，显然，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性而能够使得一个矩形框形状的DNA分子吸附于末端固定剂的直角框区域，因而并未公开上述区别技术特征，无法给出相应的技术启示。并且，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
并且，上述区别技术特征也不是所属技术领域的公知常识，同时，该技术特征使得权利要求1的技术方案产生了有益的技术效果：衬底上的多个区域的每一个区域吸附一个与该区域大小和/或形态对应的特定核酸结构，实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的自组装，并且能够实现核酸结构在衬底上具有方向性定向自组装。
基于以上理由，权利要求15相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-3、权利要求18请求保护一种形成纳米结构。对比文件1为最接近的现有技术，其公开了一种核酸纳米结构（参见说明书第[0007]-[0011]段，附图1-3）：包括结构单元，每一结构单元包括单链多核苷酸支架以及多条辅助链，辅助链设计为与单链多核苷酸支架至少部分互补以与单链多核苷酸支架自退火成结构单元，其中，辅助链在两个或更多的区域结合单链多核苷酸支架，将单链多核苷酸支架的这些分开的区域放在一起以在单链多核苷酸支架中形成所需的弯曲，从而将支架折叠成各种形状的纳米图案；其中，辅助链与单链多核苷酸支架在缓冲溶液中混合而与单链多核苷酸支架杂交，使得单链多核苷酸支架在溶液中折叠并施加到衬底上（说明书第[0056]段）；基板表面包含特定类型的电荷和/或可以连接至单链多核苷酸支架的配体，纳米图案沉积在衬底上可以作为衬底进一步处理的掩模，如图案化电子电路（说明书第[0098]-[0100]段）。纳米图案用作图案化电子电路的掩模，必定是特定图案（即特定核酸结构）并经由特定电荷和/或配体吸附于衬底上的特定区域，由此可以确定，衬底必定经图案化以在特定区域包含用于吸附纳米图案的特定电荷和/或配体，显示对纳米图案的化学特异性，特定区域经调试以吸附特定核酸结构，衬底与特定核酸结构接触而使得特定核酸结构吸附到衬底上的特定区域，以在衬底上形成核酸结构的自组装。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征在于：核酸结构的定向自组装；核酸结构的所述定向自组装中所述核酸结构中的每一个经选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的一个，并且所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述核酸结构中的每一个的大小或形态中的至少一个，并且所述区域中的每一个显示：对所述核酸结构的拓扑特异性；或对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性。基于上述区别技术特征，可以确定该权利要求相对于对比文件1实际解决的技术问题是：实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的定向自组装。
首先，对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的核酸纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装，仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的数量、以及所述区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，即衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，核酸纳米图案不能被选择性的吸附于衬底上的特定区域，不能实现衬底上的区域与核酸纳米图案一一对应的自组装，核酸纳米结构在衬底上的自组装没有方向性，也无法实现定向自组装，没有给出衬底上的多个区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现多个区域与多个核酸纳米图案一一对应的定向自组装的教导。
其次，对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第1行至第5页最后1行）：使用末端固定剂，对末端固定剂在衬底上进行处理以形成不等边长直角或等边长直角框；将处理后的衬底浸入稀释的DNA溶液，使DNA分子吸附在衬底上；采用分子梳梳理吸附在衬底上的DNA分子，DNA分子链被拉直，由于分子梳梳理DNA不可逆，沿着一个方向梳理后，将衬底再次浸入DNA溶液，让DNA分子再次吸附在衬底上，调换分子梳90度，对再次吸附在衬底上的DNA分子进行梳理，形成DNA网络。由此可见，对比文件2的DNA分子被吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框区域，而是经由水平分子梳的梳理，将两条NDA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个水平边平行排列，并在衬底上再次吸附DNA分子，用垂直分子梳梳理，将两条DNA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个垂直边平行排列，由四条被梳直的DNA分子链形成一个直角框，显然，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性而能够使得一个矩形框形状的DNA分子吸附于末端固定剂的直角框区域，因而并未公开上述区别技术特征，无法给出相应的技术启示。并且，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
并且，上述区别技术特征也不是所属技术领域的公知常识，同时，该技术特征使得权利要求1的技术方案产生了有益的技术效果：衬底上的多个区域的每一个区域吸附一个与该区域大小和/或形态对应的特定核酸结构，实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的自组装，并且能够实现核酸结构在衬底上具有方向性定向自组装。
基于以上理由，权利要求18相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-4、权利要求23请求保护一种形成纳米结构的方法。对比文件1为最接近的现有技术，其公开了一种核酸纳米结构（参见说明书第[0007]-[0011]段，附图1-3）：包括结构单元，每一结构单元包括单链多核苷酸支架以及多条辅助链，辅助链设计为与单链多核苷酸支架至少部分互补以与单链多核苷酸支架自退火成结构单元，其中，辅助链在两个或更多的区域结合单链多核苷酸支架，将单链多核苷酸支架的这些分开的区域放在一起以在单链多核苷酸支架中形成所需的弯曲，从而将支架折叠成各种形状的纳米图案；其中，辅助链与单链多核苷酸支架在缓冲溶液中混合而与单链多核苷酸支架杂交，使得单链多核苷酸支架在溶液中折叠并施加到衬底上（说明书第[0056]段）；基板表面包含特定类型的电荷和/或可以连接至单链多核苷酸支架的配体，纳米图案沉积在衬底上可以作为衬底进一步处理的掩模，如图案化电子电路（说明书第[0098]-[0100]段）。纳米图案用作图案化电子电路的掩模，必定是特定图案（即特定核酸结构）并经由特定电荷和/或配体吸附于衬底上的特定区域，由此可以确定，衬底必定经图案化以在特定区域包含用于吸附纳米图案的特定电荷和/或配体，显示对纳米图案的化学特异性，特定区域经调试以吸附特定核酸结构，衬底与特定核酸结构接触而使得特定核酸结构吸附到衬底上的特定区域，以在衬底上形成核酸结构的自组装。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征在于：区域包含：对核酸结构的拓扑特异性；或对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；选择性地将核酸结构吸附到图案化衬底的对应区域上以在图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。基于上述区别技术特征，可以确定该权利要求相对于对比文件1实际解决的技术问题是：实现在衬底上区域选择性吸附核酸结构以及实现核酸结构的定向自组装。
首先，对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的核酸纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装，仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，即衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，核酸纳米图案不能被选择性的吸附于衬底上的特定区域，不能实现衬底上的区域与核酸纳米图案一一对应的自组装，核酸纳米结构在衬底上的自组装没有方向性，也无法实现定向自组装，没有给出衬底上的区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现衬底上的区域能够选择性的吸附特定核酸纳米图案以及实现核酸纳米图案具有方向性的定向自组装的教导。
其次，对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第1行至第5页最后1行）：使用末端固定剂，对末端固定剂在衬底上进行处理以形成不等边长直角或等边长直角框；将处理后的衬底浸入稀释的DNA溶液，使DNA分子吸附在衬底上；采用分子梳梳理吸附在衬底上的DNA分子，DNA分子链被拉直，由于分子梳梳理DNA不可逆，沿着一个方向梳理后，将衬底再次浸入DNA溶液，让DNA分子再次吸附在衬底上，调换分子梳90度，对再次吸附在衬底上的DNA分子进行梳理，形成DNA网络。由此可见，对比文件2的DNA分子被吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框区域，而是经由水平分子梳的梳理，将两条NDA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个水平边平行排列，并在衬底上再次吸附DNA分子，用垂直分子梳梳理，将两条DNA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个垂直边平行排列，由四条被梳直的DNA分子链形成一个直角框，显然，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性而能够使得一个矩形框形状的DNA分子吸附于末端固定剂的直角框区域，因而并未公开上述区别技术特征，无法给出相应的技术启示。并且，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
并且，上述区别技术特征也不是所属技术领域的公知常识，同时，该技术特征使得权利要求1的技术方案产生了有益的技术效果：衬底上的区域可选择性的吸附一个与该区域大小和/或形态对应的特定核酸结构，实现核酸结构与衬底上区域一一对应的自组装，并且能够实现核酸结构在衬底上具有方向性定向自组装。
基于以上理由，权利要求23相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-5、在独立权利要求1、15、18、23具备创造性的情况下，直接或间接引用其的从属权利要求2-14、16-17、19-22、24-27同样具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、针对驳回决定和前置审查相关意见的答复：
对于驳回决定和前置审查意见，合议组认为：1）对比文件1说明书第[0013]-[0014]段以及说明书附图3e、3f中多核苷酸支架被折叠成具有矩形区域的三角形以及带有梯形区域的尖锐三角形。由此可见，仅仅公开了多核苷酸支架被折叠形成各种形状，并不涉及衬底上的区域与多核苷酸支架折叠形成的纳米结构之间的拓扑关系，也没有公开任何有关图案化衬底上的区域对特定核酸结构显示拓扑特异性的内容。2）对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的数量以及所述区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有任何提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，也就不能实现衬底上的区域选择性的吸附对应的核酸纳米图案而进行自组装，也无法实现核酸纳米图案具有方向性的定向自组装，因而没有给出衬底上的区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现衬底上的区域能够选择性的吸附特定核酸纳米图案以及实现核酸纳米图案具有方向性的定向自组装的教导。对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，DNA分子吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框区域，而是经由水平分子梳、垂直分子束两次梳理两次吸附的DNA分子，将四条DNA分子链梳理成两条沿着末端固定剂的矩形框的水平边平行排列、以及两条沿着末端固定剂的矩形框的垂直边平行排列以形成直角框，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性，不能直接吸附一个具有直角框形状的特定DNA分子链，无法给出相应的技术启示。此外，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2中将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
基于以上事实和理由，合议组现依法作出以下审查决定。至于本申请是否存在专利法及其实施细则规定的其它缺陷，由实质审查部门继续进行审查。
三、决定
撤销国家知识产权局于2019年03月13日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局实质审查部门以本复审请求审查决定所针对的文本为基础继续进行审批程序。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
本复审请求涉及申请号为201680019953.X，发明名称为“使用自组装核酸形成纳米结构的方法及其纳米结构”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为美光科技公司，申请日为2016年03月11日，优先权日为2015年04月02日，进入中国国家阶段日为2017年09月29日，公开日为2017年12月01日。
经实质审查，国家知识产权局实质审查部门于2019年03月13日发出驳回决定，以权利要求1-6、10-23、26-32不符合专利法第22条第3款的规定为由驳回了本申请。驳回决定所依据的文本为：2018年03月28日提交的权利要求第1-32项；2017年09月29日进入中国国家阶段时提交的国际申请的中文译文的说明书第1-8页、说明书附图第1-6页、说明书摘要及摘要附图。
驳回决定所针对的权利要求书内容如下：
“1. 一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：
形成包括多个区域的图案化衬底，所述图案化衬底的所述区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构；
在形成所述图案化衬底之后，使所述图案化衬底与包含所述特定核酸结构的核酸结构接触；以及
在使所述图案化衬底与所述核酸结构接触之后，将所述核酸结构的特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域，以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。
2. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装。
3. 根据权利要求2所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装包括在所述图案化衬底上由具有小于10nm的尺寸的多个DNA子单元形成所述DNA结构。
4. 根据权利要求2所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装包括在所述图案化衬底上形成具有100到200nm的尺寸的DNA折纸结构。
5. 根据权利要求1所述的方法，其中形成图案化衬底包括：
图案化所述衬底以产生所述多个区域，其中所述区域中的每一个显示对所述核酸结构中的特定核酸结构的拓扑特异性。
6. 根据权利要求1所述的方法，其中形成图案化衬底包括：
图案化所述衬底以产生所述多个区域，其中所述区域中的每一个显示对所述核酸结构中的特定核酸结构的化学特异性。
7. 根据权利要求1所述的方法，其中形成图案化衬底包括：
在所述图案化衬底上形成官能化间隔物，其中所述官能化间隔物包括官能团，其 经配置以与所述核酸结构上的官能团化学地相互作用。
8. 根据权利要求7所述的方法，其进一步包括在所述图案化衬底上形成核酸结构的所述定向自组装之前，官能化所述核酸结构以在所述核酸结构上提供所述官能团。
9. 根据权利要求7所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成官能化间隔物包括：
在所述图案化衬底上形成牺牲图案材料及间隔物；
从所述图案化衬底移除所述牺牲图案材料；及
官能化从所述图案化衬底突出的所述间隔物。
10. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括：使用定向控制及顺序控制中的至少一者在所述图案化衬底上形成核酸结构的所述定向自组装。
11. 根据权利要求1所述的方法，进一步包括使用所述图案化衬底上的核酸结构的所述定向自组装形成接触孔图案。
12. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括在所述图案化衬底上形成包含呈次光刻节距的多个开口的核酸结构的定向自组装。
13. 根据权利要求12所述的方法，进一步包括使用核酸结构的所述定向自组装在所述图案化衬底上形成呈次光刻节距的次光刻特征或支柱的阵列。
14. 根据权利要求1所述的方法，其进一步包括使用核酸结构的所述定向自组装在所述图案化衬底上形成次光刻特征。
15. 根据权利要求14所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成次光刻特征包括在所述图案化衬底上形成包括规则、周期性图案或不规则图案的所述次光刻特征。
16. 根据权利要求15所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成所述规则、周期性图案或不规则图案包括形成对应于所述图案化衬底上的密集阵列特征或外围布线、逻 辑、互连件或触点的图案。
17. 一种纳米结构，其包括图案化衬底上的DNA结构的定向自组装，
所述图案化衬底包括区域以及选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的每一个的DNA结构的所述定向自组装的特定DNA结构，所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述特定DNA结构的大小或形态中的至少一个。
18. 根据权利要求17所述的纳米结构，其中所述DNA结构包括具有小于10nm的尺寸的多个DNA子单元。
19. 根据权利要求17所述的纳米结构，其中所述DNA结构包括DNA折纸结构，其具有100nm到200nm的尺寸。
20. 根据权利要求17所述的纳米结构，其中所述图案化衬底的所述区域中的每一个显示对DNA结构的所述定向自组装的所述DNA结构中的一个的化学特异性或拓扑特异性中的至少一个。
21. 一种纳米结构，其包括：
在包含区域的图案化衬底上的核酸结构的定向自组装，核酸结构的所述定向自组装中的所述核酸结构中的每一个经选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的一个，并且所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述核酸结构中的每一个的大小或形态中的至少一个。
22. 根据权利要求21所述的纳米结构，其中所述核酸结构包括在所述核酸结构内的各向同性图案或子结构。
23. 根据权利要求21所述的纳米结构，其中所述核酸结构包括在所述核酸结构内的各向异性图案或子结构。
24. 根据权利要求21所述的纳米结构，其中所述图案化衬底包括多个间隔物，所述间隔物中的每一者包括官能团，其经配置以与核酸结构的所述定向自组装中的所述核酸结构中的一者化学地相互作用。
25. 根据权利要求24所述的纳米结构，其中所述核酸结构包括官能团，其经配置以与所述图案化衬底的所述间隔物上的所述官能团化学地相互作用。
26. 一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：
形成包含区域的图案化衬底，所述区域包含对核酸结构的化学特异性或拓扑特异性中的至少一种；以及
在形成图案化衬底之后，选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。
27. 根据权利要求26所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：选择性地将特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的特定区域上。
28. 根据权利要求27所述的方法，其中选择性地将特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的特定区域上包括：将所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述区域以实现最低能量配置。
29. 根据权利要求26所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：将所述核酸结构吸附到包含拓扑特异性的所述图案化衬底的所述对应区域。
30. 根据权利要求29所述的方法，其中将所述核酸结构吸附到包含拓扑特异性的所述图案化衬底的所述对应区域包括：将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域，所述图案化衬底的所述对应区域包含对应于所述核酸结构的大小或形态中的至少一个的尺寸或形态中的至少一个。
31. 根据权利要求26所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上包括：将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域，所述图案化衬底的所述对应区域包含与所述核酸结构的化学特异性。
32. 根据权利要求31所述的方法，其中将所述核酸结构吸附到包含与所述核酸结构的化学特异性的所述图案化衬底的所述对应区域包括：通过范德华、离子相互作用或静电相互作用中的至少一个将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域。”
驳回决定中引用如下对比文件：
对比文件1：US2007117109A1，公开日为2007年05月24日；
对比文件2：CN1379113A，公开日为2002年11月13日。
驳回决定具体理由为：1）独立权利要求1请求保护的技术方案相对于对比文件1的区别技术特征在于：图案化衬底包括多个区域，每一个区域吸附特定核酸结构。独立权利要求17请求保护的技术方案相对于对比文件1的区别技术特征在于：图案化衬底包括多个区域，每一个区域吸附特定DNA结构，区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于特定DNA结构的大小或形态中的至少一个。独立权利要求21请求保护的技术方案相对于对比文件1的区别技术特征在于：核酸结构中的每一个经选择性吸附到图案化衬底的一个区域，区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于核酸结构的大小或形态中的至少一个。独立权利要求26请求保护的技术方案相对于对比文件1的区别技术特征在于：选择性地将核酸结构吸附到图案化衬底的对应区域。上述区别技术特征在对比文件2中已经公开且作用相同。从属权利要求2-6、10-16、18-20、22-23、27-32的附加技术特征或被对比文件1、2公开或为本领域的公知常识。因此，权利要求1-6、10-23、26-32不具备专利法第22条第3款规定的创造性。针对申请人的意见陈述，驳回决定中指出：对比文件1已经公开了通过激光图案化（参见说明书第43段），形成特定核酸结构（参见说明书第37段），权利要求1与对比文件1的区别在于：图案化衬底包括多个区域，每一个区域吸附特定核酸结构。对比文件2公开了：刻蚀基底形成具有边长的直角线框（相当于该权利要求中的多个区域），使DNA分子在基底上吸附，形成同样边长的方形DNA网络（相当于该权利要求中的每一个区域吸附特定核酸结构）（参见说明书第4页第10行-第13行）。可见，对比文件2给出了图案化衬底时将衬底分成多个区域以及在相关区域吸附DNA的技术启示。本领域技术人员在对比文件1和对比文件2的启示下，很容易想到图案化衬底包括多个区域，每一个区域吸附特定核酸结构，并不会带来预料不到的技术效果。因此，权利要求1-6、10-23、26-32不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年06月26日向国家知识产权局提出了复审请求，同时提交了权利要求书的修改替换页（包括权利要求第1-27项）。具体修改如下：在驳回决定所针对的权利要求的基础上，主要修改内容如下：在独立权利要求1、17、21中分别增加 “并且所述区域中的每一个显示：对所述特定核酸结构的拓扑特异性；或对所述特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性”、“并且所述区域中的每一个显示：对所述特定DNA结构的拓扑特异性；或对所述特定DNA结构的拓扑特异性和化学特异性”、“并且所述区域中的每一个显示：对所述核酸结构的拓扑特异性；或对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性”，将独立权利要求26“所述区域包含对核酸结构的化学特异性或拓扑特异性中的至少一种”修改为“所述区域包含：对核酸结构的拓扑特异性；或对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性”，将原独立权利要求1以及从属权利要求2、10、12 “特定核酸”修改为“所述特定核酸”，将原从属权利要求18-19 “所述DNA结构”修改为“所述特定DNA结构”，将原从属权利要求30的附加技术特征修改为“其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：选择性地将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上，所述图案化衬底的所述对应区域包含对应于所述核酸结构的大小或形态中的至少一个的尺寸或形态中的至少一个”，将原从属权利要求32的附加技术特征修改为“其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：通过范德华、离子相互作用或静电相互作用中的至少一个选择性地将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上”，删除原从属权利要求5-6、20、29、31，适应性修改权利要求序号和引用关系。复审请求人认为：1）对比文件1、2均未公开“所述区域中的每一个显示：对所述特定核酸结构的拓扑特异性；或对所述特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性”（特征A），因而没有教导或暗示“形成包括多个区域的图案化衬底，所述图案化衬底的所述区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构，所述区域中的每一个具有特征A”, 并且，必然没有教导或暗示“将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域，其中所述区域具有特征A”。2）对比文件1没有教导或暗示形成图案化的衬底，教导的是将核苷酸支架以预定图案放置在衬底上。
提交复审请求时新修改的权利要求1-2、8、10、15-18、23、26-27内容如下：
“1. 一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：
形成包括多个区域的图案化衬底，所述图案化衬底的所述区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构，并且所述区域中的每一个显示：
对所述特定核酸结构的拓扑特异性；或
对所述特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；
在形成所述图案化衬底之后，使所述图案化衬底与包含所述特定核酸结构的核酸结构接触；以及
在使所述图案化衬底与所述核酸结构接触之后，将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域，以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。”
“2. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装。”
“8. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括：使用定向控制及顺序控制中的至少一者在所述图案化衬底上形成核酸结构的所述定向自组装。”
“10. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括在所述图案化衬底上形成包含呈次光刻节距的多个开口的核酸结构的定向自组装。”
“15. 一种纳米结构，其包括图案化衬底上的DNA结构的定向自组装，
所述图案化衬底包括区域以及选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的每一个的DNA结构的所述定向自组装的特定DNA结构，所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述特定DNA结构的大小或形态中的至少一个，并且 所述区域中的每一个显示：
对所述特定DNA结构的拓扑特异性；或
对所述特定DNA结构的拓扑特异性和化学特异性。”
“16. 根据权利要求15所述的纳米结构，其中所述特定DNA结构包括具有小于10nm的尺寸的多个DNA子单元。”
“17. 根据权利要求15所述的纳米结构，其中所述特定DNA结构包括DNA折纸结构，其具有100nm到200nm的尺寸。”
“18. 一种纳米结构，其包括：
在包含区域的图案化衬底上的核酸结构的定向自组装，核酸结构的所述定向自组装中的所述核酸结构中的每一个经选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的一个，并且所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述核酸结构中的每一个的大小或形态中的至少一个，并且所述区域中的每一个显示：
对所述核酸结构的拓扑特异性；或
对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性。”
“23. 一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：
形成包含区域的图案化衬底，所述区域包含：
对核酸结构的拓扑特异性；或
对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；以及
在形成图案化衬底之后，选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。”
“26. 根据权利要求23所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：选择性地将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上，所述图案化衬底的所述对应区域包含对应于所述核酸结构的大小或形态中的至少一个的尺寸或形态中的至少一个。”
“27. 根据权利要求23所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：通过范德华、离子相互作用或静电相互作用中的至少一个选择性地将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上。”
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年07月02日依法受理了该复审请求，并将其转送至实质审查部门进行前置审查。
实质审查部门在前置审查意见书中认为，对比文件1已经公开了：图案化衬底显示对核酸结构的特定核酸结构的拓扑特异性（附图3e、3f呈拓扑（网络）特性）（参见说明书附图3e、3f，说明书第13-14段）。可见，对比文件1已经公开了衬底具有对特定核酸结构的拓扑特异性，而具有化学特异性是本领域的公知常识。因此，新修改的权利要求1、15、18、23不具备创造性，坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
经过充分阅卷并合议，合议组认为本案事实已经清楚，可以依法作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人提交复审请求时，提交了权利要求书的全文修改替换页（包括权利要求第1-27项）。经审查，所作修改符合专利法实施细则第61条第1款和专利法第33条的规定。本复审请求审查决定所依据的文本为：复审请求日2019年06月26日提交的权利要求第1-27项；2017年09月29日进入中国国家阶段时提交的国际申请的中文译文的说明书第1-8页、说明书附图第1-6页、说明书摘要及摘要附图。
2、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案相对于最接近的现有技术存在区别技术特征，该区别技术特征既没有被其他对比文件披露，也不属于本领域的公知常识，并且该区别技术特征为该项权利要求的技术方案带来了有益的技术效果，则该项权利要求具有突出的实质性特点和显著的进步，具备创造性。
本复审请求审查决定引用的对比文件与驳回决定中引用的对比文件相同，即：
对比文件1：US2007117109A1，公开日为2007年05月24日；
对比文件2：CN1379113A，公开日为2002年11月13日。
2-1、权利要求1请求保护一种形成纳米结构的方法。对比文件1为最接近的现有技术，其公开了一种核酸纳米结构（参见说明书第[0007]-[0011]段，附图1-3）：包括结构单元，每一结构单元包括单链多核苷酸支架以及多条辅助链，辅助链设计为与单链多核苷酸支架至少部分互补以与单链多核苷酸支架自退火成结构单元，其中，辅助链在两个或更多的区域结合单链多核苷酸支架，将单链多核苷酸支架的这些分开的区域放在一起以在单链多核苷酸支架中形成所需的弯曲，从而将支架折叠成各种形状的纳米图案；其中，辅助链与单链多核苷酸支架在缓冲溶液中混合而与单链多核苷酸支架杂交，使得单链多核苷酸支架在溶液中折叠并施加到衬底上（说明书第[0056]段）；基板表面包含特定类型的电荷和/或可以连接至单链多核苷酸支架的配体，纳米图案沉积在衬底上可以作为衬底进一步处理的掩模，如图案化电子电路（说明书第[0098]-[0100]段）。纳米图案用作图案化电子电路的掩模，必定是特定图案（即特定核酸结构）并经由特定电荷和/或配体吸附于衬底上的特定区域。由此可以确定，衬底必定经图案化以在特定区域包含用于吸附纳米图案的特定电荷和/或配体，显示对纳米图案的化学特异性，特定区域经调试以吸附特定核酸结构，衬底与特定核酸结构接触而使得特定核酸结构吸附到衬底上的特定区域，以在衬底上形成核酸结构的自组装。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征在于：形成包括多个区域的图案化衬底，图案化衬底的区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构，区域中的每一个显示：对特定核酸结构的拓扑特异性；或对特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；将核酸结构的特定核酸结构吸附到图案化衬底的每个区域，以在图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。 基于上述区别技术特征，可以确定该权利要求相对于对比文件1实际解决的技术问题是：实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的定向自组装。
首先，对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的核酸纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装，仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的数量、以及所述区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，即衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，核酸纳米图案不能被选择性的吸附于衬底上的特定区域，不能实现衬底上的区域与核酸纳米图案一一对应的自组装，核酸纳米结构在衬底上的自组装没有方向性，也无法实现定向自组装，没有给出衬底上的多个区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现多个区域与多个核酸纳米图案一一对应的定向自组装的教导。
其次，对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第1行至第5页最后1行）：使用末端固定剂，对末端固定剂在衬底上进行处理以形成不等边长直角或等边长直角框；将处理后的衬底浸入稀释的DNA溶液，使DNA分子吸附在衬底上；采用分子梳梳理吸附在衬底上的DNA分子，DNA分子链被拉直，由于分子梳梳理DNA不可逆，沿着一个方向梳理后，将衬底再次浸入DNA溶液，让DNA分子再次吸附在衬底上，调换分子梳90度，对再次吸附在衬底上的DNA分子进行梳理，形成DNA网络。由此可见，对比文件2的DNA分子被吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框，而是经由水平分子梳的梳理，将两条NDA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个水平边平行排列，并在衬底上再次吸附DNA分子，用垂直分子梳梳理，将两条DNA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个垂直边平行排列，由四条被梳直的DNA分子链形成一个直角框，显然，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性而能够使得一个矩形框形状的DNA分子吸附于末端固定剂的直角框区域，因而并未公开上述区别技术特征，无法给出相应的技术启示。并且，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
并且，上述区别技术特征也不是所属技术领域的公知常识，同时，该技术特征使得权利要求1的技术方案产生了有益的技术效果：衬底上的多个区域的每一个区域吸附一个与该区域大小和/或形态对应的特定核酸结构，实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的自组装，并且能够实现核酸结构在衬底上具有方向性定向自组装。
基于以上理由，权利要求1相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-2、权利要求15请求保护一种形成纳米结构。对比文件1为最接近的现有技术，其公开了一种核酸纳米结构（参见说明书第[0007]-[0011]段，附图1-3）：包括结构单元，每一结构单元包括单链多核苷酸支架以及多条辅助链，辅助链设计为与单链多核苷酸支架至少部分互补以与单链多核苷酸支架自退火成结构单元，其中，辅助链在两个或更多的区域结合单链多核苷酸支架，将单链多核苷酸支架的这些分开的区域放在一起以在单链多核苷酸支架中形成所需的弯曲，从而将支架折叠成各种形状的纳米图案；其中，辅助链与单链多核苷酸支架在缓冲溶液中混合而与单链多核苷酸支架杂交，使得单链多核苷酸支架在溶液中折叠并施加到衬底上（说明书第[0056]段）；基板表面包含特定类型的电荷和/或可以连接至单链多核苷酸支架的配体，纳米图案沉积在衬底上可以作为衬底进一步处理的掩模，如图案化电子电路（说明书第[0098]-[0100]段）。纳米图案用作图案化电子电路的掩模，必定是特定图案（即特定核酸结构）并经由特定电荷和/或配体吸附于衬底上的特定区域，由此可以确定，衬底必定经图案化以在特定区域包含用于吸附纳米图案的特定电荷和/或配体，显示对纳米图案的化学特异性，特定区域经调试以吸附特定核酸结构，衬底与特定核酸结构接触而使得特定核酸结构吸附到衬底上的特定区域，以在衬底上形成核酸结构的自组装。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征在于：DNA结构的定向自组装；选择性吸附到图案化衬底的区域中的每一个的DNA结构的定向自组装的特定DNA结构，区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于特定DNA结构的大小或形态中的至少一个，并且区域中的每一个显示： 对特定DNA结构的拓扑特异性；或对所述特定DNA结构的拓扑特异性和化学特异性。基于上述区别技术特征，可以确定该权利要求相对于对比文件1实际解决的技术问题是：实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的定向自组装。
首先，对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的核酸纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装，仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的数量、以及所述区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，即衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，核酸纳米图案不能被选择性的吸附于衬底上的特定区域，不能实现衬底上的区域与核酸纳米图案一一对应的自组装，核酸纳米结构在衬底上的自组装没有方向性，也无法实现定向自组装，没有给出衬底上的多个区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现多个区域与多个核酸纳米图案一一对应的定向自组装的教导。
其次，对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第1行至第5页最后1行）：使用末端固定剂，对末端固定剂在衬底上进行处理以形成不等边长直角或等边长直角框；将处理后的衬底浸入稀释的DNA溶液，使DNA分子吸附在衬底上；采用分子梳梳理吸附在衬底上的DNA分子，DNA分子链被拉直，由于分子梳梳理DNA不可逆，沿着一个方向梳理后，将衬底再次浸入DNA溶液，让DNA分子再次吸附在衬底上，调换分子梳90度，对再次吸附在衬底上的DNA分子进行梳理，形成DNA网络。由此可见，对比文件2的DNA分子被吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框区域，而是经由水平分子梳的梳理，将两条NDA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个水平边平行排列，并在衬底上再次吸附DNA分子，用垂直分子梳梳理，将两条DNA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个垂直边平行排列，由四条被梳直的DNA分子链形成一个直角框，显然，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性而能够使得一个矩形框形状的DNA分子吸附于末端固定剂的直角框区域，因而并未公开上述区别技术特征，无法给出相应的技术启示。并且，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
并且，上述区别技术特征也不是所属技术领域的公知常识，同时，该技术特征使得权利要求1的技术方案产生了有益的技术效果：衬底上的多个区域的每一个区域吸附一个与该区域大小和/或形态对应的特定核酸结构，实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的自组装，并且能够实现核酸结构在衬底上具有方向性定向自组装。
基于以上理由，权利要求15相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-3、权利要求18请求保护一种形成纳米结构。对比文件1为最接近的现有技术，其公开了一种核酸纳米结构（参见说明书第[0007]-[0011]段，附图1-3）：包括结构单元，每一结构单元包括单链多核苷酸支架以及多条辅助链，辅助链设计为与单链多核苷酸支架至少部分互补以与单链多核苷酸支架自退火成结构单元，其中，辅助链在两个或更多的区域结合单链多核苷酸支架，将单链多核苷酸支架的这些分开的区域放在一起以在单链多核苷酸支架中形成所需的弯曲，从而将支架折叠成各种形状的纳米图案；其中，辅助链与单链多核苷酸支架在缓冲溶液中混合而与单链多核苷酸支架杂交，使得单链多核苷酸支架在溶液中折叠并施加到衬底上（说明书第[0056]段）；基板表面包含特定类型的电荷和/或可以连接至单链多核苷酸支架的配体，纳米图案沉积在衬底上可以作为衬底进一步处理的掩模，如图案化电子电路（说明书第[0098]-[0100]段）。纳米图案用作图案化电子电路的掩模，必定是特定图案（即特定核酸结构）并经由特定电荷和/或配体吸附于衬底上的特定区域，由此可以确定，衬底必定经图案化以在特定区域包含用于吸附纳米图案的特定电荷和/或配体，显示对纳米图案的化学特异性，特定区域经调试以吸附特定核酸结构，衬底与特定核酸结构接触而使得特定核酸结构吸附到衬底上的特定区域，以在衬底上形成核酸结构的自组装。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征在于：核酸结构的定向自组装；核酸结构的所述定向自组装中所述核酸结构中的每一个经选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的一个，并且所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述核酸结构中的每一个的大小或形态中的至少一个，并且所述区域中的每一个显示：对所述核酸结构的拓扑特异性；或对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性。基于上述区别技术特征，可以确定该权利要求相对于对比文件1实际解决的技术问题是：实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的定向自组装。
首先，对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的核酸纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装，仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的数量、以及所述区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，即衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，核酸纳米图案不能被选择性的吸附于衬底上的特定区域，不能实现衬底上的区域与核酸纳米图案一一对应的自组装，核酸纳米结构在衬底上的自组装没有方向性，也无法实现定向自组装，没有给出衬底上的多个区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现多个区域与多个核酸纳米图案一一对应的定向自组装的教导。
其次，对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第1行至第5页最后1行）：使用末端固定剂，对末端固定剂在衬底上进行处理以形成不等边长直角或等边长直角框；将处理后的衬底浸入稀释的DNA溶液，使DNA分子吸附在衬底上；采用分子梳梳理吸附在衬底上的DNA分子，DNA分子链被拉直，由于分子梳梳理DNA不可逆，沿着一个方向梳理后，将衬底再次浸入DNA溶液，让DNA分子再次吸附在衬底上，调换分子梳90度，对再次吸附在衬底上的DNA分子进行梳理，形成DNA网络。由此可见，对比文件2的DNA分子被吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框区域，而是经由水平分子梳的梳理，将两条NDA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个水平边平行排列，并在衬底上再次吸附DNA分子，用垂直分子梳梳理，将两条DNA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个垂直边平行排列，由四条被梳直的DNA分子链形成一个直角框，显然，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性而能够使得一个矩形框形状的DNA分子吸附于末端固定剂的直角框区域，因而并未公开上述区别技术特征，无法给出相应的技术启示。并且，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
并且，上述区别技术特征也不是所属技术领域的公知常识，同时，该技术特征使得权利要求1的技术方案产生了有益的技术效果：衬底上的多个区域的每一个区域吸附一个与该区域大小和/或形态对应的特定核酸结构，实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的自组装，并且能够实现核酸结构在衬底上具有方向性定向自组装。
基于以上理由，权利要求18相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-4、权利要求23请求保护一种形成纳米结构的方法。对比文件1为最接近的现有技术，其公开了一种核酸纳米结构（参见说明书第[0007]-[0011]段，附图1-3）：包括结构单元，每一结构单元包括单链多核苷酸支架以及多条辅助链，辅助链设计为与单链多核苷酸支架至少部分互补以与单链多核苷酸支架自退火成结构单元，其中，辅助链在两个或更多的区域结合单链多核苷酸支架，将单链多核苷酸支架的这些分开的区域放在一起以在单链多核苷酸支架中形成所需的弯曲，从而将支架折叠成各种形状的纳米图案；其中，辅助链与单链多核苷酸支架在缓冲溶液中混合而与单链多核苷酸支架杂交，使得单链多核苷酸支架在溶液中折叠并施加到衬底上（说明书第[0056]段）；基板表面包含特定类型的电荷和/或可以连接至单链多核苷酸支架的配体，纳米图案沉积在衬底上可以作为衬底进一步处理的掩模，如图案化电子电路（说明书第[0098]-[0100]段）。纳米图案用作图案化电子电路的掩模，必定是特定图案（即特定核酸结构）并经由特定电荷和/或配体吸附于衬底上的特定区域，由此可以确定，衬底必定经图案化以在特定区域包含用于吸附纳米图案的特定电荷和/或配体，显示对纳米图案的化学特异性，特定区域经调试以吸附特定核酸结构，衬底与特定核酸结构接触而使得特定核酸结构吸附到衬底上的特定区域，以在衬底上形成核酸结构的自组装。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征在于：区域包含：对核酸结构的拓扑特异性；或对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；选择性地将核酸结构吸附到图案化衬底的对应区域上以在图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。基于上述区别技术特征，可以确定该权利要求相对于对比文件1实际解决的技术问题是：实现在衬底上区域选择性吸附核酸结构以及实现核酸结构的定向自组装。
首先，对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的核酸纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装，仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，即衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，核酸纳米图案不能被选择性的吸附于衬底上的特定区域，不能实现衬底上的区域与核酸纳米图案一一对应的自组装，核酸纳米结构在衬底上的自组装没有方向性，也无法实现定向自组装，没有给出衬底上的区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现衬底上的区域能够选择性的吸附特定核酸纳米图案以及实现核酸纳米图案具有方向性的定向自组装的教导。
其次，对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第1行至第5页最后1行）：使用末端固定剂，对末端固定剂在衬底上进行处理以形成不等边长直角或等边长直角框；将处理后的衬底浸入稀释的DNA溶液，使DNA分子吸附在衬底上；采用分子梳梳理吸附在衬底上的DNA分子，DNA分子链被拉直，由于分子梳梳理DNA不可逆，沿着一个方向梳理后，将衬底再次浸入DNA溶液，让DNA分子再次吸附在衬底上，调换分子梳90度，对再次吸附在衬底上的DNA分子进行梳理，形成DNA网络。由此可见，对比文件2的DNA分子被吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框区域，而是经由水平分子梳的梳理，将两条NDA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个水平边平行排列，并在衬底上再次吸附DNA分子，用垂直分子梳梳理，将两条DNA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个垂直边平行排列，由四条被梳直的DNA分子链形成一个直角框，显然，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性而能够使得一个矩形框形状的DNA分子吸附于末端固定剂的直角框区域，因而并未公开上述区别技术特征，无法给出相应的技术启示。并且，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
并且，上述区别技术特征也不是所属技术领域的公知常识，同时，该技术特征使得权利要求1的技术方案产生了有益的技术效果：衬底上的区域可选择性的吸附一个与该区域大小和/或形态对应的特定核酸结构，实现核酸结构与衬底上区域一一对应的自组装，并且能够实现核酸结构在衬底上具有方向性定向自组装。
基于以上理由，权利要求23相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-5、在独立权利要求1、15、18、23具备创造性的情况下，直接或间接引用其的从属权利要求2-14、16-17、19-22、24-27同样具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、针对驳回决定和前置审查相关意见的答复：
对于驳回决定和前置审查意见，合议组认为：1）对比文件1说明书第[0013]-[0014]段以及说明书附图3e、3f中多核苷酸支架被折叠成具有矩形区域的三角形以及带有梯形区域的尖锐三角形。由此可见，仅仅公开了多核苷酸支架被折叠形成各种形状，并不涉及衬底上的区域与多核苷酸支架折叠形成的纳米结构之间的拓扑关系，也没有公开任何有关图案化衬底上的区域对特定核酸结构显示拓扑特异性的内容。2）对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的数量以及所述区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有任何提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，也就不能实现衬底上的区域选择性的吸附对应的核酸纳米图案而进行自组装，也无法实现核酸纳米图案具有方向性的定向自组装，因而没有给出衬底上的区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现衬底上的区域能够选择性的吸附特定核酸纳米图案以及实现核酸纳米图案具有方向性的定向自组装的教导。对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，DNA分子吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框区域，而是经由水平分子梳、垂直分子束两次梳理两次吸附的DNA分子，将四条DNA分子链梳理成两条沿着末端固定剂的矩形框的水平边平行排列、以及两条沿着末端固定剂的矩形框的垂直边平行排列以形成直角框，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性，不能直接吸附一个具有直角框形状的特定DNA分子链，无法给出相应的技术启示。此外，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2中将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
基于以上事实和理由，合议组现依法作出以下审查决定。至于本申请是否存在专利法及其实施细则规定的其它缺陷，由实质审查部门继续进行审查。
三、决定
撤销国家知识产权局于2019年03月13日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局实质审查部门以本复审请求审查决定所针对的文本为基础继续进行审批程序。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
本复审请求涉及申请号为201680019953.X，发明名称为“使用自组装核酸形成纳米结构的方法及其纳米结构”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为美光科技公司，申请日为2016年03月11日，优先权日为2015年04月02日，进入中国国家阶段日为2017年09月29日，公开日为2017年12月01日。
经实质审查，国家知识产权局实质审查部门于2019年03月13日发出驳回决定，以权利要求1-6、10-23、26-32不符合专利法第22条第3款的规定为由驳回了本申请。驳回决定所依据的文本为：2018年03月28日提交的权利要求第1-32项；2017年09月29日进入中国国家阶段时提交的国际申请的中文译文的说明书第1-8页、说明书附图第1-6页、说明书摘要及摘要附图。
驳回决定所针对的权利要求书内容如下：
“1. 一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：
形成包括多个区域的图案化衬底，所述图案化衬底的所述区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构；
在形成所述图案化衬底之后，使所述图案化衬底与包含所述特定核酸结构的核酸结构接触；以及
在使所述图案化衬底与所述核酸结构接触之后，将所述核酸结构的特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域，以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。
2. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装。
3. 根据权利要求2所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装包括在所述图案化衬底上由具有小于10nm的尺寸的多个DNA子单元形成所述DNA结构。
4. 根据权利要求2所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装包括在所述图案化衬底上形成具有100到200nm的尺寸的DNA折纸结构。
5. 根据权利要求1所述的方法，其中形成图案化衬底包括：
图案化所述衬底以产生所述多个区域，其中所述区域中的每一个显示对所述核酸结构中的特定核酸结构的拓扑特异性。
6. 根据权利要求1所述的方法，其中形成图案化衬底包括：
图案化所述衬底以产生所述多个区域，其中所述区域中的每一个显示对所述核酸结构中的特定核酸结构的化学特异性。
7. 根据权利要求1所述的方法，其中形成图案化衬底包括：
在所述图案化衬底上形成官能化间隔物，其中所述官能化间隔物包括官能团，其 经配置以与所述核酸结构上的官能团化学地相互作用。
8. 根据权利要求7所述的方法，其进一步包括在所述图案化衬底上形成核酸结构的所述定向自组装之前，官能化所述核酸结构以在所述核酸结构上提供所述官能团。
9. 根据权利要求7所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成官能化间隔物包括：
在所述图案化衬底上形成牺牲图案材料及间隔物；
从所述图案化衬底移除所述牺牲图案材料；及
官能化从所述图案化衬底突出的所述间隔物。
10. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括：使用定向控制及顺序控制中的至少一者在所述图案化衬底上形成核酸结构的所述定向自组装。
11. 根据权利要求1所述的方法，进一步包括使用所述图案化衬底上的核酸结构的所述定向自组装形成接触孔图案。
12. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括在所述图案化衬底上形成包含呈次光刻节距的多个开口的核酸结构的定向自组装。
13. 根据权利要求12所述的方法，进一步包括使用核酸结构的所述定向自组装在所述图案化衬底上形成呈次光刻节距的次光刻特征或支柱的阵列。
14. 根据权利要求1所述的方法，其进一步包括使用核酸结构的所述定向自组装在所述图案化衬底上形成次光刻特征。
15. 根据权利要求14所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成次光刻特征包括在所述图案化衬底上形成包括规则、周期性图案或不规则图案的所述次光刻特征。
16. 根据权利要求15所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成所述规则、周期性图案或不规则图案包括形成对应于所述图案化衬底上的密集阵列特征或外围布线、逻 辑、互连件或触点的图案。
17. 一种纳米结构，其包括图案化衬底上的DNA结构的定向自组装，
所述图案化衬底包括区域以及选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的每一个的DNA结构的所述定向自组装的特定DNA结构，所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述特定DNA结构的大小或形态中的至少一个。
18. 根据权利要求17所述的纳米结构，其中所述DNA结构包括具有小于10nm的尺寸的多个DNA子单元。
19. 根据权利要求17所述的纳米结构，其中所述DNA结构包括DNA折纸结构，其具有100nm到200nm的尺寸。
20. 根据权利要求17所述的纳米结构，其中所述图案化衬底的所述区域中的每一个显示对DNA结构的所述定向自组装的所述DNA结构中的一个的化学特异性或拓扑特异性中的至少一个。
21. 一种纳米结构，其包括：
在包含区域的图案化衬底上的核酸结构的定向自组装，核酸结构的所述定向自组装中的所述核酸结构中的每一个经选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的一个，并且所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述核酸结构中的每一个的大小或形态中的至少一个。
22. 根据权利要求21所述的纳米结构，其中所述核酸结构包括在所述核酸结构内的各向同性图案或子结构。
23. 根据权利要求21所述的纳米结构，其中所述核酸结构包括在所述核酸结构内的各向异性图案或子结构。
24. 根据权利要求21所述的纳米结构，其中所述图案化衬底包括多个间隔物，所述间隔物中的每一者包括官能团，其经配置以与核酸结构的所述定向自组装中的所述核酸结构中的一者化学地相互作用。
25. 根据权利要求24所述的纳米结构，其中所述核酸结构包括官能团，其经配置以与所述图案化衬底的所述间隔物上的所述官能团化学地相互作用。
26. 一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：
形成包含区域的图案化衬底，所述区域包含对核酸结构的化学特异性或拓扑特异性中的至少一种；以及
在形成图案化衬底之后，选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。
27. 根据权利要求26所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：选择性地将特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的特定区域上。
28. 根据权利要求27所述的方法，其中选择性地将特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的特定区域上包括：将所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述区域以实现最低能量配置。
29. 根据权利要求26所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：将所述核酸结构吸附到包含拓扑特异性的所述图案化衬底的所述对应区域。
30. 根据权利要求29所述的方法，其中将所述核酸结构吸附到包含拓扑特异性的所述图案化衬底的所述对应区域包括：将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域，所述图案化衬底的所述对应区域包含对应于所述核酸结构的大小或形态中的至少一个的尺寸或形态中的至少一个。
31. 根据权利要求26所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上包括：将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域，所述图案化衬底的所述对应区域包含与所述核酸结构的化学特异性。
32. 根据权利要求31所述的方法，其中将所述核酸结构吸附到包含与所述核酸结构的化学特异性的所述图案化衬底的所述对应区域包括：通过范德华、离子相互作用或静电相互作用中的至少一个将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域。”
驳回决定中引用如下对比文件：
对比文件1：US2007117109A1，公开日为2007年05月24日；
对比文件2：CN1379113A，公开日为2002年11月13日。
驳回决定具体理由为：1）独立权利要求1请求保护的技术方案相对于对比文件1的区别技术特征在于：图案化衬底包括多个区域，每一个区域吸附特定核酸结构。独立权利要求17请求保护的技术方案相对于对比文件1的区别技术特征在于：图案化衬底包括多个区域，每一个区域吸附特定DNA结构，区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于特定DNA结构的大小或形态中的至少一个。独立权利要求21请求保护的技术方案相对于对比文件1的区别技术特征在于：核酸结构中的每一个经选择性吸附到图案化衬底的一个区域，区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于核酸结构的大小或形态中的至少一个。独立权利要求26请求保护的技术方案相对于对比文件1的区别技术特征在于：选择性地将核酸结构吸附到图案化衬底的对应区域。上述区别技术特征在对比文件2中已经公开且作用相同。从属权利要求2-6、10-16、18-20、22-23、27-32的附加技术特征或被对比文件1、2公开或为本领域的公知常识。因此，权利要求1-6、10-23、26-32不具备专利法第22条第3款规定的创造性。针对申请人的意见陈述，驳回决定中指出：对比文件1已经公开了通过激光图案化（参见说明书第43段），形成特定核酸结构（参见说明书第37段），权利要求1与对比文件1的区别在于：图案化衬底包括多个区域，每一个区域吸附特定核酸结构。对比文件2公开了：刻蚀基底形成具有边长的直角线框（相当于该权利要求中的多个区域），使DNA分子在基底上吸附，形成同样边长的方形DNA网络（相当于该权利要求中的每一个区域吸附特定核酸结构）（参见说明书第4页第10行-第13行）。可见，对比文件2给出了图案化衬底时将衬底分成多个区域以及在相关区域吸附DNA的技术启示。本领域技术人员在对比文件1和对比文件2的启示下，很容易想到图案化衬底包括多个区域，每一个区域吸附特定核酸结构，并不会带来预料不到的技术效果。因此，权利要求1-6、10-23、26-32不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年06月26日向国家知识产权局提出了复审请求，同时提交了权利要求书的修改替换页（包括权利要求第1-27项）。具体修改如下：在驳回决定所针对的权利要求的基础上，主要修改内容如下：在独立权利要求1、17、21中分别增加 “并且所述区域中的每一个显示：对所述特定核酸结构的拓扑特异性；或对所述特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性”、“并且所述区域中的每一个显示：对所述特定DNA结构的拓扑特异性；或对所述特定DNA结构的拓扑特异性和化学特异性”、“并且所述区域中的每一个显示：对所述核酸结构的拓扑特异性；或对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性”，将独立权利要求26“所述区域包含对核酸结构的化学特异性或拓扑特异性中的至少一种”修改为“所述区域包含：对核酸结构的拓扑特异性；或对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性”，将原独立权利要求1以及从属权利要求2、10、12 “特定核酸”修改为“所述特定核酸”，将原从属权利要求18-19 “所述DNA结构”修改为“所述特定DNA结构”，将原从属权利要求30的附加技术特征修改为“其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：选择性地将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上，所述图案化衬底的所述对应区域包含对应于所述核酸结构的大小或形态中的至少一个的尺寸或形态中的至少一个”，将原从属权利要求32的附加技术特征修改为“其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：通过范德华、离子相互作用或静电相互作用中的至少一个选择性地将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上”，删除原从属权利要求5-6、20、29、31，适应性修改权利要求序号和引用关系。复审请求人认为：1）对比文件1、2均未公开“所述区域中的每一个显示：对所述特定核酸结构的拓扑特异性；或对所述特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性”（特征A），因而没有教导或暗示“形成包括多个区域的图案化衬底，所述图案化衬底的所述区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构，所述区域中的每一个具有特征A”, 并且，必然没有教导或暗示“将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域，其中所述区域具有特征A”。2）对比文件1没有教导或暗示形成图案化的衬底，教导的是将核苷酸支架以预定图案放置在衬底上。
提交复审请求时新修改的权利要求1-2、8、10、15-18、23、26-27内容如下：
“1. 一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：
形成包括多个区域的图案化衬底，所述图案化衬底的所述区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构，并且所述区域中的每一个显示：
对所述特定核酸结构的拓扑特异性；或
对所述特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；
在形成所述图案化衬底之后，使所述图案化衬底与包含所述特定核酸结构的核酸结构接触；以及
在使所述图案化衬底与所述核酸结构接触之后，将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域，以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。”
“2. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装。”
“8. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括：使用定向控制及顺序控制中的至少一者在所述图案化衬底上形成核酸结构的所述定向自组装。”
“10. 根据权利要求1所述的方法，其中将所述核酸结构的所述特定核酸结构吸附到所述图案化衬底的每个区域包括在所述图案化衬底上形成包含呈次光刻节距的多个开口的核酸结构的定向自组装。”
“15. 一种纳米结构，其包括图案化衬底上的DNA结构的定向自组装，
所述图案化衬底包括区域以及选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的每一个的DNA结构的所述定向自组装的特定DNA结构，所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述特定DNA结构的大小或形态中的至少一个，并且 所述区域中的每一个显示：
对所述特定DNA结构的拓扑特异性；或
对所述特定DNA结构的拓扑特异性和化学特异性。”
“16. 根据权利要求15所述的纳米结构，其中所述特定DNA结构包括具有小于10nm的尺寸的多个DNA子单元。”
“17. 根据权利要求15所述的纳米结构，其中所述特定DNA结构包括DNA折纸结构，其具有100nm到200nm的尺寸。”
“18. 一种纳米结构，其包括：
在包含区域的图案化衬底上的核酸结构的定向自组装，核酸结构的所述定向自组装中的所述核酸结构中的每一个经选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的一个，并且所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述核酸结构中的每一个的大小或形态中的至少一个，并且所述区域中的每一个显示：
对所述核酸结构的拓扑特异性；或
对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性。”
“23. 一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：
形成包含区域的图案化衬底，所述区域包含：
对核酸结构的拓扑特异性；或
对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；以及
在形成图案化衬底之后，选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。”
“26. 根据权利要求23所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：选择性地将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上，所述图案化衬底的所述对应区域包含对应于所述核酸结构的大小或形态中的至少一个的尺寸或形态中的至少一个。”
“27. 根据权利要求23所述的方法，其中选择性地将核酸结构吸附到所述图案化衬底的对应区域上包括：通过范德华、离子相互作用或静电相互作用中的至少一个选择性地将所述核酸结构吸附到所述图案化衬底的所述对应区域上。”
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年07月02日依法受理了该复审请求，并将其转送至实质审查部门进行前置审查。
实质审查部门在前置审查意见书中认为，对比文件1已经公开了：图案化衬底显示对核酸结构的特定核酸结构的拓扑特异性（附图3e、3f呈拓扑（网络）特性）（参见说明书附图3e、3f，说明书第13-14段）。可见，对比文件1已经公开了衬底具有对特定核酸结构的拓扑特异性，而具有化学特异性是本领域的公知常识。因此，新修改的权利要求1、15、18、23不具备创造性，坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
经过充分阅卷并合议，合议组认为本案事实已经清楚，可以依法作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人提交复审请求时，提交了权利要求书的全文修改替换页（包括权利要求第1-27项）。经审查，所作修改符合专利法实施细则第61条第1款和专利法第33条的规定。本复审请求审查决定所依据的文本为：复审请求日2019年06月26日提交的权利要求第1-27项；2017年09月29日进入中国国家阶段时提交的国际申请的中文译文的说明书第1-8页、说明书附图第1-6页、说明书摘要及摘要附图。
2、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案相对于最接近的现有技术存在区别技术特征，该区别技术特征既没有被其他对比文件披露，也不属于本领域的公知常识，并且该区别技术特征为该项权利要求的技术方案带来了有益的技术效果，则该项权利要求具有突出的实质性特点和显著的进步，具备创造性。
本复审请求审查决定引用的对比文件与驳回决定中引用的对比文件相同，即：
对比文件1：US2007117109A1，公开日为2007年05月24日；
对比文件2：CN1379113A，公开日为2002年11月13日。
2-1、权利要求1请求保护一种形成纳米结构的方法。对比文件1为最接近的现有技术，其公开了一种核酸纳米结构（参见说明书第[0007]-[0011]段，附图1-3）：包括结构单元，每一结构单元包括单链多核苷酸支架以及多条辅助链，辅助链设计为与单链多核苷酸支架至少部分互补以与单链多核苷酸支架自退火成结构单元，其中，辅助链在两个或更多的区域结合单链多核苷酸支架，将单链多核苷酸支架的这些分开的区域放在一起以在单链多核苷酸支架中形成所需的弯曲，从而将支架折叠成各种形状的纳米图案；其中，辅助链与单链多核苷酸支架在缓冲溶液中混合而与单链多核苷酸支架杂交，使得单链多核苷酸支架在溶液中折叠并施加到衬底上（说明书第[0056]段）；基板表面包含特定类型的电荷和/或可以连接至单链多核苷酸支架的配体，纳米图案沉积在衬底上可以作为衬底进一步处理的掩模，如图案化电子电路（说明书第[0098]-[0100]段）。纳米图案用作图案化电子电路的掩模，必定是特定图案（即特定核酸结构）并经由特定电荷和/或配体吸附于衬底上的特定区域。由此可以确定，衬底必定经图案化以在特定区域包含用于吸附纳米图案的特定电荷和/或配体，显示对纳米图案的化学特异性，特定区域经调试以吸附特定核酸结构，衬底与特定核酸结构接触而使得特定核酸结构吸附到衬底上的特定区域，以在衬底上形成核酸结构的自组装。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征在于：形成包括多个区域的图案化衬底，图案化衬底的区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构，区域中的每一个显示：对特定核酸结构的拓扑特异性；或对特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；将核酸结构的特定核酸结构吸附到图案化衬底的每个区域，以在图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。 基于上述区别技术特征，可以确定该权利要求相对于对比文件1实际解决的技术问题是：实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的定向自组装。
首先，对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的核酸纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装，仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的数量、以及所述区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，即衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，核酸纳米图案不能被选择性的吸附于衬底上的特定区域，不能实现衬底上的区域与核酸纳米图案一一对应的自组装，核酸纳米结构在衬底上的自组装没有方向性，也无法实现定向自组装，没有给出衬底上的多个区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现多个区域与多个核酸纳米图案一一对应的定向自组装的教导。
其次，对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第1行至第5页最后1行）：使用末端固定剂，对末端固定剂在衬底上进行处理以形成不等边长直角或等边长直角框；将处理后的衬底浸入稀释的DNA溶液，使DNA分子吸附在衬底上；采用分子梳梳理吸附在衬底上的DNA分子，DNA分子链被拉直，由于分子梳梳理DNA不可逆，沿着一个方向梳理后，将衬底再次浸入DNA溶液，让DNA分子再次吸附在衬底上，调换分子梳90度，对再次吸附在衬底上的DNA分子进行梳理，形成DNA网络。由此可见，对比文件2的DNA分子被吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框，而是经由水平分子梳的梳理，将两条NDA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个水平边平行排列，并在衬底上再次吸附DNA分子，用垂直分子梳梳理，将两条DNA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个垂直边平行排列，由四条被梳直的DNA分子链形成一个直角框，显然，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性而能够使得一个矩形框形状的DNA分子吸附于末端固定剂的直角框区域，因而并未公开上述区别技术特征，无法给出相应的技术启示。并且，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
并且，上述区别技术特征也不是所属技术领域的公知常识，同时，该技术特征使得权利要求1的技术方案产生了有益的技术效果：衬底上的多个区域的每一个区域吸附一个与该区域大小和/或形态对应的特定核酸结构，实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的自组装，并且能够实现核酸结构在衬底上具有方向性定向自组装。
基于以上理由，权利要求1相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-2、权利要求15请求保护一种形成纳米结构。对比文件1为最接近的现有技术，其公开了一种核酸纳米结构（参见说明书第[0007]-[0011]段，附图1-3）：包括结构单元，每一结构单元包括单链多核苷酸支架以及多条辅助链，辅助链设计为与单链多核苷酸支架至少部分互补以与单链多核苷酸支架自退火成结构单元，其中，辅助链在两个或更多的区域结合单链多核苷酸支架，将单链多核苷酸支架的这些分开的区域放在一起以在单链多核苷酸支架中形成所需的弯曲，从而将支架折叠成各种形状的纳米图案；其中，辅助链与单链多核苷酸支架在缓冲溶液中混合而与单链多核苷酸支架杂交，使得单链多核苷酸支架在溶液中折叠并施加到衬底上（说明书第[0056]段）；基板表面包含特定类型的电荷和/或可以连接至单链多核苷酸支架的配体，纳米图案沉积在衬底上可以作为衬底进一步处理的掩模，如图案化电子电路（说明书第[0098]-[0100]段）。纳米图案用作图案化电子电路的掩模，必定是特定图案（即特定核酸结构）并经由特定电荷和/或配体吸附于衬底上的特定区域，由此可以确定，衬底必定经图案化以在特定区域包含用于吸附纳米图案的特定电荷和/或配体，显示对纳米图案的化学特异性，特定区域经调试以吸附特定核酸结构，衬底与特定核酸结构接触而使得特定核酸结构吸附到衬底上的特定区域，以在衬底上形成核酸结构的自组装。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征在于：DNA结构的定向自组装；选择性吸附到图案化衬底的区域中的每一个的DNA结构的定向自组装的特定DNA结构，区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于特定DNA结构的大小或形态中的至少一个，并且区域中的每一个显示： 对特定DNA结构的拓扑特异性；或对所述特定DNA结构的拓扑特异性和化学特异性。基于上述区别技术特征，可以确定该权利要求相对于对比文件1实际解决的技术问题是：实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的定向自组装。
首先，对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的核酸纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装，仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的数量、以及所述区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，即衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，核酸纳米图案不能被选择性的吸附于衬底上的特定区域，不能实现衬底上的区域与核酸纳米图案一一对应的自组装，核酸纳米结构在衬底上的自组装没有方向性，也无法实现定向自组装，没有给出衬底上的多个区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现多个区域与多个核酸纳米图案一一对应的定向自组装的教导。
其次，对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第1行至第5页最后1行）：使用末端固定剂，对末端固定剂在衬底上进行处理以形成不等边长直角或等边长直角框；将处理后的衬底浸入稀释的DNA溶液，使DNA分子吸附在衬底上；采用分子梳梳理吸附在衬底上的DNA分子，DNA分子链被拉直，由于分子梳梳理DNA不可逆，沿着一个方向梳理后，将衬底再次浸入DNA溶液，让DNA分子再次吸附在衬底上，调换分子梳90度，对再次吸附在衬底上的DNA分子进行梳理，形成DNA网络。由此可见，对比文件2的DNA分子被吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框区域，而是经由水平分子梳的梳理，将两条NDA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个水平边平行排列，并在衬底上再次吸附DNA分子，用垂直分子梳梳理，将两条DNA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个垂直边平行排列，由四条被梳直的DNA分子链形成一个直角框，显然，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性而能够使得一个矩形框形状的DNA分子吸附于末端固定剂的直角框区域，因而并未公开上述区别技术特征，无法给出相应的技术启示。并且，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
并且，上述区别技术特征也不是所属技术领域的公知常识，同时，该技术特征使得权利要求1的技术方案产生了有益的技术效果：衬底上的多个区域的每一个区域吸附一个与该区域大小和/或形态对应的特定核酸结构，实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的自组装，并且能够实现核酸结构在衬底上具有方向性定向自组装。
基于以上理由，权利要求15相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-3、权利要求18请求保护一种形成纳米结构。对比文件1为最接近的现有技术，其公开了一种核酸纳米结构（参见说明书第[0007]-[0011]段，附图1-3）：包括结构单元，每一结构单元包括单链多核苷酸支架以及多条辅助链，辅助链设计为与单链多核苷酸支架至少部分互补以与单链多核苷酸支架自退火成结构单元，其中，辅助链在两个或更多的区域结合单链多核苷酸支架，将单链多核苷酸支架的这些分开的区域放在一起以在单链多核苷酸支架中形成所需的弯曲，从而将支架折叠成各种形状的纳米图案；其中，辅助链与单链多核苷酸支架在缓冲溶液中混合而与单链多核苷酸支架杂交，使得单链多核苷酸支架在溶液中折叠并施加到衬底上（说明书第[0056]段）；基板表面包含特定类型的电荷和/或可以连接至单链多核苷酸支架的配体，纳米图案沉积在衬底上可以作为衬底进一步处理的掩模，如图案化电子电路（说明书第[0098]-[0100]段）。纳米图案用作图案化电子电路的掩模，必定是特定图案（即特定核酸结构）并经由特定电荷和/或配体吸附于衬底上的特定区域，由此可以确定，衬底必定经图案化以在特定区域包含用于吸附纳米图案的特定电荷和/或配体，显示对纳米图案的化学特异性，特定区域经调试以吸附特定核酸结构，衬底与特定核酸结构接触而使得特定核酸结构吸附到衬底上的特定区域，以在衬底上形成核酸结构的自组装。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征在于：核酸结构的定向自组装；核酸结构的所述定向自组装中所述核酸结构中的每一个经选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的一个，并且所述区域中的每一个在大小或形态中的至少一个上对应于所述核酸结构中的每一个的大小或形态中的至少一个，并且所述区域中的每一个显示：对所述核酸结构的拓扑特异性；或对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性。基于上述区别技术特征，可以确定该权利要求相对于对比文件1实际解决的技术问题是：实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的定向自组装。
首先，对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的核酸纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装，仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的数量、以及所述区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，即衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，核酸纳米图案不能被选择性的吸附于衬底上的特定区域，不能实现衬底上的区域与核酸纳米图案一一对应的自组装，核酸纳米结构在衬底上的自组装没有方向性，也无法实现定向自组装，没有给出衬底上的多个区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现多个区域与多个核酸纳米图案一一对应的定向自组装的教导。
其次，对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第1行至第5页最后1行）：使用末端固定剂，对末端固定剂在衬底上进行处理以形成不等边长直角或等边长直角框；将处理后的衬底浸入稀释的DNA溶液，使DNA分子吸附在衬底上；采用分子梳梳理吸附在衬底上的DNA分子，DNA分子链被拉直，由于分子梳梳理DNA不可逆，沿着一个方向梳理后，将衬底再次浸入DNA溶液，让DNA分子再次吸附在衬底上，调换分子梳90度，对再次吸附在衬底上的DNA分子进行梳理，形成DNA网络。由此可见，对比文件2的DNA分子被吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框区域，而是经由水平分子梳的梳理，将两条NDA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个水平边平行排列，并在衬底上再次吸附DNA分子，用垂直分子梳梳理，将两条DNA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个垂直边平行排列，由四条被梳直的DNA分子链形成一个直角框，显然，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性而能够使得一个矩形框形状的DNA分子吸附于末端固定剂的直角框区域，因而并未公开上述区别技术特征，无法给出相应的技术启示。并且，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
并且，上述区别技术特征也不是所属技术领域的公知常识，同时，该技术特征使得权利要求1的技术方案产生了有益的技术效果：衬底上的多个区域的每一个区域吸附一个与该区域大小和/或形态对应的特定核酸结构，实现多个核酸结构与衬底上多个区域一一对应的自组装，并且能够实现核酸结构在衬底上具有方向性定向自组装。
基于以上理由，权利要求18相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-4、权利要求23请求保护一种形成纳米结构的方法。对比文件1为最接近的现有技术，其公开了一种核酸纳米结构（参见说明书第[0007]-[0011]段，附图1-3）：包括结构单元，每一结构单元包括单链多核苷酸支架以及多条辅助链，辅助链设计为与单链多核苷酸支架至少部分互补以与单链多核苷酸支架自退火成结构单元，其中，辅助链在两个或更多的区域结合单链多核苷酸支架，将单链多核苷酸支架的这些分开的区域放在一起以在单链多核苷酸支架中形成所需的弯曲，从而将支架折叠成各种形状的纳米图案；其中，辅助链与单链多核苷酸支架在缓冲溶液中混合而与单链多核苷酸支架杂交，使得单链多核苷酸支架在溶液中折叠并施加到衬底上（说明书第[0056]段）；基板表面包含特定类型的电荷和/或可以连接至单链多核苷酸支架的配体，纳米图案沉积在衬底上可以作为衬底进一步处理的掩模，如图案化电子电路（说明书第[0098]-[0100]段）。纳米图案用作图案化电子电路的掩模，必定是特定图案（即特定核酸结构）并经由特定电荷和/或配体吸附于衬底上的特定区域，由此可以确定，衬底必定经图案化以在特定区域包含用于吸附纳米图案的特定电荷和/或配体，显示对纳米图案的化学特异性，特定区域经调试以吸附特定核酸结构，衬底与特定核酸结构接触而使得特定核酸结构吸附到衬底上的特定区域，以在衬底上形成核酸结构的自组装。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征在于：区域包含：对核酸结构的拓扑特异性；或对所述核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；选择性地将核酸结构吸附到图案化衬底的对应区域上以在图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。基于上述区别技术特征，可以确定该权利要求相对于对比文件1实际解决的技术问题是：实现在衬底上区域选择性吸附核酸结构以及实现核酸结构的定向自组装。
首先，对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的核酸纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装，仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，即衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，核酸纳米图案不能被选择性的吸附于衬底上的特定区域，不能实现衬底上的区域与核酸纳米图案一一对应的自组装，核酸纳米结构在衬底上的自组装没有方向性，也无法实现定向自组装，没有给出衬底上的区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现衬底上的区域能够选择性的吸附特定核酸纳米图案以及实现核酸纳米图案具有方向性的定向自组装的教导。
其次，对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第1行至第5页最后1行）：使用末端固定剂，对末端固定剂在衬底上进行处理以形成不等边长直角或等边长直角框；将处理后的衬底浸入稀释的DNA溶液，使DNA分子吸附在衬底上；采用分子梳梳理吸附在衬底上的DNA分子，DNA分子链被拉直，由于分子梳梳理DNA不可逆，沿着一个方向梳理后，将衬底再次浸入DNA溶液，让DNA分子再次吸附在衬底上，调换分子梳90度，对再次吸附在衬底上的DNA分子进行梳理，形成DNA网络。由此可见，对比文件2的DNA分子被吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框区域，而是经由水平分子梳的梳理，将两条NDA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个水平边平行排列，并在衬底上再次吸附DNA分子，用垂直分子梳梳理，将两条DNA分子链梳直成沿着末端固定剂直角框的两个垂直边平行排列，由四条被梳直的DNA分子链形成一个直角框，显然，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性而能够使得一个矩形框形状的DNA分子吸附于末端固定剂的直角框区域，因而并未公开上述区别技术特征，无法给出相应的技术启示。并且，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
并且，上述区别技术特征也不是所属技术领域的公知常识，同时，该技术特征使得权利要求1的技术方案产生了有益的技术效果：衬底上的区域可选择性的吸附一个与该区域大小和/或形态对应的特定核酸结构，实现核酸结构与衬底上区域一一对应的自组装，并且能够实现核酸结构在衬底上具有方向性定向自组装。
基于以上理由，权利要求23相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-5、在独立权利要求1、15、18、23具备创造性的情况下，直接或间接引用其的从属权利要求2-14、16-17、19-22、24-27同样具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、针对驳回决定和前置审查相关意见的答复：
对于驳回决定和前置审查意见，合议组认为：1）对比文件1说明书第[0013]-[0014]段以及说明书附图3e、3f中多核苷酸支架被折叠成具有矩形区域的三角形以及带有梯形区域的尖锐三角形。由此可见，仅仅公开了多核苷酸支架被折叠形成各种形状，并不涉及衬底上的区域与多核苷酸支架折叠形成的纳米结构之间的拓扑关系，也没有公开任何有关图案化衬底上的区域对特定核酸结构显示拓扑特异性的内容。2）对比文件1涉及采用辅助链将单链多核苷酸支架折叠成各种形状的纳米图案，对于核酸纳米图案在衬底上的自组装仅仅提及衬底上形成有特定电荷和/或配体，对于衬底上用于吸附核酸纳米图案的区域的数量以及所述区域的大小和/或形态与核酸纳米图案的大小和/或形态之间的关系没有任何提及，二者在大小和/或形态上不具有对应关系，衬底上的区域对核酸纳米图案不显示拓扑特异性，也就不能实现衬底上的区域选择性的吸附对应的核酸纳米图案而进行自组装，也无法实现核酸纳米图案具有方向性的定向自组装，因而没有给出衬底上的区域具有对应于特定核酸纳米图案的拓扑特异性以实现衬底上的区域能够选择性的吸附特定核酸纳米图案以及实现核酸纳米图案具有方向性的定向自组装的教导。对比文件2公开了一种核酸网络的制作方法，DNA分子吸附到衬底上时并不是直接被吸附于末端固定剂的直角框区域，而是经由水平分子梳、垂直分子束两次梳理两次吸附的DNA分子，将四条DNA分子链梳理成两条沿着末端固定剂的矩形框的水平边平行排列、以及两条沿着末端固定剂的矩形框的垂直边平行排列以形成直角框，末端固定剂的直角框区域并不显示对特定核酸结构的拓扑特异性，不能直接吸附一个具有直角框形状的特定DNA分子链，无法给出相应的技术启示。此外，对比文件1涉及经由辅助链将单链多核苷酸支架折叠成纳米图案并吸附于衬底，而对比文件2中将DNA分子吸附于衬底后，使用分子梳将DNA分子梳直，若将对比文件2的技术方案应用于对比文件1，将导致对比文件1用于形成核酸纳米图案的核酸结构的链条被梳直，这显然有悖于对比文件1的发明目的。
基于以上事实和理由，合议组现依法作出以下审查决定。至于本申请是否存在专利法及其实施细则规定的其它缺陷，由实质审查部门继续进行审查。
三、决定
撤销国家知识产权局于2019年03月13日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局实质审查部门以本复审请求审查决定所针对的文本为基础继续进行审批程序。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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