发明创造名称：一种对基板进行标记的方法
外观设计名称：
决定号：198594
决定日：2019-12-24
委内编号：1F259970
优先权日：
申请（专利）号：201310030975.4
申请日：2013-01-25
复审请求人：北京京东方光电科技有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：安晶
合议组组长：尉小霞
参审员：丁芃
国际分类号：G03F1/42,G03F7/20,G03F9/00
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术公开的技术方案之间具有区别技术特征，但该区别技术特征属于本领域惯用技术手段，则该权利要求请求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201310030975.4、名称为“一种对基板进行标记的方法”的发明专利申请（下称本申请），申请日为2013年01月25日，公开日为2014年08月06日，申请人为北京京东方光电科技有限公司。
经实质审查，国家知识产权局专利实质审查部门以权利要求1-3、10不具备专利法第22条第2款的新颖性以及权利要求4-9不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由于2018年05月25日驳回了本申请。驳回决定所针对的文本为：申请日2013年01月25日提交的说明书第1-7页、说明书附图第1-5页、说明书摘要和摘要附图；2018年01月15日提交的权利要求第1-10项。
驳回决定中引用了如下对比文件：
对比文件2：CN 101726989 A，公开日为：2010年06月09日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种对基板进行标记的方法，其特征在于，该方法包括：
在基板的构图工艺中，利用带有标记图案的掩膜版对所述基板进行曝光，在所述基板上形成与所述标记图案相对应的标识；
所述标记图案包括多个标记符号，与所述标记图案相对应的标识是通过对所述基板进行多次曝光而形成的，其中每次曝光在所述基板上形成至少一个所述标记符号对应的标识，同时保留之前曝光时所形成的标记符号对应的标识。
2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板包括多个面板区域，每个面板区域有对应的标记图案；
在所述基板上形成与所述标记图案相对应的标识，包括：在每个面板区域上形成与该面板区域对应的标记图案所对应的标识。
3. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：在用于对基板进行曝光的掩膜版上设置所述标记图案。
4. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述构图工艺过程包括多次曝光，曝光次数与所述掩膜版数目相等；每个掩膜版上带有至少一个所述标记符号。
5. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，除了第一次曝光时所应用的掩膜版以外，在各掩膜版上设置与前一次曝光所形成的标识符号相对应的显露图案。
6. 根据权利要求5所述的方法，其特征在于，设置所述显露图案的方法为：
在掩膜版上与所述基板上因第一次曝光之后的曝光而被覆盖的标记图案的位置相对应的位置设置显露图案；
所述显露图案的形状与被覆盖的所述标记图案的形状相同或包含被覆盖的标记图案的形状。
7. 根据权利要求6所述的方法，其特征在于，该方法还包括：
在进行所述第一次曝光之后的一次曝光时，曝光与掩膜版上所设置的显露 图案相对应的基板上覆盖标记图案的区域，将基板上被该区域所覆盖的之前一次曝光所形成的标记图案显露出来。
8. 根据权利要求1至6任一项所述的方法，其特征在于，所述掩膜版包括第一掩膜版、第二掩膜版；
构图工艺过程包括多次曝光时，所述曝光的过程包括：将第一掩膜版覆盖在基板上并进行曝光，在基板上形成设置于第一掩膜版上的标记图案；之后将第二掩膜版覆盖在基板上并进行曝光，在所述基板上形成设置于第二掩膜版上的标记图案，最终在基板上形成由设置于第一掩膜版上的标记图案以及设置于第二掩膜版上的标记图案组成的标记图案。
9. 根据权利要求8所述的方法，其特征在于，
所述将第一掩膜版覆盖在基板上并进行曝光的操作位于形成栅极金属层的曝光工艺中；
所述将第二掩膜版覆盖在基板上并进行曝光的操作位于形成源漏极金属层的曝光工艺中。
10. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述标记图案包括数字、字母、其它具有标识作用的形状中的至少一种。”
驳回决定的具体理由是：1、权利要求1的技术方案已被对比文件2所公开，并且两者属于相同的技术领域，能够解决相同的技术问题，并达到同样的技术效果，因此，权利要求1不具备专利法第22条第2款规定的新颖性。2、从属权利要求2-3、10的附加技术特征被对比文件2公开，因此，从属权利要求2-3、10也不具备专利法第22条第2款规定的新颖性；从属权利要求4-9的附加技术特征部分被对比文件2公开，部分属于本领域惯用技术手段，因此，从属权利要求4-9不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年09月04日向国家知识产权局提出了复审请求，并提交了权利要求书的全文修改替换页，具体修改涉及：将权利要求5的附加技术特征加入独立权利要求1中，删除了权利要求5，并适应性修改了部分权利要求的编号和引用关系。复审请求人在意见陈述书中陈述了权利要求具备新颖性和创造性的理由。复审请求人认为：首先，修改后权利要求1记载了“除了第一次曝光时所应用的掩膜版以外，在各掩膜版上设置与前一次曝光所形成的标识符号相对应的显露图案”的技术特征，而对比文件2并未记载该技术特征。因此，修改后权利要求1与对比文件2相比存在区别，具备专利法第22条第2款规定的新颖性。其次，修改后权利要求1中，通过采用多个不同的掩膜版，对基板进行多次曝光来实现对基板进行标记；在具体实施时，除了第一次曝光时所应用的掩膜版以外，在其他各掩膜版上设置与前一次曝光所形成的标识符号相对应的显露图案，以将基板上被该区域所覆盖的之前一次曝光所形成的标记图案显露出来。而对比文件2中，是利用同一个掩膜版，采用重复曝光的方式，在不增加硬件负担之下，仅利用同一套光罩进行扫描式曝光，以实现在每个基板区域上皆产生不同的识别标记。可以看出，修改后权利要求1与对比文件2对基板进行标记时，采用的掩膜版的数量不同、采用的曝光方式不同。因此，修改后权利要求1与对比文件2对基板进行打标所采用的技术方案不同，属于两种完全不同的打标方式。并且，对比文件2中明确记载了只用一套光罩（掩膜版）进行扫描式曝光，而修改后权利要求1则是采用多套掩膜版，并且除了第一次曝光时所应用的掩膜版以外，在各掩膜版上具有与前一次曝光所形成的标识符号相对应的显露图案。相对于本申请修改后权利要求1，对比文件2给出的是反向教导，本领域技术人员在看到对比文件2时，无法得到采用本申请修改后权利要求1相应的改进动机和技术启示。最后，本申请修改后权利要求1利用多个不同的掩膜版对基板进行多次曝光的工艺直接实现打标，在进行曝光工艺的同时为基板上的面板区域赋予面板区域ID，从而省去了打标机打标的时间，因此有利于缩短生产时间，提高产能。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年12月20日依法受理了该复审请求，并将其转送至原专利实质审查部门进行前置审查。
原专利实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年07月24日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1与对比文件2的区别在于：除了第一次曝光时所应用的掩膜版以外，在各掩膜版上设置与前一次曝光所形成的标识符号相对应的显露图案。上述区别技术特征，是本领域技术人员在对比文件2的基础上容易想到的，属于本领域惯用技术手段。因此，在对比文件2的基础上结合本领域惯用技术手段得到该权利要求请求保护的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，该权利要求不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。2、从属权利要求2-9的附加技术特征，或被对比文件2公开，或为本领域惯用技术手段，因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，从属权利要求2-9也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。3、合议组对于复审请求人的意见陈述进行了答复。
针对上述复审通知书，复审请求人于2019年09月03日提交了意见陈述书，同时提交了权利要求书的全文修改替换页，具体修改涉及：权利要求1中增加了“其中，所述掩膜版包括第一掩膜版和第二掩膜版；利用所述第一掩膜版对所述基板进行曝光的操作位于形成栅极金属层的曝光工艺中，利用所述第二掩膜版对所述基板进行曝光的操作位于形成源漏极金属层的曝光工艺中”；删除了权利要求7中的“所述掩膜版包括第一掩膜版和第二掩膜版”；删除权利要求8，并将权利要求9的编号修改为“8”。复审请求人在意见陈述书中陈述了权利要求具备专利法第22条第3款所规定的创造性的理由。
答复复审通知书时提交的权利要求书如下：
“1. 一种对基板进行标记的方法，其特征在于，该方法包括：
在基板的构图工艺中，利用带有标记图案的掩膜版对所述基板进行曝光，在所述基板上形成与所述标记图案相对应的标识；
所述标记图案包括多个标记符号，与所述标记图案相对应的标识是通过对所述基板进行多次曝光而形成的，其中每次曝光在所述基板上形成至少一个所述标记符号对应的标识，同时保留之前曝光时所形成的标记符号对应的标识；
除了第一次曝光时所应用的掩膜版以外，在各掩膜版上设置与前一次曝光所形成的标识符号相对应的显露图案；
其中，所述掩膜版包括第一掩膜版和第二掩膜版；利用所述第一掩膜版对所述基板进行曝光的操作位于形成栅极金属层的曝光工艺中，利用所述第二掩膜版对所述基板进行曝光的操作位于形成源漏极金属层的曝光工艺中。
2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板包括多个面板区域，每个面板区域有对应的标记图案；
在所述基板上形成与所述标记图案相对应的标识，包括：在每个面板区域上形成与该面板区域对应的标记图案所对应的标识。
3. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：在用于对基板进行曝光的掩膜版上设置所述标记图案。
4. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述构图工艺过程包括多次曝光，曝光次数与所述掩膜版数目相等；每个掩膜版上带有至少一个所述标记符号。
5. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，设置所述显露图案的方法为：
在掩膜版上与所述基板上因第一次曝光之后的曝光而被覆盖的标记图案的位置相对应的位置设置显露图案；
所述显露图案的形状与被覆盖的所述标记图案的形状相同或包含被覆盖的标记图案的形状。
6. 根据权利要求5所述的方法，其特征在于，该方法还包括：
在进行所述第一次曝光之后的一次曝光时，曝光与掩膜版上所设置的显露图案相对应的基板上覆盖标记图案的区域，将基板上被该区域所覆盖的之前一次曝光所形成的标记图案显露出来。
7. 根据权利要求1至5任一项所述的方法，其特征在于，
构图工艺过程包括多次曝光时，所述曝光的过程包括：将第一掩膜版覆盖在基板上并进行曝光，在基板上形成设置于第一掩膜版上的标记图案；之后将第二掩膜版覆盖在基板上并进行曝光，在所述基板上形成设置于第二掩膜版上的标记图案，最终在基板上形成由设置于第一掩膜版上的标记图案以及设置于第二掩膜版上的标记图案组成的标记图案。
8. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述标记图案包括数字、字母、其它具有标识作用的形状中的至少一种。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
复审请求人在答复复审通知书时提交了权利要求书的全文修改替换页，经查，该修改符合专利法第33条的规定。本复审请求审查决定所针对的文本为：申请日2013年01月25日提交的说明书第1-7页、说明书附图第1-5页、说明书摘要和摘要附图；2019年09月03日提交的权利要求第1-8项。
（二）关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定，创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术公开的技术方案之间具有区别技术特征，但该区别技术特征属于本领域惯用技术手段，则该权利要求请求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，不具备创造性。
具体到本案：
1、权利要求1请求保护一种对基板进行标记的方法，对比文件2公开了一种用以制造具有可辨识标记的基板的方法，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第0038段、图2）：利用光罩上的图案以在基板200的不同基板区域210及220上形成辨识标记，即经由曝光显影等步骤而利用光罩上的光罩辨识标记在基板区域210及220上形成基板辨识标记（相当于在基板的构图工艺中，利用带有标记图案的掩膜版对基板进行曝光，在基板上形成所述标记图案对应的标识）；为了能在不同基板区域上产生不同的文字、数字或符号等，光罩辨识标记及对应的基板辨识标记的类别至少与基板区域的个数相同（或以上），譬如，基板区域210及220有两个，因此光罩辨识标记及基板辨识标记包含[1]及[2]（相当于所述标记图案包括多个标记符号），如图2B-2D所示，利用重复曝光的原理，使基板区域210及220利用同一套光罩而产生不同的基板辨识标记（相当于与所述标记图案对应的标识是通过对所述基板进行多次曝光而形成的），图2B中，光罩是对准基板200的上缘进行曝光以形成图案，复数个基板辨识标记[1]及[2]分布于非显示区域214之中的四个角落，图2C中，同样的光罩图案是对准于基板200的下缘曝光以形成图案，其中在图2B中位于下方的基板辨识标记因为重复曝光而消失，因此基板区域210内四角路的基板辨识标记皆显示为[1]，其中上方的两个基板辨识标记[1]为第一次曝光时形成的（相当于其中每次曝光在所述基板上形成至少一个所述标记符号对应的标识，同时保留之前曝光时所形成的标记符号对应的标识），可利用不同的光罩/基板辨识标记达到辨识的效果，如图2E-2H所示。
该权利要求与对比文件2的区别技术特征为：1）除了第一次曝光时所应用的掩膜版以外，在各掩膜版上设置与前一次曝光所形成的标识符号相对应的显露图案；2）其中，所述掩膜版包括第一掩膜版、第二掩膜版；利用所述第一掩膜版对所述基板进行曝光的操作位于形成栅极金属层的曝光工艺中，利用所述第二掩膜版对所述基板进行曝光的操作位于形成源漏极金属层的曝光工艺中。
对于上述区别技术特征1），对比文件2附图2F-2H所示的实施例中，第二次曝光中对应于两个曝光区域210、220中间位置的基板辨识标记[1,2]覆盖了第一次曝光中该位置的基板辨识标记[1,2]，对比文件2中通过覆盖的方式重新形成了与第一次曝光产生的相同的辨识标记[1,2]，是由于前后两次曝光时该位置需要形成的辨识标记相同，当该位置的辨识标记不同时，通过在第二次曝光时使用的掩膜版上设置与第一次曝光形成的标记[1,2]相对应的显露图案以显露出第一次曝光时的标记[1,2]，也是本领域技术人员容易想到，是本领域的惯用技术手段。
对于上述区别技术特征2），当标记图案为多个符号时，分别在不同的工艺中通过不同的掩膜版将多个符号中的一个形成在基板上，即分多个步骤形成基板上的标识，是本领域技术人员容易想到的，属于本领域惯用技术手段；具体将标记图案分为两部分，分别形成在第一掩膜版和第二掩膜版上，利用所述第一掩膜版对所述基板进行曝光的操作位于形成栅极金属层的曝光工艺中，利用所述第二掩膜版对所述基板进行曝光的操作位于形成源漏极金属层的曝光工艺中，是本领域技术人员的常规选择。
因此，在对比文件2的基础上结合本领域惯用技术手段得到该权利要求请求保护的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，该权利要求不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2、权利要求2引用权利要求1，对比文件2中公开了（参见说明书第0038段、图2）：基板200包括基板区域210和基板区域220（相当于基板包括多个面板区域），基板区域210内四角落的基板辨识标记皆显示为[1]，基板区域220下方两角落具有基板辨识标记[2]（相当于每个面板区域有对应的标记图案，在每个面板区域上形成与该面板区域对应的标记图案所对应的标识）。因此，该权利要求的附加技术特征已经被对比文件2公开，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，该权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、权利要求3引用权利要求1，对比文件2公开了：光罩辨识标记包含[1]及[2]（相当于在用于对基板进行曝光的掩膜版上设置所述标记图案）。因此，该权利要求的附加技术特征已经被对比文件2公开，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，该权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
4、权利要求4引用权利要求1，对比文件2公开了：构图工艺包括两次曝光，光罩上包含[1]及[2]（相当于掩膜版上带有至少一个所述标记符号）。曝光次数与掩膜版数目相等，是本领域的惯用技术手段。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，该权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
5、权利要求5引用权利要求4，为了使前次曝光的图案显露出来，而设置显露图案的方法为：在掩膜版上与所述基板上因第一次曝光之后的曝光而被覆盖的标记图案的位置相对应的位置设置显露图案；所述显露图案的形状与被覆盖的所述标记图案的形状相同或包含被覆盖的标记图案的形状，是本领域的惯用技术手段。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，该权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
6、权利要求6引用权利要求5，为了使前次曝光的图案显露出来，在进行所述第一次曝光之后的一次曝光时，曝光与掩膜版上所设置的显露图案相对应的基板上覆盖标记图案的区域，将基板上被该区域所覆盖的之前一次曝光所形成的标记图案显露出来，是本领域的惯用技术手段。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，该权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
7、权利要求7引用权利要求1至5任一项，对比文件2公开了使用同一掩膜版进行多次曝光。曝光的过程包括：将第一掩膜版覆盖在基板上并进行曝光，在基板上形成设置于第一掩膜版上的标记图案；之后将第二掩膜版覆盖在基板上并进行曝光，在所述基板上形成设置于第二掩膜版上的标记图案，最终在基板上形成由设置于第一掩膜版上的标记图案以及设置于第二掩膜版上的标记图案组成的标记图案，是本领域惯用技术手段。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，该权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
8、权利要求8引用权利要求1，对比文件2公开了标记图案包括数字、字母。标记图案是其它具有标识作用的形状中的至少一种，是本领域的惯用技术手段。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，该权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（三）对复审请求人相关意见的评述
复审请求人认为：对比文件2记载的技术方案是：一种基板进行标记的方法，包括一基板，在该基板上规划至少二基板区域，在光罩上四角落各包含预先形成的光罩辨识标记，该光罩的周边范围大于该基板的周边范围，该光罩辨识标记包含至少二类型的光罩辨识标记，利用该光罩于至少二基板区域上执行曝光，以于该至少二基板区域上形成对应至该些光罩辨识标记的至少八基板辨识标记，并使其中的至少二基板辨识标记因重复曝光而消失，在该至少二基板上形成图案的同时，形成基板辨识图案。修改后权利要求1记载了所述掩膜版包括第一掩膜版和第二掩膜版时，利用所述第一掩膜版对所述基板进行曝光的操作位于形成栅极金属层的曝光工艺中，利用所述第二掩膜版对所述基板进行曝光的操作位于形成源漏极金属层的曝光工艺中。即分别在形成栅极金属层的曝光工艺和形成源漏极金属层的曝光工艺中利用第一掩膜版对所述基板进行曝光和利用第二掩膜版对所述基板进行曝光。而对比文件1中，仅仅记载了对至少二基板进行曝光，并未记载对基板的至少两次曝光形成在哪个操作环节。因此，对基板进行曝光的操作所位于的过程不同是本申请与对比文件的主要区别技术特征。并且，根据本申请的背景技术部分的描述可知，现有技术中是在栅极的形成过程中进行曝光；因此，对基板进行的两次曝光分别位于形成栅极金属层和形成源漏极金属层的曝光工艺中并非现有技术，也并非本领域技术人员的惯用技术手段。本申请修改后权利要求1利用多个不同的掩膜版在不同的曝光工艺中对基板进行多次曝光的工艺直接实现打标，在进行曝光工艺的同时为基板上的面板区域赋予面板区域ID，从而省去了打标机打标的时间，有利于缩短生产时间，提高产能。
合议组经查认为：对比文件2公开了使用带有光罩辨识标记的光罩对基板进行曝光，以在基板上形成与光罩辨识标记对应的基板辨识标记，在对比文件2公开了通过曝光掩膜版上的标记图案在基板上形成辨识标记的基础上，当标记图案具有多个符号时，分几个步骤将多个符号依次形成在基板上，即，一次曝光过程中只形成标记图案的一部分，将掩膜版上的标记图案分为两次或更多次曝光过程形成在基板上，是本领域技术人员容易想到的，属于本领域惯用技术手段；具体将标记图案分为两个部分，分别形成在第一掩膜版和第二掩模版上，并且分别利用所述第一掩膜版和所述第二掩膜版对所述基板进行曝光操作，是本领域技术人员的常规选择。对于两次曝光操作分别位于形成栅极金属层和形成源漏极金属层的曝光工艺中的问题，如复审请求人在意见陈述中所述，根据本申请背景技术部分的描述可知，在栅极的形成过程中将标记图案形成在基板上，同理本领域技术人员容易想到也可以在其它层例如源漏极的形成过程中将标记图案形成在基板上。在对比文件2已经公开了通过掩膜版曝光工艺形成基板辨识标记的基础上，当标记图案分别位于两个掩膜版上时，本领域技术人员容易想到，利用第一掩膜版对基板进行曝光的操作位于形成栅极金属层的曝光工艺中，利用第二掩膜版对基板进行曝光的操作位于形成源漏极金属层的曝光工艺中。
基于以上分析，对于复审请求人的关于本申请具备创造性的理由合议组不予支持。
基于以上事实和理由，合议组作出如下决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年05月25日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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