发明创造名称：一种黑矩阵、显示基板、显示屏及显示装置
外观设计名称：
决定号：198785
决定日：2019-12-20
委内编号：1F274046
优先权日：
申请（专利）号：201510706520.9
申请日：2015-10-27
复审请求人：京东方科技集团股份有限公司 北京京东方光电科技有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：陈亚娟
合议组组长：张瑜
参审员：秦一帆
国际分类号：G02F1/1335，G02F1/1339
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求与作为最接近现有技术的对比文件相比存在区别技术特征，但另一份对比文件中给出了将上述区别技术特征中的一部分区别技术特征应用到该最接近的现有技术以解决其存在的技术问题的技术启示，而其它区别技术特征为本领域技术人员的常规选择，并且该权利要求的技术方案并没有由于这些区别技术特征而具有预料不到的技术效果，则该项权利要求不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具有创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201510706520.9，名称为“一种黑矩阵、显示基板、显示屏及显示装置”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请日为2015年10月27日，公开日为2015年12月30日，申请人为京东方科技集团股份有限公司和北京京东方光电科技有限公司。
经审查，国家知识产权局原审查部门以本申请权利要求2-6不符合专利法第22条第3款的规定为由，于2018年11月02日驳回了本申请，并在其它说明中同时指出权利要求1也不具备创造性，审查过程中引用如下2篇对比文件：
对比文件1：CN102346339 A，公开日期为2012年02月08日；
对比文件2：US2015205160 A1，公开日期为2015年07月23日。
驳回决定所依据的文本为：申请人于申请日2015年10月27日提交的说明书摘要、说明书第1-42段、摘要附图、说明书附图图1-2；以及于2018年08月02日提交的权利要求第1-6项。驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种黑矩阵，其特征在于，包括交叉设置的多条横向壁和多条纵向壁，所述多条横向壁和多条纵向壁限定出多个网孔，且所述黑矩阵在横向壁和纵向壁的交叉位置选择性地设置有用于遮挡每个主支撑柱的第一遮挡区域；其中，所述第一遮挡区域完全覆盖选择的交叉位置，并且所述第一遮挡区域的面积大于横向壁和纵向壁的未设置有第一遮挡区域的交叉位置的面积，所述主支撑柱的移动区域位于所述第一遮挡区域内；
所述第一遮挡区域的中心与选择的交叉位置的中心相同；
所述主支撑柱为圆柱体结构，且所述支撑柱的轴线穿过其对应的第一遮挡区域的中心点；
所述第一遮挡区域的边线到所述支撑柱轴线的垂直距离与所述主支撑柱的半径的差值不小于1μm；还包括：
遮挡副支撑柱的第二遮挡区域，副支撑柱的移动区域在所述黑矩阵上的垂直投影包含在所述副支撑柱对应的第二遮挡区域范围内。
2. 如权利要求1所述的黑矩阵，其特征在于，所述第一遮挡区域的形状为矩形、圆形或者菱形。
3. 如权利要求2所述的黑矩阵，其特征在于，所述第一遮挡区域的边线到所述主支撑柱轴线的距离与所述支撑柱的半径的差值为1μm。
4. 一种显示基板，其特征在于，包括基板，设置在所述基板上的如权利要求1～3任一项所述黑矩阵，以及设置在所述黑矩阵的网孔内的像素彩膜。
5. 一种显示屏，其特征在于，包括对盒的两个显示基板，其中的一个显示基板为权利要求4所述的显示基板，且所述两个显示基板之间设置有液晶层以及多个支撑柱；其中，所述多个支撑柱包括主支撑柱以及副支撑柱，且所述主支撑柱的端面面积大于所述副支撑柱的端面面积。
6. 一种显示装置，其特征在于，包括显示装置本体以及设置在所述显示装置本体上的如权利要求5所述的显示屏。”
驳回决定认为，权利要求2与对比文件1的区别在于：所述第一遮挡区域的中心与选择的交叉位置的中心相同；所述支撑柱的轴线穿过其对应的第一遮挡区域的中心点；所述第一遮挡区域的边线到所述支撑柱轴线的垂直距离与所述主支撑柱的半径的差值不小于1μm；遮挡副支撑柱的第二遮挡区域，副支撑柱的移动区域在所述黑矩阵上的垂直投影包含在副支撑柱对应的第二遮挡区域范围内；第一遮光区域的形状还可以为圆形或者菱形。而这些区别技术特征或者是本领域技术人员在对比文件1公开的内容的基础上进行的常规设置，或者是本领域技术人员可以通过有限的试验合理设计得到的，或者属于本领域的常规选择。因此，权利要求2不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。从属权利要求3的附加技术特征属于本领域的常规选择，因此，从属权利要求3不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。独立权利要求4请求保护一种显示基板，引用了权利要求1-3，由于对比文件1公开了一种显示基板，具有黑矩阵，在黑矩阵的网孔内具有滤色器，当其引用的权利要求2和3不具备创造性时，独立权利要求4也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。独立权利要求5请求保护一种显示屏，引用了权利要求4，权利要求5与对比文件1的区别还在于：主支撑柱的端面面积大于副支撑柱的端面面积。该技术特征属于本领域的常规设置。因此，当其引用的权利要求4不具备创造性时，权利要求5也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。独立权利要求6请求保护一种显示装置，引用了权利要求5，由于对比文件1已经公开了一种液晶显示屏，且将显示屏设置在框体上是本领域的常用技术手段，当其引用的权利要求5不具备创造性时，权利要求6也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。此外，驳回决定的其他说明部分还指出，权利要求1的技术方案相对于对比文件1和本领域常用技术手段的结合不具备创造性，引用权利要求1的权利要求4-6的技术方案也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。
申请人京东方科技集团股份有限公司和北京京东方光电科技有限公司（下称复审请求人）对上述驳回决定不服,于2019年02月18日向国家知识产权局提出了复审请求，同时提交了权利要求书的全文修改替换页，在申请日提交的权利要求书的基础上进行了修改，在权利要求1中增加了技术特征“所述主支撑柱为圆柱体结构，且所述支撑柱的轴线穿过其对应的遮挡区域的中心点；所述遮挡区域的形状为圆形；所述遮挡区域的边线到所述支撑柱轴线的垂直距离与所述主支撑柱的半径的差值不小于1μm”，删除了权利要求3-5，并对权利要求的序号和引用关系作了适应性修改。修改后的权利要求书如下：
“1. 一种黑矩阵，其特征在于，包括交叉设置的多条横向壁和多条纵向壁，所述多条横向壁和多条纵向壁限定出多个网孔，且所述黑矩阵在横向壁和纵向壁的交叉位置选择性地设置有用于遮挡每个主支撑柱的遮挡区域；其中，所述遮挡区域完全覆盖选择的交叉位置，并且所述遮挡区域的面积大于横向壁和纵向壁的未设置有遮挡区域的交叉位置的面积，所述主支撑柱的移动区域位于所述遮挡区域内；
所述主支撑柱为圆柱体结构，且所述支撑柱的轴线穿过其对应的遮挡区域的中心点；
所述遮挡区域的形状为圆形；
所述遮挡区域的边线到所述支撑柱轴线的垂直距离与所述主支撑柱的半径的差值不小于1μm。
2. 如权利要求1所述的黑矩阵，其特征在于，所述遮挡区域的中心与选择的交叉位置的中心相同。
3. 如权利要求1所述的黑矩阵，其特征在于，所述遮挡区域的边线到所述主支撑柱轴线的距离与所述支撑柱的半径的差值为1μm。
4. 一种显示基板，其特征在于，包括基板，设置在所述基板上的如权利要求1～3任一项所述黑矩阵，以及设置在所述黑矩阵的网孔内的像素彩膜。
5. 一种显示屏，其特征在于，包括对盒的两个显示基板，其中的一个显示基板为权利要求4所述的显示基板，且所述两个显示基板之间设置有液晶层以及多个支撑柱；其中，所述多个支撑柱包括主支撑柱以及副支撑柱，且所述主支撑柱的端面面积大于所述副支撑柱的端面面积。
6. 一种显示装置，其特征在于，包括显示装置本体以及设置在所述显示装置本体上的如权利要求5所述的显示屏。”
复审请求人认为：对比文件1仅仅考虑到柱状衬底垫料与遮挡区域大小的配合来改善显示效果，并且在其设置遮挡区域时，任意进行设置，采用了矩形遮挡区，占用了显示面板上有限的开口区，降低了显示面板的开口率，且四角位置在隔垫物移动遮挡时为浪费的无效区域，而权利要求1中则是采用了交叉位置、遮挡区域和主支撑柱三者的中心对应的方式来保证显示装置的显示效果。因此，对比文件1的遮挡区域及柱状衬垫料不能等同于本申请中的遮挡区域及主支撑柱。且现有技术中也没有公开这一点，因此该技术特征也不是惯用技术手段。因此，权利要求1具备创造性。相应地，权利要求2-6也具备创造性。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年02月22日依法受理了该复审请求，并将案卷转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局依法成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年08月22日向复审请求人发出复审通知书，指出：独立权利要求1请求保护一种黑矩阵，其与对比文件1的区别技术特征在于：（1）权利要求1中要求所述主支撑柱的移动区域位于所述遮挡区域内，所述支撑柱的轴线穿过其对应的遮挡区域的中心点；（2）所述遮挡区域的形状为圆形，所述遮挡区域的边线到所述支撑柱轴线的垂直距离与所述主支撑柱的半径的差值不小于1μm。其中，区别技术特征（1）是本领域技术人员在对比文件1公开的内容的基础上容易想到的；区别技术特征（2）部分被对比文件2公开，部分为本领域技术人员的常规设置。因此，权利要求1不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。从属权利要求2和3的附加技术特征或者是本领域技术人员在对比文件1公开的内容的基础上容易想到的，或者是本领域技术人员结合常用技术手段容易想到的，因此，权利要求2和3也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。独立权利要求4请求保护一种显示面板，包括权利要求1-3任一项所述的黑矩阵，由于权利要求1-3不具备创造性，且权利要求4中的其他技术特征均已被对比文件1公开，因此，权利要求4也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。权利要求5请求保护一种显示屏，包括权利要求4所述的显示基板，由于权利要求4不具备创造性，且权利要求5中的其他技术特征或者被对比文件1公开，或者属于本领域的常用技术手段，因此，权利要求5也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。权利要求6请求保护一种显示装置，包括权利要求5所述的显示屏，由于权利要求5不具备创造性，且权利要求6中的其他技术特征属于本领域的常用技术手段，因此，权利要求6也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。针对复审请求人的意见，合议组认为，根据对比文件记载的液晶显示器的结构，其中的主柱状衬垫料无论是结构还是功能均与权利要求1中的主支撑柱一致，因此，该主柱状衬垫料相当于权利要求1中的主支撑柱；对比文件1中的遮光区域同样是为了遮挡由于取向膜被柱状衬垫料的移动造成的破损而导致的漏光，因此，其同样相当于权利要求1中的遮挡区域。根据对比文件1的附图2A，可以看出，主柱状衬垫料的截面中心、遮光区域的中心和交叉区域的中心应大致重叠。此外，对比文件1中已经公开了取向膜是由于柱状衬垫料的移动而被破坏的，而遮光区域的作用是为了防止取向膜被破坏的位置漏光，同时根据柱状衬垫料的结构，可以确定其在取向膜上的移动区域是以其轴心为中心的对称区域，相应地，取向膜上可能破损的区域，即可能出现漏光的区域自然为具有对应的中心的对称区域，且圆形是本领域常用的遮挡区域形状，根据其结构，采用圆形能得到更高的开口率对本领域技术人员来说是显而易见的。此外，有关遮挡区域尺寸的设置，本领域技术人员熟知在实际设计时可以根据实际可能漏光的尺寸即取向膜可能被破损的尺寸来具体设置相应的遮挡区域的尺寸。因此，复审请求人的意见不予支持。
针对上述复审通知书，复审请求人于2019年09月30日提交了意见陈述书以及权利要求书的全文修改替换页，其中，将权利要求1中的“所述支撑柱的轴线”修改为“所述主支撑柱的轴线”，删除了权利要求2，将权利要求2的附加技术特征“所述遮挡区域的中心与选择的交叉位置的中心相同”加入权利要求1中，并适应性地修改了权利要求的序号和引用关系。修改后的权利要求书如下：
“1. 一种黑矩阵，其特征在于，包括交叉设置的多条横向壁和多条纵向壁，所述多条横向壁和多条纵向壁限定出多个网孔，且所述黑矩阵在横向壁和纵向壁的交叉位置选择性地设置有用于遮挡每个主支撑柱的遮挡区域；其中，所述遮挡区域完全覆盖选择的交叉位置，并且所述遮挡区域的面积大于横向壁和纵向壁的未设置有遮挡区域的交叉位置的面积，所述主支撑柱的移动区域位于所述遮挡区域内；
所述主支撑柱为圆柱体结构，且所述主支撑柱的轴线穿过其对应的遮挡区域的中心点；
所述遮挡区域的形状为圆形；
所述遮挡区域的边线到所述主支撑柱轴线的垂直距离与所述主支撑柱的半径的差值不小于1μm；所述遮挡区域的中心与选择的交叉位置的中心相同。
2. 如权利要求1所述的黑矩阵，其特征在于，所述遮挡区域的边线到所述主支撑柱轴线的距离与所述支撑柱的半径的差值为1μm。
3. 一种显示基板，其特征在于，包括基板，设置在所述基板上的如权利要求1～2任一项所述黑矩阵，以及设置在所述黑矩阵的网孔内的像素彩膜。
4. 一种显示屏，其特征在于，包括对盒的两个显示基板，其中的一个显示基板为权利要求3所述的显示基板，且所述两个显示基板之间设置有液晶层以及多个支撑柱；其中，所述多个支撑柱包括主支撑柱以及副支撑柱，且所述主支撑柱的端面面积大于所述副支撑柱的端面面积。
5. 一种显示装置，其特征在于，包括显示装置本体以及设置在所述显示装置本体上的如权利要求4所述的显示屏。”
复审请求人认为：（1）修改后的权利要求1采用遮挡区域来支撑主支撑柱，遮挡区域、黑矩阵的交叉点和主支撑柱的形状和位置都匹配。遮挡区域的形状采用圆形，且中心与相应的交叉位置的中心相同，从而使得遮挡区域对每个开口的影响降低到了最大限度；主支撑柱采用对应的圆柱体结构，轴线与遮挡区域的中心点共线，能穿过对应的遮挡区域的中心点，从而主支撑柱距离遮挡区域的边界线的距离一致，保证主支撑柱在任何方向上移动时，遮挡区域都能够对其进行遮挡，且能尽量减小遮挡区域的面积。（2）对比文件1仅考虑到交叉位置与遮挡区域大小的配合来改善显示效果，没有考虑到相邻的开口区在大小不一致的情况下对显示效果的影响，也没有考虑遮挡区域形状和面积对显示区域的影响，且未在文字内容部分记载遮挡区域与交叉位置共心，而附图2A中并不能直观地看出遮挡区域与交叉位置共心的特征，此外，对比文件2的附图1中遮挡区域的中心明显偏离交叉位置的中心。因此申请人认为“遮挡区域与交叉位置共心”不是本领域的常规技术手段。权利要求1与对比文件1相比具有创造性，且权利要求2-5也因此具备创造性。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，依法作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
在复审程序中，复审请求人于2019年09月30日提交了权利要求书的全文修改替换页，经审查，其中所作的修改符合专利法第33条的规定，因此，本决定所依据的文本为：复审请求人于申请日2015年10月27日提交的说明书摘要、说明书第1-42段、摘要附图、说明书附图图1-2；以及于2019年09月30日提交的权利要求第1-5项。
（二）具体理由的阐述
专利法第22条第3款规定，创造性，是指现有技术相比，该发明有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求与作为最接近现有技术的对比文件相比存在区别技术特征，但另一份对比文件中给出了将上述区别技术特征中的一部分区别技术特征应用到该最接近的现有技术以解决其存在的技术问题的技术启示，而其它区别技术特征为本领域技术人员的常规选择，并且该权利要求的技术方案并没有由于这些区别技术特征而具有预料不到的技术效果，则该项权利要求不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具有创造性。
具体到本申请，
1、独立权利要求1请求保护一种黑矩阵。对比文件1（参见说明书第3-5页，附图2A-4B）公开了一种液晶显示器，包括上基板100、下基板200、柱状衬垫料310和320以及液晶层400（参见说明书第[0033]段），上基板100上形成有黑矩阵110（参见说明书第[0034]段），包括交叉设置的限定出多个网孔的多条横向壁和多条纵向壁（参见说明书附图2A），柱状衬垫料310和320形成在黑矩阵110的交叉位置（参见说明书第[0038]段，附图2A），柱状衬垫料310和320包括主柱状衬垫料310和子柱状衬垫料320（参见说明书第[0039]段），黑矩阵110在主柱状衬垫料310的周围增加了遮光区域，遮光区域完全覆盖其该主柱状衬垫料对应的黑矩阵的交叉位置，且面积大于未设置有遮光区域的交叉位置的面积（参见说明书第[0041]段，附图2A），主柱状衬垫料310的横截面为圆形且位于遮光区域的中部（参见说明书附图2A）。
将对比文件1与权利要求1的技术方案相对比，对比文件1中的遮光区域相当于权利要求1中的遮挡区域；主柱状衬垫料相当于主支撑柱；由于对比文件1中的柱状衬垫料的横截面为圆形，因此，该柱状衬垫料为圆柱体结构。
因此，对比文件1公开了权利要求1中的下述技术特征：一种黑矩阵，包括交叉设置的多条横向壁和多条纵向壁，所述多条横向壁和多条纵向壁限定出多个网孔，且所述黑矩阵在横向壁和纵向壁的交叉位置选择性地设置有用于遮挡每个主支撑柱的遮挡区域；其中，所述遮挡区域完全覆盖选择的交叉位置，并且所述遮挡区域的面积大于横向壁和纵向壁的未设置有遮挡区域的交叉位置的面积，所述主支撑柱为圆柱体结构。
权利要求1的技术方案与对比文件1的区别技术特征在于：（1）权利要求1中要求所述主支撑柱的移动区域位于所述遮挡区域内，所述主支撑柱的轴线穿过其对应的遮挡区域的中心点；（2）所述遮挡区域的形状为圆形，所述遮挡区域的边线到所述主支撑柱轴线的垂直距离与所述主支撑柱的半径的差值不小于1μm；（3）所述遮挡区域的中心与选择的交叉位置的中心相同。基于上述区别技术特征，权利要求1实际解决的技术问题是：如何保证遮光效果，以及如何尽量减小遮挡区域对开口率的影响。
针对上述区别技术特征（1），对比文件1中已经公开了柱状衬垫料受压后位置会改变，在移动时会破坏上取向膜或者下取向膜，如果取向膜被柱状衬垫料破坏，会导致漏光（参见说明书第[0013]-[0015]段），取向膜可能被主柱状衬垫料破坏，所以需要在主柱状衬垫料的周围增加遮光区域（参见说明书第[0041]段），由于在柱状衬垫料的周围的遮光区域的宽度大于没有形成柱状衬垫料的遮光区域的宽度，因此，即使取向膜被柱状衬垫料破坏，也能够防止在损坏的地方发生漏光（参见说明书第[0089]段），即对比文件1已经公开了取向膜是由于柱状衬垫料的移动而被破坏的，而遮光区域的作用是为了防止取向膜被破坏的位置漏光，在此基础上，本领域技术人员容易想到使主支撑柱的移动区域位于遮挡区域内，以完全遮挡取向膜被破坏的位置处发生的漏光。同时，根据对比文件1的附图2A可知，主柱状衬垫料310位于遮光区域的中部，考虑到主柱状衬垫料的移动是在以其轴线为中心的范围内，为了更好地对应于该移动范围，使该轴线与遮光区域的中心点重合是本领域技术人员容易想到的，即所述支撑柱的轴线穿过其对应的遮挡区域的中心点是本领域技术人员容易想到的。
针对上述区别技术特征（2），对比文件2（参见说明书第1-5页，图1-8）公开了一种液晶显示器，包括光阻挡元件LB（相当于黑矩阵），光阻挡元件LB包括延伸区域LB1和LB2，延伸区域LB1（相当于遮挡区域）覆盖间隔物S1（相当于主支撑柱）（参见说明书第[0084]-[0085]段），延伸区域LB1为圆形，延伸区域LB1的边缘与间隔物S1的边缘之间的距离为13.5μm（参见说明书第[0093]段）。即，对比文件2公开了遮挡区域的形状为圆形，且遮挡区域的边线到所述支撑柱轴线的垂直距离与所述主支撑柱的半径的差值为13.5μm，可见，对比文件2披露了具体构造遮挡区域为比支撑柱尺寸大圆形，给出了将对比文件1中的遮光区域设置成比柱状衬垫料尺寸大的圆形的技术启示，而当采用能完全遮挡漏光的圆形遮挡区域时，其显然比采用能完全遮挡漏光的矩形遮挡区域的开口率更高，同时，对于其尺寸，也完全可以根据具体的漏光尺寸进行相应设置。因此，本领域技术人员有动机将上述特征应用于对比文件1中，在采用圆柱体结构的主支撑柱时，相应地采用圆形遮挡区域，且使主支撑柱的移动区域位于遮挡区域内，并将支撑柱的轴线具体设置为穿过对应的遮挡区域的中心点，且遮挡区域的边线到支撑柱轴线的垂直距离与主支撑柱的半径的差值不小于1μm。
针对上述区别技术特征（3），根据对比文件1的附图2A，可以看出，遮光区域本身的形状为对称形状，且其在横向壁两侧延伸的距离大致相同，在纵向壁两侧延伸的距离也大致相同，因此，其中心大致与交叉区域的中心一致，在此基础上，使遮挡区域的中心与选择的交叉位置的中心相同是本领域技术人员容易想到的。
因此，权利要求1的技术方案相对于对比文件1和对比文件2以及本领域的公知常识的结合不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。
针对复审请求人的上述意见，合议组认为：
（1）根据对比文件1的附图2A，可以看出，主柱状衬垫料截面为圆形，大致位于遮光区域的正中，而遮光区域本身的形状为对称形状，且其在横向壁两侧延伸的距离大致相同，在纵向壁两侧延伸的距离也大致相同，因此，其中心大致与交叉区域的中心一致，即，根据对比文件1的附图2A，可以看出，主柱状衬垫料的截面中心、遮光区域的中心和交叉区域的中心应大致重叠。此外，如上所述，对比文件1中已经公开了取向膜是由于柱状衬垫料的移动而被破坏的，而遮光区域的作用是为了防止取向膜被破坏的位置漏光，同时根据柱状衬垫料的结构，可以确定其在取向膜上的移动区域是以其轴心为中心的对称区域，相应地，取向膜上可能破损的区域，即可能出现漏光的区域自然为具有对应的中心的对称区域，在此基础上，对于本领域技术人员来说，当采用对比文件1所公开的以形成于交叉区域处的遮光区域来遮挡由其移动造成的取向膜破损而导致的漏光的技术方案时，为了有效挡光，将遮光区域形成为具有对应柱状衬垫料的轴线的中心的对称区域是容易想到的，进而，当遮光区域被形成于交叉区域位置处，且中心大致与交叉区域的中心一致时，使交叉区域、遮光区域和柱状衬垫料的截面中心相对应是本领域技术人员容易想到的。同时，为了实现良好的显示效果，本领域技术人员通常会根据取向膜实际可能被破损的范围来设计遮光区域的具体形状以在保证遮光效果的同时尽可能高的开口率，本领域技术人员周知，当主支撑柱采用圆柱形结构时，其在取向膜上实际造成的破损的范围应为半径大于圆柱形截面半径的与主支撑柱同心的圆形，且对比文件2中也公开了圆形支撑柱以及相应的圆形的遮挡区域，且根据黑矩阵的具体结构，相对于矩形遮挡区域，采用圆形遮挡区域能得到更高的开口率对本领域技术人员来说是显而易见的，，因此，本领域技术人员容易想到采用与主支撑柱共心的圆形的遮挡区域形状。
（2）尽管对比文件1没有记载采用圆形遮挡区域，但是，如上所述，当采用圆柱形主支撑柱时，该主支撑柱造成的破损范围应为半径大于圆柱形截面半径的与主支撑柱同心的圆形，且对比文件2中也公开了圆形支撑柱以及相应的圆形的遮挡区域，同时，采用圆形遮挡区域能得到更高的开口率对本领域技术人员来说是显而易见的，结合对比文件1所公开的圆柱形主支撑柱，本领域技术人员容易想到采用相应的同心的圆形遮挡区域。此外，尽管对比文件2的附图1中遮挡区域的中心偏离交叉位置的中心，但是，对比文件2并未排斥两者的中心一致，对比文件2相应于附图5的实施例中公开了与间隔物S1同心的圆形的延伸区域，且设置在第一蓝色像素区域 B 中的延伸区域LB1和LB2的面积，设置在第一红色像素区域 R 中的延伸区域LB1和LB2的面积，设置在第二蓝色像素区域 B 中的延伸区域LB1和LB2的面积，以及设置在第二红色像素区域 R 中的延伸区域LB1和LB2的面积可以几乎彼此相等（参见说明书第[0099]-[0103]段，附图5），同时，结合附图5所示的光阻挡元件及像素区域的几何形状可知延伸区域与交叉位置的中心大致一致。
因此，复审请求人的上述意见不具有说服力，不能被接受。
2、从属权利要求2的附加技术特征为“所述遮挡区域的边线到所述主支撑柱轴线的距离与所述支撑柱的半径的差值为1μm”，根据实际的漏光区域设置遮挡区域是本领域的常用技术手段，当实际的漏光区域延伸至主支撑柱周围多达1μm的区域时，使遮挡区域从主支撑柱的周围延伸多达1μm是本领域技术人员容易想到的，此时，遮挡区域的边线到主支撑柱轴线的距离与支撑柱的半径的差值自然为1μm。因此，权利要求2的的技术方案不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。
3、独立权利要求3请求保护一种显示基板，包括权利要求1-2任一项所述的黑矩阵，对比文件1已经公开了黑矩阵形成在上基板100上，滤色器120a和120b（相当于像素彩膜）形成在黑矩阵110中（参见说明书第[0034]段），且滤色器120a和120b形成在黑矩阵110的网孔内（参见说明书附图2A）。当权利要求1-2相对于对比文件1和对比文件2以及本领域的公知常识的结合不具备创造性时，权利要求3相对于对比文件1和对比文件2以及本领域的公知常识的结合也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。
4、独立权利要求4请求保护一种显示屏，包括对盒的两个显示基板，其中的一个显示基板为权利要求3所述的显示基板。对比文件1已经公开了液晶显示器包括上基板100、下基板200、柱状衬垫料310和320以及液晶层400，柱状衬垫料310和320包括主柱状衬垫料310（相当于主支撑柱）和子柱状衬垫料320（相当于副支撑柱），主柱状衬垫料310和子柱状衬垫料320以及液晶层都形成在上基板100和下基板200之间（参见说明书第[0033]、[0039]和[0040]段，附图2C）。同时，使上下基板对盒以及使主支撑柱的端面面积大于副支撑柱的端面面积都属于本领域的常用技术手段。因此，当权利要求3相对于对比文件1和对比文件2以及本领域的公知常识的结合不具备创造性时，权利要求4相对于对比文件1和对比文件2以及本领域的公知常识的结合也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。
5、独立权利要求5请求保护一种显示装置，包括权利要求4所述的显示屏，而使显示装置包括显示装置本体且将显示屏设置于显示装置本体上属于本领域的常用技术手段，当权利要求4相对于对比文件1和对比文件2以及本领域的公知常识的结合不具备创造性时，权利要求5相对于对比文件1和对比文件2以及本领域的公知常识的结合也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的有关规定。
综上所述，本申请权利要求1-5均不符合专利法第22条第3款的规定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年11月02日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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