发明创造名称：涂膜、涂覆的表面及其制备方法
外观设计名称：
决定号：187304
决定日：2019-12-11
委内编号：1F251371
优先权日：2012-04-24，2012-9-21
申请（专利）号：201380033100.8
申请日：2013-03-15
复审请求人：艾尔尤斯科技有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：王燕
合议组组长：孙玉静
参审员：曾彩霞
国际分类号：C23C4/18，A01N59/20，A01P1/00，A61L2/232，A61L2/238
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：专利申请文件经复审请求人修改，克服了驳回决定和复审通知书曾指出的关于专利法第22条第3款的缺陷，因此，在修改文本的基础上撤销驳回决定。
全文：
本复审请求涉及申请号为201380033100.8，名称为“涂膜、涂覆的表面及其制备方法”的发明专利申请（下称本申请）。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年1月25日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-8、10-18、20-33、38-45、47-59、63-64不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所引用的对比文件如下：
对比文件2：WO 2010/069104A1，公开日为2010年6月24日；
对比文件3：CN 101479207A，公开日为2009年7月8日；
对比文件4：JP特开2008-184621A，公开日为2008年8月14日。
驳回决定所依据的文本为：2017年10月16日提交的权利要求第1-65项，2016年6月16日提交的说明书第1-157段，2014年12月22日本申请进入中国国家阶段时提交的国际申请文件的中文文本的说明书附图、说明书摘要和摘要附图。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 提供具有抗菌表面的基底的方法，所述方法包括机械研磨基底上的外部热喷涂的金属涂层，
其中所述外部热喷涂的金属涂层具有表面空穴，以及
所述研磨减小所述外部热喷涂的金属涂层的表面的轮廓谷深度Rv1以便轮廓谷深度Rv2<>
2. 如权利要求1所述的方法，其中所述外部热喷涂的金属涂层的表面具有表面粗糙度Ra1并且所述通过研磨产生的表面具有表面粗糙度Ra2，其中Ra2<>
3. 如权利要求2所述的方法，其中Ra1>2Ra2。
4. 如权利要求2所述的方法，其中Ra1为至少4μm。
5. 如权利要求4所述的方法，其中Ra1为4μm至30μm。
6. 如权利要求2所述的方法，其中Ra2不大于10μm。
7. 如权利要求6所述的方法，其中Ra2不大于6μm。
8. 如权利要求5所述的方法，其中(Ra1-2)>Ra2。
9. 如权利要求1-8中任一权利要求所述的方法，其中所述外部热喷涂的金属涂层是铜-镍-银合金，所述铜-镍-银合金包含以55重量％至75重量％的量存在的铜。
10. 如权利要求1-8中任一权利要求所述的方法，其中Rv2/Rv1≤ 0.8。
11. 如权利要求10所述的方法，其中Rv2/Rv1≤0.5。
12. 如权利要求11所述的方法，其中Rv2/Rv1≤0.2。
13. 如权利要求9所述的方法，其中Rv2≤40μm。
14. 如权利要求13所述的方法，其中Rv2≤25μm。
15. 如权利要求1至8中任一权利要求所述的方法，其中所述金属包括选自铜、铜合金、银及其合金、锌、锡、不锈钢及其任意组合的金属。
16. 如权利要求1至8中任一权利要求所述的方法，其还包括在研磨所述涂层的步骤之后的抛光所述表面涂层的步骤。
17. 如权利要求1至8中任一权利要求所述的方法，其中所述研磨步骤是制备所述抗菌表面的最后步骤。
18. 如权利要求16所述的方法，其中所述抛光步骤是制备所述抗菌表面的最后步骤。
19. 如权利要求1-8中任一权利要求所述的方法，还包括在所述基底与所述外部热喷涂的金属涂层之间提供中间金属层，其中所述中间金属层的金属的熔点低于所述外部热喷涂的金属涂层的熔点。
20. 如权利要求1-8中任一权利要求所述的方法，其中提供具有带有表面空穴的外部热喷涂的金属涂层的基底包括使用熔化金属颗粒热喷涂所述基底以形成所述涂层。
21. 如权利要求20所述的方法，其中提供具有热喷涂的金属涂层的基底包括：
a)提供具有在预定范围内的平均温度、在预定范围内的平均速度的熔化金属颗粒喷流源；和
b)将所述熔化金属颗粒喷流引导至所述基底的表面，由此在所述基底表面上沉积金属涂层，所述源与所述基底相距预定的距离，并且针对给定的金属选择所述平均速度和所述平均温度以便当熔滴涂覆所述基底的表面时所述熔化金属颗粒的温度非常接近于所述金属的熔点。
22. 如权利要求21所述的方法，其中通过丝弧喷枪提供所述熔化金属颗粒喷流。
23. 如权利要求1至8中任一权利要求所述的方法，其中所述具有表面空穴的金属涂层具有100至500微米的厚度。
24. 如权利要求1至8中任一权利要求所述的方法，其中所述基底为塑料基底。
25. 如权利要求1至8中任一权利要求所述的方法，其中所述基底为选自木材、木材和聚合物的复合材料以及聚合物基底的有机基底。
26. 如权利要求1至8中任一权利要求所述的方法，其中所述金属涂层具有在其上形成的聚合物膜。
27. 如权利要求1至8中任一权利要求所述的方法，其还包括在所述研磨步骤之前在所述金属涂层上形成有机聚合物膜的步骤。
28. 如权利要求27所述的方法，其中形成有机聚合物膜包括使所 述膜形成达到3至20μm厚的厚度。
29. 如权利要求27所述的方法，其中形成所述有机聚合物膜包括向所述热喷涂的金属涂层涂覆包含聚合物分子或预聚物混合物的溶液。
30. 如权利要求29所述的方法，其中形成所述有机聚合物膜包括涂覆所述溶液并且在喷涂的金属涂层的空穴壁上形成膜涂层。
31. 如权利要求26所述的方法，其中所述研磨步骤包括机械研磨所述膜涂覆的金属以暴露下面的金属并且产生包含暴露金属和空穴的表面，其中通过所述聚合物膜涂覆所述空穴的壁。
32. 如权利要求29所述的方法，其中所述溶液为液体溶液。
33. 如权利要求27所述的方法，其中形成膜包括向所述涂层涂覆预聚物混合物并且固化所述预聚物组分。
34. 如权利要求29所述的方法，其中所述包含聚合物分子或预聚物混合物的溶液还包含一种或多种杀生物剂。
35. 如权利要求27所述的方法，其中形成所述膜包括将一种或多种杀生物剂结合在膜中。
36. 如权利要求34或35所述的方法，其中所述一种或多种杀生物剂选自银离子、铜离子、铁离子、锌离子、铋离子、金离子、铝离子、重金属和氧化物的纳米颗粒、金属氧化物-卤素加合物、季铵化合物、2,4,4’-三氯-2’-羟基二苯基醚、氯己定、三氯生、羟磷灰石、庆大霉素、先锋霉素、羧苄青霉素、阿莫西林、头孢孟多、妥布霉素、万古霉素、抗病毒剂、抗菌肽、茶树油、对羟基苯甲酸酯类、烯丙基胺、 棘白菌素、多烯抗真菌剂、唑类、硅酸钠、碳酸钠、碳酸氢钠、碘化钾、硫、葡萄柚籽提取物、柠檬香桃木、橄榄叶提取物、广藿香、香茅油、橙油、保哥果和印楝油。
37. 如权利要求36所述的方法，其中所述重金属和氧化物为银、铜、锌和金属氧化物中的任何一个；所述金属氧化物-卤素加合物为氧化镁的氯加合物或氧化镁的溴加合物中的任何一个；所述抗病毒剂为N,N-十二烷基,甲基-聚乙烯亚胺；所述对羟基苯甲酸酯类为甲基对羟基苯甲酸酯、乙基对羟基苯甲酸酯、丁基对羟基苯甲酸酯、异丁基对羟基苯甲酸酯、异丙基对羟基苯甲酸酯和苄基对羟基苯甲酸酯及其盐中的任何一个；以及所述唑类为咪唑、三唑、噻唑、苯并咪唑和异噻唑啉酮中的任何一个。
38. 如权利要求26所述的方法，其中所述聚合物膜选自丙烯酸涂膜、环氧涂膜、硅酮涂膜、醇酸涂膜、聚氨基甲酸酯涂膜和聚氟乙烯涂膜。
39. 如权利要求1所述的方法，其中所述具有表面空穴并且包括铜的外部热喷涂的金属涂层的表面粗糙度Ra1，并且通过研磨步骤降低以产生具有使得Ra2<>
40. 如权利要求39所述的方法，其中所述革兰氏阴性菌为大肠杆菌。
41. 如权利要求39所述的方法，其中所述暴露包括使所述细菌在生长条件下生长，其中所述细菌在具有与涂层相同组成的金属薄片上生长而无所述膨胀。
42. 如权利要求41所述的方法，其中暴露于所述表面的所述膨胀的细菌膨胀达到暴露于所述金属薄片的细菌的尺寸的至少两倍。
43. 如权利要求41或42所述的方法，其中所述金属薄片具有0.54μm的表面粗糙度Ram。
44. 具有抗菌表面的物品，其包含：
基底，其具有带有表面空穴的外部热喷涂的金属涂层，其中所述外部热喷涂的金属涂层包含经研磨的表面，并且所述经研磨的表面具有：
(i)表面粗糙度Ra，其小于表面粗糙度Ra1，其中Ra1为外部热喷涂的金属涂层研磨之前的表面粗糙度；和
(ii)轮廓谷深度Rv2，其小于轮廓谷深度Rv1，其中Rv1为外部热喷涂的金属涂层研磨之前的轮廓谷深度；
所述外部金属涂层的金属为铜和铜合金、银和银合金、锌、以及上述的任何组合中的任何一个；并且
其中所述热喷涂的且经研磨的外部金属涂层形成所述抗菌表面，留在所述抗菌表面上的微生物在无液体溶液的条件下被杀死。
45. 如权利要求44所述的物品，其中所述金属涂层直接在所述基底上形成以及直接固定于所述基底。
46. 如权利要求44所述的物品，其还包含在所述基底与所述外部热喷涂的金属涂层之间的中间金属层，其中所述中间金属层的金属的熔点低于所述外部热喷涂的金属涂层的熔点。
47. 如权利要求44-46中任一权利要求所述的物品，还包含在所述外部热喷涂的金属涂层上形成的有机聚合物膜。
48. 如权利要求47所述的物品，其中所述研磨的表面包含在所述空 穴之间的暴露的金属表面部分。
49. 如权利要求44-46中任一权利要求所述的物品，其中所述表面具有暴露的空穴，其中所述金属部分向外暴露并且所述空穴的壁涂覆有有机聚合物膜。
50. 如权利要求44-49中任一权利要求所述的物品，其中所述表面具有不大于10μm的表面粗糙度Ra。
51. 如权利要求50所述的物品，其中所述Ra为0.2至6μm。
52. 如权利要求44所述的物品，其中所述表面的Rv2≤40μm。
53. 如权利要求52所述的物品，其中Rv2≤20μm。
54. 如权利要求44所述的物品，其中所述金属包括选自铜、铜合金、及其任意组合的金属。
55. 如权利要求44所述的物品，其中所述金属涂层具有100至500微米的厚度。
56. 如权利要求44-46中任一权利要求所述的物品，其中所述基底为塑料基底。
57. 如权利要求44-46中任一权利要求所述的物品，其中所述基底为选自木材、木材和聚合物的复合材料、和聚合物基底的有机基底。
58. 如权利要求44所述的物品，其还包括在所述金属涂层空穴壁上形成的有机聚合物膜。
59. 如权利要求58所述的物品，其中所述有机聚合物膜具有3至20μm的厚度。
60. 如权利要求58所述的物品，其还包括一种或多种结合在聚合物膜中的杀生物剂。
61. 如权利要求60所述的物品，其中所述一种或多种杀生物剂选自银离子、铜离子、铁离子、锌离子、铋离子、金离子、铝离子、重金属和氧化物的纳米颗粒、金属氧化物-卤素加合物、季铵化合物、2,4,4’-三氯-2’-羟基二苯基醚、氯己定、三氯生、羟磷灰石、庆大霉素、先锋霉素、羧苄青霉素、阿莫西林、头孢孟多、妥布霉素、万古霉素、抗病毒剂、抗菌肽、茶树油、对羟基苯甲酸酯类、烯丙基胺、棘白菌素、多烯抗真菌剂、唑类、硅酸钠、碳酸钠、碳酸氢钠、碘化钾、硫、葡萄柚籽提取物、柠檬香桃木、橄榄叶提取物、广藿香、香茅油、橙油、保哥果和印楝油。
62. 如权利要求61所述的物品，其中所述重金属和氧化物为银、铜、锌和金属氧化物中的任何一个；所述金属氧化物-卤素加合物为氧化镁的氯加合物或氧化镁的溴加合物中的任何一个；所述抗病毒剂为N,N-十二烷基,甲基-聚乙烯亚胺；所述对羟基苯甲酸酯类为甲基对羟基苯甲酸酯、乙基对羟基苯甲酸酯、丁基对羟基苯甲酸酯、异丁基对羟基苯甲酸酯、异丙基对羟基苯甲酸酯和苄基对羟基苯甲酸酯及其盐中的任何一个；以及所述唑类为咪唑、三唑、噻唑、苯并咪唑和异噻唑啉酮中的任何一个。
63. 如权利要求58所述的物品，其中所述聚合物膜选自丙烯酸涂膜、环氧涂膜、硅酮涂膜、醇酸涂膜、聚氨基甲酸酯涂膜和聚氟乙烯涂膜。
64. 如权利要求44-49中任一权利要求所述的物品，其中所述表面 具有1.0至10μm的表面粗糙度Ra。
65. 如权利要求44-64中任一权利要求所述的物品，其中所述外部热喷涂的金属涂层是铜-镍-银合金，所述铜-镍-银合金包含以55重量％至75重量％的量存在的铜。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服,于2018年5月9日向国家知识产权局提出了复审请求，并提交了权利要求书的修改替换页（共8页61项），主要修改方式为：对于驳回决定所针对的权利要求书，在独立权利要求1的基础上加入了权利要求9的内容，在独立权利要求44的基础上加入了权利要求65的内容。复审请求人认为：对比文件均未公开铜镍银合金，因此，权利要求1-61具备创造性。复审请求时新修改的权利要求1和权利要求42如下：
“1. 提供具有抗菌表面的基底的方法，所述方法包括机械研磨基底上的外部热喷涂的金属涂层，
其中所述外部热喷涂的金属涂层具有表面空穴，以及
所述研磨减小所述外部热喷涂的金属涂层的表面的轮廓谷深度Rv1以便轮廓谷深度Rv2<>
其中所述外部热喷涂的金属涂层是铜-镍-银合金，所述铜-镍-银合金包含以55重量％至75重量％的量存在的铜。
42. 具有抗菌表面的物品，其包含：
基底，其具有带有表面空穴的外部热喷涂的金属涂层，其中所述外部热喷涂的金属涂层包含经研磨的表面，并且所述经研磨的表面具 有：
(i)表面粗糙度Ra，其小于表面粗糙度Ra1，其中Ra1为外部热喷涂的金属涂层研磨之前的表面粗糙度；和
(ii)轮廓谷深度Rv2，其小于轮廓谷深度Rv1，其中Rv1为外部热喷涂的金属涂层研磨之前的轮廓谷深度；并且
其中所述外部热喷涂的金属涂层是铜-镍-银合金，所述铜-镍-银合金包含以55重量％至75重量％的量存在的铜。”
经形式审查合格，国家知识产权局依法受理了该复审请求，并于2018年5月16日发出复审请求受理通知书，同时将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年5月24日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1-16、18-31、36-43、45-56、60-61不具备专利法第22条第3款规定的创造性。合议组评述权利要求创造性所采用的对比文件与驳回决定所采用的对比文件相同。
合议组还引用了以下公知常识证据文件：
公知常识证据1：《现代材料科学与工程辞典》，李恒德主编，济南：山东科学技术出版社，第177页，公开日为2001年8月31日。
复审通知书具体指出：
1、独立权利要求1请求保护的技术方案与对比文件2相比，区别在于：①机械研磨外部热喷涂的金属涂层，以减小金属涂层的表面的轮廓谷深度；②外部热喷涂的金属涂层是铜-镍-银合金，所述铜-镍-银合金包含以55重量％至75重量％的量存在的铜。对于区别①，对比文件3已公开了限定表面粗糙度为0.05-1.27微米以优化抗菌表面的抗菌性能的技术手段，本领域技术人员为了优化对比文件2的金属涂层表面的抗菌性能，在对比文件3的启示下，有动机对对比文件2的金属涂层的表面粗糙度Ra或者影响表面粗糙度Ra的参数如表面轮廓谷深度Rv进行控制；而由于热喷涂后的金属涂层通常具有较高的轮廓谷深度，本领域技术人员通过合乎逻辑的分析推理可知上述对轮廓谷深度的控制使得轮廓谷深度减小。此外，机械研磨与抛光均属于在金属表面获得合适表面粗糙度或轮廓谷深度的常规加工方法，本领域技术人员很容易选择机械研磨进行轮廓谷深度的控制；而对比文件3 也公开了可通过如下方法获得表面粗糙度：用具有合适表面粗糙度的加工辊冷轧；用合适磨料研磨（相当于机械研磨）；使用或不适用磨料进行抛光；对于区别②，对比文件2（参见说明书第4页第22-25行）公开了抗菌金属包括但不限于银、铜、锌、钴、镍等，“金属”应从广义上理解，其包括单一一种金属，也包括多种金属的混合物，还包括各种合金。本领域技术人员通过合乎逻辑的分析推理容易想到铜-镍-银合金也可作为抗菌金属，进而容易选取其作为抗菌涂层材料，而铜合金的铜含量范围也是本领域技术人员为了提高抗菌性能通过合乎逻辑的分析推理和有限的试验可以确定的。因此，权利要求1不具备创造性。
2、从属权利要求2-16、18-31、36-41的附加技术特征或被对比文件2或对比文件3公开，或属于公知常识，因此，也不具备创造性。
3、独立权利要求42请求保护的技术方案与对比文件2相比，区别在于：①外部热喷涂的金属涂层包含经研磨的表面，所述经研磨的表面具有减小的表面粗糙度和轮廓谷深度；②外部热喷涂的金属涂层是铜-镍-银合金，所述铜-镍-银合金包含以55重量％至75重量％的量存在的铜。对于区别①，对比文件3公开了限定表面粗糙度为0.05-1.27微米以优化抗菌表面的抗菌性能的技术手段，本领域技术人员为了优化对比文件2的金属涂层表面的抗菌性能，在对比文件3的启示下，有动机对对比文件2的金属涂层的表面粗糙度Ra或者影响表面粗糙度Ra的参数如表面轮廓谷深度Rv进行控制；而由于热喷涂后的金属涂层通常具有较高的表面粗糙度和轮廓谷深度，本领域技术人员通过合乎逻辑的分析推理可知上述对表面粗糙度或轮廓谷深度的控制使得表面粗糙度和轮廓谷深度减小。此外，机械研磨与抛光均属于在金属表面获得合适表面粗糙度或轮廓谷深度的常规加工方法，本领域技术人员很容易选择机械研磨进行表面粗糙度和轮廓谷深度的控制；而对比文件3（参见说明书第5页第2-9行）也公开了可通过如下方法获得表面粗糙度：用具有合适表面粗糙度的加工辊冷轧；用合适磨料研磨（相当于机械研磨）；使用或不适用磨料进行抛光；对于区别②，对比文件2（参见说明书第4页第22-25行）公开了抗菌金属包括但不限于银、铜、锌、钴、镍等，“金属”应从广义上理解，其包括单一一种金属，也包括多种金属的混合物，还包括各种合金。本领域技术人员通过合乎逻辑的分析推理容易想到铜-镍-银合金也可作为抗菌金属，进而容易选取其作为抗菌涂层材料，而铜合金的铜含量范围也是本领域技术人员为了提高抗菌性能通过合乎逻辑的分析推理和有限的试验可以确定的。因此，权利要求42不具备创造性。
4、从属权利要求43、45-56、60-61的附加技术特征或被对比文件2、对比文件3或对比文件4公开，或属于公知常识，因此，也不具备创造性。
对于复审请求人的意见陈述，合议组认为：对比文件2（参见说明书第4页第22-25行）公开了抗菌金属包括但不限于银、铜、锌、钴、镍等，“金属”应从广义上理解，其包括单一一种金属，也包括多种金属的混合物，还包括各种合金。本领域技术人员通过合乎逻辑的分析推理容易想到铜-镍-银合金也可作为抗菌金属，进而容易选取其作为抗菌涂层材料，而铜合金的铜含量范围是本领域技术人员为了提高抗菌性能通过合乎逻辑的分析推理和有限的试验可以确定的。
复审请求人于2019年7月4日提交了意见陈述书，并提交了权利要求书的修改替换页（共8页59项），主要修改方式为：对于驳回决定所针对的权利要求书，在独立权利要求1的基础上加入了权利要求9和权利要求19的内容作为新的独立权利要求1，在独立权利要求44的基础上加入了权利要求46和权利要求65的内容作为新的独立权利要求41。复审请求人认为：修改后的权利要求1-59具备创造性。
新修改的权利要求1和权利要求41如下：
“1. 提供具有抗菌表面的基底的方法，所述方法包括：
提供在其上具有中间金属层的基底；
在所述中间金属层上热喷涂外部金属涂层，其中所述中间金属层的金属的熔点低于所述外部热喷涂的金属涂层的熔点；
机械研磨所述中间金属层上的所述外部热喷涂的金属涂层，
其中所述外部热喷涂的金属涂层具有表面空穴，以及
所述研磨减小所述外部热喷涂的金属涂层的表面的轮廓谷深度Rv1以便轮廓谷深度Rv2<>
其中所述外部热喷涂的金属涂层是铜-镍-银合金，所述铜-镍-银合金包含以55重量％至75重量％的量存在的铜。
41. 具有抗菌表面的物品，其包含：
在其上具有中间金属层的基底；
在所述中间金属层上的外部热喷涂的金属涂层，其中所述中间金属层的金属的熔点低于所述外部热喷涂的金属涂层的熔点，其中所述外部热喷涂的金属涂层具有表面空穴并且包含经研磨的表面，并且所述经研磨的表面具有：
(i)表面粗糙度Ra，其小于表面粗糙度Ra1，其中Ra1为外部热喷涂的金属涂层研磨之前的表面粗糙度；和
(ii)轮廓谷深度Rv2，其小于轮廓谷深度Rv1，其中Rv1为外部热喷涂的金属涂层研磨之前的轮廓谷深度；并且
其中所述外部热喷涂的金属涂层是铜-镍-银合金，所述铜-镍-银合金包含以55重量％至75重量％的量存在的铜。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）关于审查文本
复审程序中，复审请求人于2019年7月4日提交了权利要求书的修改替换页（共8页59项）。本复审请求审查决定所针对的审查文本为：2019年7月4日提交的权利要求第1-59项，2016年6月16日提交的说明书第1-157段，以及其于2014年12月22日本申请进入中国国家阶段时提交的国际申请文件的中文文本的说明书附图、说明书摘要和摘要附图。
经审查，所做修改符合专利法第33条的规定和专利法实施细则第61条第1款的规定。
（二）关于专利法第22条第3款
专利法22条第3款规定： 创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步。
专利申请文件经复审请求人修改，克服了驳回决定和复审通知书曾指出的关于专利法第22条第3款的缺陷，因此，在修改文本的基础上撤销驳回决定。
就本申请而言，由于驳回决定和复审通知书中均未评述驳回决定所针对的权利要求19的附加技术特征(即复审通知书所针对的权利要求17的附加技术特征）“还包括在所述基底与所述外部热喷涂的金属涂层之间提供中间金属层，其中所述中间金属层的金属的熔点低于所述外部热喷涂的金属涂层的熔点”和驳回决定所针对的权利要求46的附加技术特征（即复审通知书所针对的权利要求44的附加技术特征）“还包含在所述基底与所述外部热喷涂的金属涂层之间的中间金属层，其中所述中间金属层的金属的熔点低于所述外部热喷涂的金属涂层的熔点”，而复审请求人将上述特征分别合并到驳回决定所针对的独立权利要求1和44中，故驳回决定以及复审通知书指出的本申请不符合专利法第22条第3款规定的缺陷已经克服。
综上所述，合议组做出如下决定。
三、决定
撤销国家知识产权局于2018年1月25日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局原审查部门在本复审请求审查决定所针对的审查文本的基础上对本发明专利申请继续进行审查。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,复审请求人可自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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