发明创造名称：滑环组件及其部件
外观设计名称：
决定号：196954
决定日：2019-12-03
委内编号：1F282267
优先权日：2013-08-16
申请（专利）号：201480051995.2
申请日：2014-08-13
复审请求人：史莱福灵有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：李素娟
合议组组长：陆水如
参审员：戴金琪
国际分类号：H01R39/02；H01R39/24；H01R43/10；H01R43/12；B82Y30/00；H01R39/08
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求的技术方案相对于最接近的现有技术的对比文件具有区别技术特征，而该区别技术特征是本领域技术人员容易想到的，而且该区别技术特征在本申请中起到的技术效果是本领域技术人员可以预期的，本领域的技术人员在现有技术的基础上得到该权利要求的技术方案是显而易见的，则该项权利要求不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201480051995.2，名称为“滑环组件及其部件”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为史莱福灵有限公司。本申请的申请日为2014年08月13日，优先权日为2013年08月16日，公开日为2016年06月15日。进入中国国家阶段日2016年03月22日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2019年01月24日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-6不具备专利法第22条第3款规定的创造性。具体为：权利要求1相对于对比文件1（CN1868096A，公开日为2006年11月22日）的区别技术特征为：通过纳米颗粒分散在电解质浴中并使用该电解质浴通过电镀沉积该顶层来在该顶层中嵌入该纳米颗粒。本领域技术人员可以从对比文件1公开的内容得到技术启示，容易想到采用电镀的工艺实现。至于其并列技术方案，也可以在对比文件1的基础上根据本领域技术人员的实际需要来选择。权利要求2和3相对于对比文件1和本领域公知常识不具备创造性。权利要求4请求保护一种用于提供权利要求1的滑动轨道和/刷的贵金属层的方法，在权利要求1不具备创造性的基础上，对比文件1还公开了一种在接触组件上形成箔层的方法，因此，权利要求4相对于对比文件1和公知常识的结合不具备创造性。权利要求5、6相对于对比文件1和本领域公知常识的结合也不具备创造性。
驳回决定所依据的文本为进入中国国家阶段日2016年03月22日提交的说明书第1-58段，说明书附图图1-5，说明书摘要，摘要附图，2018年02月12日提交的权利要求第1-6项。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 滑动轨道或刷的具有金(Au)和/或银(Ag)和/或其它稳定贵金属的顶层(31)，用于通过至少一个刷(10)或滑动轨道而被电接触以在该顶层(31)和刷(10)或滑动轨道之间提供至少一个滑动接触(50、51)，其特征在于：
通过将具有比Au和/或Ag更高的耐磨性和/或更低的摩擦系数的纳米颗粒分散在电解质浴中并且使用该电解质浴通过电镀沉积该顶层(31)来在该顶层(31)中嵌入该纳米颗粒。
2. 具有通过滑动接触来电连接的刷和滑动轨道的滑环组件，其特征在于：
该滑动轨道和/或该刷具有权利要求1的顶层(31)和/或该刷是权利要求1的刷。
3. 权利要求1的顶层(31)或权利要求2的滑环组件，其特征在于：
至少一种所述纳米颗粒选自SiC、Ti、MO、W、WC、金刚石、PTFE、CNT、石墨、石墨烯、刚玉、Al2O3、烧结陶瓷金属、B4C、TaC、Be2C、TiN、TaN、BN、Si3N4、AlN、红宝石、锆石、TiB2、MoSi2、TiC-WC、TiC-TaC-WC、TiC-TiN、Co3W3C、Ni3W3C、W-Co、W-Os、W-Re、W-Ir、Mo-Be、Al2O3-Cr；Al2O3-Mo-Cr；Al2O3-Ni；UO2-Mo；ZrO2-Mo和/或碳化钛(TiC)/氮化钛(TiN)-Ni。
4. 用于提供权利要求1的滑动轨道和/或刷(10)的贵金属层的方法，该方法包括至少以下步骤：
－通过使用电解质浴电镀滑动轨道和/或刷坯料来沉积贵金属层，其特征在于：
将纳米颗粒分散在该电解质浴中。
5. 权利要求4的方法，其特征在于：
至少一种所述纳米颗粒的材料选自SiC、Ti、MO、W、WC、金刚石、PTFE、CNT、石墨、石墨烯、刚玉、Al2O3。
6. 权利要求4或权利要求5的方法，其特征在于该方法还包括：
－制备包含贵金属离子的水溶液，
－将至少一种所述纳米颗粒分散在溶液中，
－使用该溶液作为电解质浴用于沉积贵金属。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年05月08日向国家知识产权局提出了复审请求，没有修改申请文件。复审请求人认为：（1）以对比文件1的不同实施例结合评述权利要求1的创造性不恰当，对比文件1的图9中公开了一种滑动接触装置，并具体公开了滑动装置的具体结构；而对比文件1其他部分还公开了根据本申请的接触层的多元素材料可以形成50-90%金属如Ti或Au的固体膜，这是不同实施例的结合；（2）对比文件1的纳米晶体和本申请的纳米颗粒不同，本申请实际解决的技术问题是增加耐久性；（3）对比文件1没有公开“包含嵌入纳米颗粒的顶部金属层”，虽然对比文件1公开了金属层可为顶层，但是没有公开金属层包含嵌入的纳米颗粒；（4）对比文件1中的多元素材料是一种纳米复合材料或者纳米晶体，而非金属；（5）电化学反应是上位概念，对比文件1仅教导了真空沉积工艺，不会转向完全不同的技术领域。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年05月15日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为，（1）由对比文件1说明书第14页最后一段所述：“根据本发明的接触层的多元素材料可以形成含有50-90％金属如Ti或Au的固体膜，以改善导电性。这可以通过形成金属在材料中的均匀分散、金属区域和多元素区域的不均匀分散如复合材料来实现……”，上述技术内容印证了对比文件1的权利要求54所述的方法：“所述多元素材料混合在金属层中”，因此，权利要求54所述的方法为对比文件1公开的另外一个实施例，上述实施例为该申请前述实施例的继承，采用该实施例评述未违反“单独对比原则”。同时，上述技术手段也公开了“顶层中嵌入该纳米颗粒”的技术构思。（2）首先本申请权利要求1所述“纳米颗粒”限定范围较大，同时，对比文件1说明书第3页也描述到“纳米复合材料是包含特征尺度大于0.1nm且小于1000nm的晶体、区域或结构的复合材料”，因此纳米复合材料必然为“纳米颗粒”。其次，多元素材料即为本申请所述的纳米颗粒材料，必然不为金属材料。对比文件1公开了多种形成所述膜的方式，而本领域技术人员知晓：电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化（如锈蚀），提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性及增进美观等作用，电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下，经电极反应还原成金属原子，并在阴极上进行金属沉积的过程。因此，这是一个包括液相传质、电化学反应和电结晶等步骤的金属电沉积过程，因此对比文件1已经公开了通过电化学反应实现纳米颗粒电镀沉积膜22的方法的技术构思，而采用电镀工艺显然为其中一种方式，而申请人所述的应用物理快报引用的相关论文也仅是采用的其中一种方式，没有采用的工艺并不能代表不能使用，电镀工艺在电化学领域已经得到广泛应用，本领域技术人员显然知晓能够通过电镀沉积该顶层来在该顶层中嵌入纳米颗粒。另外，对比文件1说明书第13页最后一段至第14页所述：“根据本发明的接触元件和滑动电接触布置可以有很多其他优选应用，这些应用对于本领域技术人员来说很明显，不会背离如所附权利要求所定义的本发明的基本思想。根据本发明的接触层的多元素材料可以形成含有50-90％金属如Ti或Au的固体膜，以改善导电性。这可以通过形成金属在材料中的均匀分散、金属区域和多元素区域的不均匀分散如复合材料来实现……。”由此可见，对比文件1公开了多种不同优选实施例，而申请人所争辩的内容仅为对比文件1中的部分实施例，申请人并未针对上述实施例作出有说服力的意见。因此，申请人相关陈述意见审查员不予采纳，因而坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年07月22日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1-6不具备创造性。权利要求1相对于对比文件1的区别技术特征“通过纳米颗粒分散在电解质浴中并且使用该电解质浴通过电镀沉积该顶层来在该顶层中嵌入该纳米颗粒”属于本领域常用技术手段，因此权利要求1不具备创造性。权利要求2、3相对于对比文件1和本领域公知常识不具备创造性。权利要求4请求保护一种用于提供权利要求1的滑动轨道和/刷的贵金属层的方法，在权利要求1不具备创造性的基础上，对比文件1还公开了一种在接触组件上形成箔层的方法，权利要求5-6的附加技术特征或被对比文件1公开或属于本领域惯用技术手段，因此，权利要求4-6不具备创造性。
复审请求人于2019年10月24日提交了意见陈述书，同时提交了权利要求书的修改替换页。将权利要求4-6的方法权利要求改为权利要求1-3，同时将权利要求1-3的产品权利要求变更为权利要求4-6，同时将权利要求4的主题名称限定为“通过权利要求1的方法提供的滑动轨道或刷的具有金（Au）和/或银（Ag）和/或其它稳定贵金属的顶层（31）”。
复审请求人认为：（1）本申请的纳米颗粒不需要在沉积过程中形成，可以简单地分散在电解质浴中，对比文件1不能给出分散的技术启示；（2）对比文件1不能通过电镀形成多元素材料，多元素材料会溶解在电解质浴中。
答复复审通知书时新提交的权利要求书如下：
“1. 用于提供滑动轨道和/或刷(10)的贵金属层的方法，该方法包括至少以下步骤：
－通过使用电解质浴电镀滑动轨道和/或刷坯料来沉积贵金属层，其特征在于：
将纳米颗粒分散在该电解质浴中。
2. 权利要求1的方法，其特征在于：
至少一种所述纳米颗粒的材料选自SiC、Ti、MO、W、WC、金刚石、PTFE、CNT、石墨、石墨烯、刚玉、Al2O3。
3. 权利要求1或权利要求2的方法，其特征在于该方法还包括：
－制备包含贵金属离子的水溶液，
－将至少一种所述纳米颗粒分散在溶液中，
－使用该溶液作为电解质浴用于沉积贵金属。
4. 通过权利要求1的方法提供的滑动轨道或刷的具有金(Au)和/或银(Ag)和/或其它稳定贵金属的顶层(31)，用于通过至少一个刷(10)或滑动轨道而被电接触以在该顶层(31)和刷(10)或滑动轨道之间提供至少一个滑动接触(50、51)，其特征在于：
通过将具有比Au和/或Ag更高的耐磨性和/或更低的摩擦系数的纳米颗粒分散在电解质浴中并且使用该电解质浴通过电镀沉积该顶层(31)来在该顶层(31)中嵌入该纳米颗粒。
5. 具有通过滑动接触来电连接的刷和滑动轨道的滑环组件，其特征在于：
该滑动轨道和/或该刷具有权利要求4的顶层(31)和/或该刷是权利要求4的刷。
6. 权利要求4的顶层(31)或权利要求5的滑环组件，其特征在于：
至少一种所述纳米颗粒选自SiC、Ti、MO、W、WC、金刚石、PTFE、CNT、石墨、石墨烯、刚玉、Al2O3、烧结陶瓷金属、B4C、TaC、Be2C、TiN、TaN、BN、Si3N4、AlN、红宝石、锆石、TiB2、MoSi2、TiC-WC、TiC-TaC-WC、TiC-TiN、Co3W3C、Ni3W3C、W-Co、W-Os、W-Re、W-Ir、Mo-Be、Al2O3-Cr；Al2O3-Mo-Cr；Al2O3-Ni；UO2-Mo；ZrO2-Mo和/或碳化钛(TiC)/氮化钛(TiN)-Ni。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人于2019年10月24日答复复审通知书时对申请文件进行了修改，经审查，该修改符合专利法第33条以及专利法实施细则第61条第1款的规定。本复审决定所针对的文本为：进入中国国家阶段日2016年03月22日提交的说明书第1-58段，说明书附图图1-5，说明书摘要，摘要附图，2019年10月24日提交的权利要求1-6项。
2、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定，创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求的技术方案相对于最接近的现有技术的对比文件具有区别技术特征，而该区别技术特征是本领域技术人员容易想到的，而且该区别技术特征在本申请中起到的技术效果是本领域技术人员可以预期的，本领域的技术人员在现有技术的基础上得到该权利要求的技术方案是显而易见的，则该项权利要求不具备创造性。
本复审决定所引用的对比文件与驳回决定及复审通知书所引用的对比文件相同，即：
对比文件1：CN1868096A，公开日为：2006年11月22日。
对比文件1为与本申请最接近的现有技术。
2.1权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求1请求保护用于提供滑动轨道和/或刷(10)的贵金属层的方法，对比文件1公开了一种在接触组件上形成薄层的方法，并具体公开了以下技术内容（参见说明书第3页第4段-第14页第5段，附图1-14）：提供了具有低摩擦接触层的电接触元件，所述元件包括至少其接触面涂覆有紧贴所述接触组件的接触层的主体，所述接触层包括膜，所述膜包括多元素材料，多元素材料包括M-X、M-A-X纳米晶体和在一个或几个相如M-A、A-X、M-A-X或X中具有M、A、X元素的无定形区域的纳米复合材料。纳米复合材料是包含特征尺度大于0.1nm且小于1000nm的晶体、区域或结构的复合材料。包含所述多元素复合材料的纳米复合材料和/或金属层作为接触元件上的接触层是极好的。包含多元素材料的连续或不连续膜可以通过物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、电化学、无电镀沉积或热等离子提喷涂方法沉积在接触元件的主体上，主体优选由Cu构成。进一步限定了一种滑动接触装置，所述滑动接触装置具有滑动环19（即滑动轨道）以及电刷接触元件20，所述的滑动环19和电刷接触元件20顶层涂覆有以22所表示的连续或不连续膜，所述滑动接触装置通过两个电刷接触元件20与滑动环19电接触通过所述连续或不连续膜22提供滑动接触，所述膜22包含纳米复合材料，具有M-X和M-A-X纳米晶体，所述纳米晶体即是具有比Au和/ 或Ag更高的耐磨性和更低的摩擦系数，进一步公开了，接触层的多元素材料可以形成含有50-90％金属如Ti或Au的固体膜，以改善导电性。这可以通过形成金属在材料中的均匀分散、金属区域和多元素区域的不均匀分散如复合材料来实现，即是公开了本申请所述在具有金顶层（也就是贵金属层）中嵌入纳米颗粒的技术手段。图9中示意性示出一种滑动接触装置，所述滑动接触装置具有滑动环19（即滑动轨道）以及电刷接触元件20，所述的滑动环19和电刷接触元件20顶层涂覆有以22所表示的连续或不连续膜。
权利要求1相对于对比文件1的区别技术特征为：使用电解质浴电镀沉积工艺。
基于上述区别技术特征可以确定该权利要求实际要解决的技术问题是：进一步提高膜的耐磨性。
对比文件1公开了包含多元素材料的连续或不连续膜可以通过各种物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、电化学、无电镀沉积或热等离子体喷涂方法沉积在接触元件的主体上。在半导体工艺中，电镀、PVD、CVD、电化学、无电镀沉积或热等离子体喷涂都是本领域用于生长膜层的常用方法，本领域技术人员会根据生产成本，膜层本身的材质，特性的需求，比如致密度、平整度等等来选择所使用的工艺。本领域技术人员知道，电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化（如锈蚀），提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性及增进美观等作用，电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下，经电极反应还原成金属原子，并在阴极上进行金属沉积的过程。对比文件1已经公开了通过电化学反应实现纳米颗粒电镀沉积膜22的方法，而电解环境采用电解质浴则为本领域常用的方式，对比文件1给出了技术启示，本领域技术人员在其基础上能够预知实现通过纳米颗粒分散在电解质浴中并且使用该电解质浴通过电镀沉积该顶层而在该顶层中嵌入该纳米颗粒，实现上述手段并不需要付出创造性劳动并且技术效果是可以预期的。
因此，在对比文件1的基础上结合本领域常用技术手段从而得到该权利要求1请求保护的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，权利要求1不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条3款规定的创造性。
2.2权利要求2不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对比文件1还公开了以下技术内容（参见说明书第3页第4段-第14页第5段，附图1-14）：所述纳米复合材料包含单一元素、两相、三相、四相或更多相，基于相应Mn 1AXn复合物中的原子元素，所述纳米复合材料包含下列Ti-C、Si-C、Ti-Si-C、Ti-Si、C或所述材料的组合中的至少一种，M是过渡金属或过渡金属的组合，n是1、2、3或更大，A是A族元素或A族元素的组合，X是碳、氮或二者。A族元素是以下列出的任一种：铝Al、硅Si、磷P、硫S、镓Ga、锗Ge、砷As、镉Cd、铟In、锡Sn、铊Tl、铅Pb。过渡金属M是以下列出的任一种：钪Se、钛Ti、矾V、铬Cr、锆Zr、铌Nb、钼Mo、铪Hf、钽Ta，因此，本申请列出的相关元素的纳米颗粒材料均是本领域技术人员可以通过对比文件1直接地毫无疑义地得出的，因此当其引用的权利要求不具备创造性时，该权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对于权利要求2中没有被对比文件1公开的纳米颗粒的技术方案：W、WC、PTFE、CNT、石墨烯、刚玉，这是本领域技术人员根据对比文件1公开的内容容易想到的。本领域技术人员在对比文件1的基础上能够预知实现本申请所采用的纳米材料作为滑环组件顶层，实现上述手段并不需要付出创造性劳动并且技术效果是可以预期的，因此，在对比文件1的基础上结合本领域的公知常识从而得到该权利要求请求保护的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，因此，该权利要求不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条3款规定的创造性。
2.3权利要求3不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
通过制备包含贵金属离子的水溶液，将至少一种所述纳米颗粒分散在溶液中，使用该溶液作为电解质浴用于沉积贵金属是本领域惯用手段，属于公知常识，因此，在对比文件1的基础上结合本领域的公知常识从而得到该权利要求请求保护的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，因此，该权利要求不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条3款规定的创造性。
2.4权利要求4不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
权利要求4请求保护一种通过权利要求1的方法提供的滑动轨道或刷的具有金(Au)和/或银(Ag)和/或其它稳定贵金属的顶层，对比文件1（参见说明书第3页第4段-第14页第5段，附图1-14）公开了一种用于电接触元件的材料涂层，提供了具有低摩擦接触层的电接触元件，所述元件包括至少其接触面涂覆有紧贴所述接触组件的接触层的主体，所述接触层包括膜，所述膜包括多元素材料，多元素材料包括M-X、M-A-X纳米晶体和在一个或几个相如M-A、A-X、M-A-X或X中具有M、A、X元素的无定形区域的纳米复合材料。纳米复合材料是包含特征尺度大于0.1nm且小于1000nm的晶体、区域或结构的复合材料。包含所述多元素复合材料的纳米复合材料和/或金属层作为接触元件上的接触层是极好的。金属层是Au、Ag、Pb、Pt和Rh中的任一种。涂覆或结合有金属层的所述膜的多元素材料为0.001μm-1000μm。这种材料具有非常低的摩擦以及耐磨损性。包含多元素材料的连续或不连续膜可以通过物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、电化学、无电镀沉积或热等离子提喷涂方法沉积在接触元件的主体上，主体优选由Cu构成。进一步限定了一种滑动接触装置，所述滑动接触装置具有滑动环19（即滑动轨道）以及电刷接触元件20，所述的滑动环19和电刷接触元件20顶层涂覆有以22所表示的连续或不连续膜，所述滑动接触装置通过两个电刷接触元件20与滑动环19电接触通过所述连续或不连续膜22提供滑动接触，所述膜22包含纳米复合材料，具有M-X和M-A-X纳米晶体，所述纳米晶体即是具有比Au和/ 或Ag更高的耐磨性和更低的摩擦系数，进一步公开了根据本发明的接触层的多元素材料可以形成含有50-90％金属如Ti或Au的固体膜，以改善导电性。这可以通过形成金属在材料中的均匀分散、金属区域和多元素区域的不均匀分散如复合材料来实现，即是公开了本申请所述在具有金顶层中嵌入纳米颗粒的技术手段；
该权利要求相对于对比文件1的区别技术特征为：通过纳米颗粒分散在电解质浴中并且使用该电解质浴通过电镀沉积该顶层来在该顶层中嵌入该纳米颗粒；
基于以上区别技术特征可以确定该权利要求实际要解决的技术问题是：进一步提高膜的耐磨性。
对比文件1公开了包含多元素材料的连续或不连续膜可以通过各种物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、电化学、无电镀沉积或热等离子体喷涂方法沉积在接触元件的主体上。在半导体工艺中，电镀、PVD、CVD、电化学、无电镀沉积或热等离子体喷涂都是本领域用于生长膜层的常用方法，本领域技术人员会根据生产成本，膜层本身的材质，特性的需求，比如致密度、平整度等等来选择所使用的工艺。本领域技术人员知道，电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化（如锈蚀），提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性及增进美观等作用，电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下，经电极反应还原成金属原子，并在阴极上进行金属沉积的过程。对比文件1已经公开了通过电化学反应实现纳米颗粒电镀沉积膜22的方法，而电解环境采用电解质浴则为本领域常用的方式，对比文件1给出了技术启示，本领域技术人员在其基础上能够预知实现通过纳米颗粒分散在电解质浴中并且使用该电解质浴通过电镀沉积该顶层而在该顶层中嵌入该纳米颗粒，实现上述手段并不需要付出创造性劳动并且技术效果是可以预期的。
因此，在对比文件1的基础上结合本领域常用技术手段从而得到该权利要求4请求保护的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，权利要求4不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条3款规定的创造性。
2.5权利要求5不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
权利要求5请求保护一种具有通过滑动接触来电连接的刷和滑动轨道的滑环组件，对比文件1还公开以下技术内容（参见说明书第3页第4段-第14页第5段，附图1-14）：图9中示意性示出一种滑动接触装置，所述滑动接触装置具有滑动环19（即滑动轨道）以及电刷接触元件20，通过对权利要求4的评述可知，在权利要求4的技术方案不具备创造性时，包含权利要求4的顶层和/或该刷是权利要求4的刷的权利要求5也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.6权利要求6不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
对比文件1还公开了以下技术内容（参见说明书第3页第4段-第14页第5段，附图1-14）：所述纳米复合材料包含单一元素、两相、三相、四相或更多相，基于相应Mn 1AXn复合物中的原子元素，所述纳米复合材料包含下列Ti-C、Si-C、Ti-Si-C、Ti-Si、C或所述材料的组合中的至少一种，M是过渡金属或过渡金属的组合，n是1、2、3或更大，A是A族元素或A族元素的组合，X是碳、氮或二者。A族元素是以下列出的任一种：铝Al、硅Si、磷P、硫S、镓Ga、锗Ge、砷As、镉Cd、铟In、锡Sn、铊Tl、铅Pb。过渡金属M是以下列出的任一种：钪Se、钛Ti、矾V、铬Cr、锆Zr、铌Nb、钼Mo、铪Hf、钽Ta。还公开了，211复合物是最主要的，包括Ti2AlC、Ti2AlN、Hf2PbC、Nb2AlC、(NB，Ti)2AlC、Ti2AlN0.5C0.5、Ti2GeC、Zr2SnC、Ta2GaC、Hf2SnC、Ti2SnC、Nb2SnC、Zr2PbC和Ti2PbC。已知的312复合物只有Ti3AlC2、Ti3GeC2和Ti3SiC2、Ti4AlN3和Ti4SiC3是目前已知所存在的仅有的413复合物。由于可以在这些不同相的M处、A处和X处形成固溶体，因此大量的固溶体变换和组合也是可以想得到的。因此，对比文件1公开了部分纳米颗粒的成分，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求6也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对于权利要求6中没有被对比文件1公开的纳米颗粒的技术方案，本领域技术人员容易根据对比文件1公开的内容通过相互组合得到。本领域技术人员在对比文件1的基础上能够预知实现本申请所采用的纳米材料作为滑环组件顶层，实现上述手段并不需要付出创造性劳动并且技术效果是可以预期的，因此，在对比文件1的基础上得到该权利要求请求保护的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，因此，权利要求6不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条3款规定的创造性。
3、对复审请求人相关意见的评述
复审请求人认为：（1）本申请的纳米颗粒不需要在沉积过程中形成，可以简单地分散在电解质浴中，对
比文件1不能给出分散的技术启示；（2）对比文件1不能通过电镀形成多元素材料，多元素材料会溶解在电解质浴中。
对此，合议组认为：
（1）正如在前述复审通知书以及决定中已经评述过，对比文件1（说明书第14页最后1段）已经公开
了，根据本发明的接触层的多元素材料可以形成含有50-90％金属如Ti或Au的固体膜，以改善导电性。这可以通过形成金属在材料中的均匀分散、金属区域和多元素区域的不均匀分散如复合材料来实现。对比文件1的权利要求33还公开了，所述膜通过化学方法如无电镀法或电解法形成在所述主体上。而电镀是一种特定条件下的电解，利用电解原理，使金属或合金沉积在制件表面形成均匀、致密、结合力良好的金属层的过程。本领域技术人员在对比文件1公开的基础上，容易想到采用电镀方法，而电镀方法，必然会利用电解的原理，需要预先在电解质浴中分散纳米颗粒，因为如果不这么做，将不能进行固体金属膜的沉积。本领域技术人员在面对本申请要解决的技术问题时，容易想到将纳米颗粒分散在电解质浴中。因此，对比文件1给出了将纳米颗粒分散在电解质浴中的技术启示。而且采用这种技术方案并没有带来意想不到的技术效果，这种技术效果是本领域技术人员可预期的。
（2）对比文件1（说明书第6页第3段）还公开了，多元素材料相对而言是化学惰性的，并且在超过400℃的温度下是稳定的。既然多元素材料是化学惰性的，那么采用电镀工艺，利用电解原理，容易实现将多元素材料也就是纳米颗粒分散在电解质浴中，并不能使复合材料溶解在电解质浴中。而且对比文件1已经公开了也可以采用电解法将所述膜形成在主体上，也就说明在电解液中通电流并不会破坏膜的成分。
因此，请求人的意见陈述不具有说服力，不能被接受。
三、决定
维持国家知识产权局于2019年01月24日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，请求人可自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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