发明创造名称：曝光装置、曝光方法、及元件制造方法
外观设计名称：
决定号：196137
决定日：2019-11-22
委内编号：1F268225
优先权日：2007-07-18
申请（专利）号：201610055966.4
申请日：2008-07-16
复审请求人：株式会社尼康
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：张少鹏
合议组组长：朱宇澄
参审员：王方
国际分类号：G03F7/20
外观设计分类号：
法律依据：专利法实施细则第43条第1款
决定要点
：如果对分案申请的权利要求进行修改，修改后的内容在原申请的说明书和权利要求书中有明确记载，或者能从原申请的说明书和权利要求书记载的内容中直接地、毫无疑义地确定，则修改后的权利要求符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
全文：
本复审请求涉及申请号为201610055966.4、名称为“曝光装置、曝光方法、及元件制造方法”的发明专利申请（下称本申请），本申请是申请号为200880025096.X的发明专利PCT申请（下称原申请）的分案申请，本申请的申请日为2008年07月16日，优先权日为2007年07月18日，分案申请提交日为2016年01月27日，公开日为2016年04月13日。申请人为株式会社尼康。
国家知识产权局专利实质审查部门以本申请权利要求1、6、8、13不符合专利法实施细则第43条第1款的规定为由于2018年09月29日驳回了本申请。
驳回决定所依据的文本为：分案申请提交日2016年01月27日提交的说明书附图图1-4、5A-5B、6A-6B、7、8A-8B、9A-9B、10A-10C、11-15、16A-16B、17-20，说明书摘要，摘要附图；2017年07月04日提交的说明书第1-199段；2018年06月11日提交的权利要求第1-16项。
驳回所针对的权利要求书如下：
“1. 一种曝光装置，通过投影光学系统用照明光曝光基板，其特征在于其具备：
在与该投影光学系统相隔既定距离的位置配置有检测中心，检测该基板的标记的对准系统；
分别具有反射型格子的4个格子构件，该4个格子构件以使该反射型格子与正交于该投影光学系统的光轴的既定面大致平行地排列的方式支撑于测量框架的底面，该对准系统固定于该测量框架；
配置于该投影光学系统及该对准系统的下方的基座；
配置于该基座上，具有保持该基板的保持具，且可在该4个格子构件的下方移动的载台；
在二维方向上移动该载台以使得经由该投影光学系统曝光该基板、并且通过该对准系统检测该标记的驱动系统；
编码器系统，具有设置于该载台的多个读头，该编码器系统测量该载台的位置资讯；以及
基于该编码器系统测量到的位置资讯，控制该驱动系统的控制装置，
该4个格子构件经由挠曲构件支撑于该测量框架，该4个格子构件中的2个格子构件在该既定面内在彼此正交的第1方向、第2方向中的一个方向上夹着该投影光学系统，并且其余2个格子构件在该第1方向、第2方向中的另一个方向上夹着该投影光学系统。
2. 根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于其中,
该载台具有晶圆台，该保持具配置在该晶圆台的凹部内，
该多个读头分别与该晶圆台的上面相比设置在外侧。
3. 根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于其中,
还具备嘴单元，该嘴单元以包围镜筒的下端部的方式设置，该镜筒用以保持该投影光学系统的多个光学元件中最靠近像面侧配置的透镜，以包含该透镜与该基板之间的该照明光的光路的方式用液体充满液浸区域，
该4个格子构件相对于该嘴单元配置于其外侧，
通过该投影光学系统和该液浸区域的液体用该照明光曝光该基板。
4. 根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于其中,
该嘴单元具有该液体的供应口、该液体的回收口以及供该照明光通过的开口，
通过该供应口向该光路供应液体，并且通过该回收口回收该液浸区域的液体。
5. 根据权利要求3或4所述的曝光装置，其特征在于其中,
还具备与该测量框架不同的框架构件，
该嘴单元设置于该不同的框架构件。
6. 根据权利要求3或4所述的曝光装置，其特征在于其中,
该嘴单元设置于该测量框架。
7. 根据权利要求3或4所述的曝光装置，其特征在于其中,
该载台具有晶圆台，该保持具配置在该晶圆台的凹部内，
该晶圆台以使该基板的表面与该晶圆台的上面大致为同一面高的方式将该基板保持在该凹部内。
8. 一种曝光方法，通过投影光学系统用照明光曝光基板，其特征在于，具有：
在基座上移动具有保持该基板的保持具的载台，以通过对准系统检测该基板的标记，其中，该对准系统在与该投影光学系统相隔既定距离的位置配置有检测中心，该基座配置在该投影光学系统及该对准系统的下方；
通过驱动系统在二维方向移动该载台以通过该投影光学系统用该照明光曝光该基板；
通过4个格子构件和编码器系统测量该载台的位置资讯，其中，该编码器系统具有设置于该载台的多个读头，该4个格子构件分别具有反射型格子，且该4个格子构件以使该反射型格子与正交于该投影光学系统的光轴的既定面大致平行地排列的方式支撑于该测量框架的底面，其中该对准系统固定于该测量框架；
基于该编码器系统测量到的位置资讯，控制该载台的移动，
该4个格子构件经由挠曲构件而被支撑于该测量框架，该4个格子构件中的2个格子构件在该既定面内在彼此正交的第1方向、第2方向中的一个方向上夹着该投影光学系统，并且其余2个格子构件在该第1方向、第2方向中的另一个方向上夹着该投影光学系统。
9. 根据权利要求8所述的曝光方法，其特征在于其中,
该载台在供该保持具配置的晶圆台的凹部内保持该基板，
该多个读头分别与该晶圆台的上面相比设于外侧。
10. 根据权利要求8所述的曝光方法，其特征在于其中,
通过以包围镜筒的下端部的方式设置的嘴单元，该镜筒用以保持该投影光学系统的多个光学元件中最靠近像面侧配置的透镜，以包含该透镜与该基板之间的该照明光的光路的方式用液体充满液浸区域，并且通过该投影光学系统和该液浸区域的液体用该照明光曝光该基板，
该4个格子构件相对于该嘴单元配置于其外侧。
11. 根据权利要求10所述的曝光方法，其特征在于其中,
该嘴单元具有该液体的供应口、该液体的回收口和供该照明光通过的开口，
通过该供应口向该光路供应液体，并且通过该回收口回收该液浸区域 的液体。
12. 根据权利要求10或11所述的曝光方法，其特征在于其中,
该嘴单元设置于与该测量框架不同的框架构件。
13. 根据权利要求10或11所述的曝光方法，其特征在于其中,
该嘴单元设置于该测量框架。
14. 根据权利要求10或11所述的曝光方法，其特征在于其中,
该载台具有晶圆台，该保持具配置在该晶圆台的凹部内，
该基板以其表面与该晶圆台的上面大致为同一面高的方式被保持在该凹部内。
15. 一种元件制造方法，其特征在于，包括：
使用权利要求1至4中任一项所述的曝光装置曝光基板；和
将经该曝光的基板显影。
16. 一种元件制造方法，其特征在于，包括：
使用权利要求8至11中任一项所述的曝光方法曝光基板；和
将经该曝光的基板显影。”
驳回决定认为：1、权利要求1、8不符合专利法实施细则第43条第1款的规定，理由是：（1）权利要求1、8包含技术特征“该对准系统固定于该测量框架”，而原申请中记载的是“此第一对准系统AL1，是通过支撑构件54固定于测量框架21（参照图1）”，即对准系统是通过支撑构件固定于测量框架，因此，上述技术特征的修改超出原申请记载的范围。（2）权利要求1、8包含技术特征“编码器系统，具有设置于该载台的多个读头，该编码器系统测量该载台的位置资讯”，而由原申请中相关记载可知编码器系统的多个读头具有唯一的固定位置、间距，因此，上述技术特征的修改超出原申请记载的范围。2、权利要求6、13不符合专利法实施细则第43条第1款的规定，理由是：权利要求6、13包含技术特征“该嘴单元设置于该框架结构”，而由原申请相关记载可知嘴单元设置于悬吊支撑的测量框架，因此，上述技术特征的修改超出原申请记载的范围。
申请人株式会社尼康（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年12月10日向国家知识产权局提出了复审请求，未修改申请文件。
复审请求人认为：（1）由原申请说明书第[0095]、[0100]、[0166]段的记载，本领域技术人员能够灵活地改变对准系统的固定位置，只要得到测量框架21M支撑即可，不限定具体的固定方式。（2）由原申请权利要求1和15以及说明书第[0008]、[0010]段的记载，能够直接地、毫无疑义地确定“编码器系统，具有设置于该载台的多个读头”。（3）对准系统的固定方式，编码器系统的读头的固定位置、间距与本申请技术问题无关，不应写入权利要求1中。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年12月14日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见中认为，（1）原申请说明书第[0166]段中记载“此外，图4的对准系统AL1，AL21~24的全部也可以测量框架21M支撑”，为第2实施形态的技术方案，而本申请驳回决定所针对的权利要求书中的权利要求1的技术方案对应原申请说明书第[0187]-[0191]段及图19对应的实施例，该实施例与说明书第1实施例对应，因此，原申请说明书第2实施形态中第[0166]段记载的内容不能作为修改依据。（2）虽然原申请权利要求书中权利要求1和15均记载“在既定构件与可动构件的一方设置标尺，另一方设置可检测该标尺的多个检测器”，但本申请驳回决定所针对的权利要求书中的权利要求1的技术方案对应原申请说明书第[0187]-[0191]段及图19对应的实施例，，由原申请说明书第[0187]-[0191]段的记载可知，该实施例的编码器系统中的读头具有特定布置，即读头的个数、位置、间距都是与标尺对应的。（3）原申请说明书第[0060]段中“与主框架不同的框架构件”不等于“测量框架”。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年07月23日向复审请求人发出复审通知书，指出权利要求1、8不符合细则第43条第1款的规定，复审通知书认为：（1）由原申请说明书第[0095]段明确限定了对准系统是通过支撑构件固定于测量框架，而原申请说明书第[0100]、[0166]段的记载是关于对准系统在曝光装置中具体位置的限定，根据上述记载，本领域技术人员仅能得出对准系统可通过支撑构件固定于测量框架、主框架下面或者读头座处，无法得出当对准系统固定于测量框架时，能够采用支撑构件以外的固定方式，因此，权利要求1、8中的技术特征“该对准系统固定于该测量框架”不能由原申请文件公开的内容直接地、毫无疑义地确定。（2）由原申请权利要求1、15，以及说明书第[0187]、[0188]、[0191]段的记载可知，设置于该载台的多个读头是通过检测相应的标尺位置相关的资讯进而测量载台的位置资讯的，且原申请说明书（以及说明书附图）和权利要求书中均未记载编码器系统的多个读头通过其他方式测量载台的位置资讯，因此，权利要求1、8中的技术特征“编码器系统，具有设置于该载台的多个读头，该编码器系统测量该载台的位置资讯”不能由原申请文件公开的内容直接地、毫无疑义地确定。
针对上述复审通知书，复审请求人于2019年08月19日提交了意见陈述书，同时提交了权利要求书的全文修改替换页，所作修改涉及：在驳回决定所针对的文本的基础上，将权利要求1和8中技术特征“该对准系统固定于该测量框架”修改为“该对准系统通过支撑构件固定于该测量框架”，将权利要求1和8中技术特征“编码器系统，具有设置于该载台的多个读头，该编码器系统测量该载台的位置资讯”修改为“编码器系统，具有设置于该载台的多个读头，该多个读头用以检测与该格子构件的位置相关的资讯，该编码器系统测量该载台的位置资讯”，对其他权利要求未作修改。修改后的权利要求书如下：
“1. 一种曝光装置，通过投影光学系统用照明光曝光基板，其特征在于其具备：
在与该投影光学系统相隔既定距离的位置配置有检测中心，检测该基板的标记的对准系统；
分别具有反射型格子的4个格子构件，该4个格子构件以使该反射型格子与正交于该投影光学系统的光轴的既定面大致平行地排列的方式支撑于测量框架的底面，该对准系统通过支撑构件固定于该测量框架；
配置于该投影光学系统及该对准系统的下方的基座；
配置于该基座上，具有保持该基板的保持具，且可在该4个格子构件的下方移动的载台；
在二维方向上移动该载台以使得经由该投影光学系统曝光该基板、并且通过该对准系统检测该标记的驱动系统；
编码器系统，具有设置于该载台的多个读头，该多个读头用以检测与该格子构件的位置相关的资讯，该编码器系统测量该载台的位置资讯；以及
基于该编码器系统测量到的位置资讯，控制该驱动系统的控制装置，
该4个格子构件经由挠曲构件支撑于该测量框架，该4个格子构件中的2个格子构件在该既定面内在彼此正交的第1方向、第2方向中的一个方向上夹着该投影光学系统，并且其余2个格子构件在该第1方向、第2方向中的另一个方向上夹着该投影光学系统。
2. 根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于其中,
该载台具有晶圆台，该保持具配置在该晶圆台的凹部内，
该多个读头分别与该晶圆台的上面相比设置在外侧。
3. 根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于其中,
还具备嘴单元，该嘴单元以包围镜筒的下端部的方式设置，该镜筒用以保持该投影光学系统的多个光学元件中最靠近像面侧配置的透镜，以包含该透镜与该基板之间的该照明光的光路的方式用液体充满液浸区域，
该4个格子构件相对于该嘴单元配置于其外侧，
通过该投影光学系统和该液浸区域的液体用该照明光曝光该基板。
4. 根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于其中,
该嘴单元具有该液体的供应口、该液体的回收口以及供该照明光通过的开口，
通过该供应口向该光路供应液体，并且通过该回收口回收该液浸区域的液体。
5. 根据权利要求3或4所述的曝光装置，其特征在于其中,
还具备与该测量框架不同的框架构件，
该嘴单元设置于该不同的框架构件。
6. 根据权利要求3或4所述的曝光装置，其特征在于其中,
该嘴单元设置于该测量框架。
7. 根据权利要求3或4所述的曝光装置，其特征在于其中,
该载台具有晶圆台，该保持具配置在该晶圆台的凹部内，
该晶圆台以使该基板的表面与该晶圆台的上面大致为同一面高的方式将该基板保持在该凹部内。
8. 一种曝光方法，通过投影光学系统用照明光曝光基板，其特征在于，具有：
在基座上移动具有保持该基板的保持具的载台，以通过对准系统检测该基板的标记，其中，该对准系统在与该投影光学系统相隔既定距离的位置配置有检测中心，该基座配置在该投影光学系统及该对准系统的下方；
通过驱动系统在二维方向移动该载台以通过该投影光学系统用该照明光曝光该基板；
通过4个格子构件和编码器系统测量该载台的位置资讯，其中，该编码器系统具有设置于该载台的多个读头，该多个读头用以检测与该格子构件的位置相关的资讯，该4个格子构件分别具有反射型格子，且该4个格子构件以使该反射型格子与正交于该投影光学系统的光轴的既定面大致平行地排列的方式支撑于该测量框架的底面，其中该对准系统通过支撑构件固定于该测量框架；
基于该编码器系统测量到的位置资讯，控制该载台的移动，
该4个格子构件经由挠曲构件而被支撑于该测量框架，该4个格子构件中的2个格子构件在该既定面内在彼此正交的第1方向、第2方向中的一个方向上夹着该投影光学系统，并且其余2个格子构件在该第1方向、第2方向中的另一个方向上夹着该投影光学系统。
9. 根据权利要求8所述的曝光方法，其特征在于其中,
该载台在供该保持具配置的晶圆台的凹部内保持该基板，
该多个读头分别与该晶圆台的上面相比设于外侧。
10. 根据权利要求8所述的曝光方法，其特征在于其中,
通过以包围镜筒的下端部的方式设置的嘴单元，该镜筒用以保持该投影光学系统的多个光学元件中最靠近像面侧配置的透镜，以包含该透镜与该基板之间的该照明光的光路的方式用液体充满液浸区域，并且通过该投影光学系统和该液浸区域的液体用该照明光曝光该基板，
该4个格子构件相对于该嘴单元配置于其外侧。
11. 根据权利要求10所述的曝光方法，其特征在于其中,
该嘴单元具有该液体的供应口、该液体的回收口和供该照明光通过的开口，
通过该供应口向该光路供应液体，并且通过该回收口回收该液浸区域的液体。
12. 根据权利要求10或11所述的曝光方法，其特征在于其中,
该嘴单元设置于与该测量框架不同的框架构件。
13. 根据权利要求10或11所述的曝光方法，其特征在于其中,
该嘴单元设置于该测量框架。
14. 根据权利要求10或11所述的曝光方法，其特征在于其中,
该载台具有晶圆台，该保持具配置在该晶圆台的凹部内，
该基板以其表面与该晶圆台的上面大致为同一面高的方式被保持在该凹部内。
15. 一种元件制造方法，其特征在于，包括：
使用权利要求1至4中任一项所述的曝光装置曝光基板；和
将经该曝光的基板显影。
16. 一种元件制造方法，其特征在于，包括：
使用权利要求8至11中任一项所述的曝光方法曝光基板；和
将经该曝光的基板显影。”
复审请求人认为，上述修改能够由原申请说明书（以及说明书附图）和权利要求书记载的内容直接地、毫无疑义地确定，克服了不符合专利法实施细则第43条第1款的缺陷。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以依法作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
在复审程序中，复审请求人于2019年08月19日提交了权利要求书的全文修改替换页。本决定以分案申请递交日2016年01月27日提交的说明书附图图1-4、5A-5B、6A-6B、7、8A-8B、9A-9B、10A-10C、11-15、16A-16B、17-20，说明书摘要，摘要附图；2017年07月04日提交的说明书第1-199段；2019年08月19日提交的权利要求第1-16项为基础作出。
（二）关于修改超范围的问题
专利法实施细则第43条第1款规定：依据本细则第四十二条规定提出的分案申请，可以保留原申请日，享有优先权的，可以保留优先权日，但是不得超出原申请记载的范围。
如果对分案申请的权利要求进行修改，修改后的内容在原申请的说明书和权利要求书中有明确记载，或者能从原申请的说明书和权利要求书记载的内容中直接地、毫无疑义地确定，则修改后的权利要求符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
1、关于权利要求1的修改是否超范围
独立权利要求1中，格子构件经由挠曲构件支撑于测量框架，作为标尺的格子构件支撑于测量框架的底面，多个读头设置于载台，对应于原申请说明书附图19所示的实施形态（原申请说明书第[0186]-[0191]段，附图19），该实施形态在第1实施形态的基础上，将标尺以及读头设置的位置进行了对换，而该实施形态的曝光装置的主体结构与第1实施形态（原申请说明书第[0047]-[0163]段，附图1-12）相同。
独立权利要求1记载了技术特征“通过投影光学系统用照明光曝光基板”，如图1所示，原申请说明书对第1实施形态的描述中，第[0049段]记载“曝光装置100，包含照明系统10；标线片载台RST，……；投影单元PU，……；载台装置50，……；以及上述装置的控制系统等”，第[0053]段记载“当以来自照明系统10的照明光IL来照明照明区域IAR时，藉由通过标线片R的照明光IL，使照明区域IAR内的标线片R的电路图案像通过投影光学系统PL形成于表面涂布有光阻(感光剂)的晶圆W上的曝光区域IA(与照明区域IAR共轭)”，即该曝光装置中“通过投影光学系统用照明光曝光基板”。
独立权利要求1中记载了技术特征“在与该投影光学系统相隔既定距离的位置配置有检测中心，检测该基板的标记的对准系统”、“该对准系统通过支撑构件固定于该测量框架”。原申请说明书第1实施形态的描述中，第[0095]段记载“该第一对准系统AL1在通过投影单元PU的中心(与投影光学系统PL的光轴AX一致，本实施形态中也与前述曝光区域IA的中心一致)且与Y轴平行的直线LV上，从该光轴往-Y侧相隔既定距离的位置具有检测中心。此第一对准系统AL1，是通过支撑构件54固定于测量框架21”，即第一对准系统AL1具有检测中心，该检测中心位于与Y轴平行的直线LV上，其位置为从投影光学系统PL的光轴AX往-Y侧相隔既定距离，对准系统是通过支撑构件固定于测量框架；第[0144]段记载“预先以图4的对准系统AL1、AL21～AL24测量图6A的测量载台MST侧的CD杆46上的对应的基准标记M的座标”，即对准系统检测该基板的标记。
独立权利要求1中记载了技术特征“分别具有反射型格子的4个格子构件，该4个格子构件以使该反射型格子与正交于该投影光学系统的光轴的既定面大致平行地排列的方式支撑于测量框架的底面”，“该4个格子构件经由挠曲构件支撑于该测量框架，该4个格子构件中的2个格子构件在该既定面内在彼此正交的第1方向、第2方向中的一个方向上夹着该投影光学系统，并且其余2个格子构件在该第1方向、第2方向中的另一个方向上夹着该投影光学系统”。原申请说明书第1实施形态的描述中，第[0075]段记载“此Y标尺39Y1，39Y2，例如是以延伸于X方向的格子线38以既定间距沿平行于Y轴的方向(Y方向)而形成的、周期性排列于Y方向的反射型格子(例如相位型绕射光栅)所构成”，第[0076]段记载“此X标尺39X1，39X2，例如是以延伸于Y方向的格子线37以既定间距沿平行于X轴的方向(X方向)而形成的、周期性排列于X方向的反射型格子(例如绕射光栅)所构成”，即标尺可以为反射型格子构件。原申请说明书对图19中的实施形态的进一步描述中，第[0187]段记载“在测量框架21S的底面，以在Y方向夹着投影单元PU的方式，配置有在X方向形成有既定间距的格子的一对矩形平板状X标尺39AX1，39AX2”，第[0188]段记载“在测量框架21S的底面，以在X方向夹着投影单元PU的方式，配置有于Y方向形成有既定间距的格子的一对Y标尺39AY1，39AY2”，第[0190]段记载“也可如图14-16所示之例，将标尺39AX1，39AX2，39AY1，39AY2通过挠曲机构来连结”，即X标尺39X1，39X2和Y标尺39Y1，39Y2构成4个格子构件，4个格子构件经由挠曲构件支撑于该测量框架，其中一对X标尺39AX1，39AX2在Y方向夹着投影单元PU，一对Y标尺39AY1，39AY2在X方向夹着投影单元PU，4个格子构件分别平行于X轴和Y轴，即大致平行于X-Y平面，而X-Y平面正交于投影光学系统的光轴，4个格子构件以使该反射型格子与正交于该投影光学系统的光轴的既定面大致平行地排列的方式支撑于测量框架的底面。
独立权利要求1中记载了技术特征“配置于该投影光学系统及该对准系统的下方的基座；配置于该基座上，具有保持该基板的保持具，且可在该4个格子构件的下方移动的载台”。如图1所示，原申请说明书第1实施形态的描述中，第[0062]段记载“载台装置50，具备：晶圆载台WST及测量载台MST，是配置于底座12上方”，第[0069]段记载“晶圆载台WST，包含：前述载台本体91；以及晶圆台WTB”，第[0070]段记载“在晶圆台WTB上设有藉由真空吸附等来保持晶圆W的晶圆保持具(未图示)”，第[0082]段“晶圆载台WST包含可在XY平面内移动自如的载台本体91”，即载台配置于基座（即底座12）上方，具有保持基板（即晶圆W）的保持具，载台可在XY平面内移动。由原申请说明书附图19可以直接地、毫无疑义地确定：基座（即底座12）配置于投影光学系统PL及对准系统的下方，载台位于测量框架21S下方。如前所述，4个格子构件位于测量框架21S的底面，那么，载台可在4个格子构件的下方移动。
独立权利要求1中记载了技术特征“在二维方向上移动该载台以使得经由该投影光学系统曝光该基板、并且通过该对准系统检测该标记的驱动系统”。原申请说明书第1实施形态的描述中，第[0063]段记载“载台WST、MST，是可藉由图7的载台驱动系统124而独立驱动于Y方向及X方向的二维方向”，即驱动系统在二维方向上移动载台；第[0124]段记载“由于采用如前所述的晶圆台WTB上的X标尺、Y标尺的配置及如前述的X读头、Y测头的配置，因此会如图8A及图8B等的示例所示，晶圆载台WST的有效动程范围(亦即本实施形态中的为了进行对准及曝光动作而移动的范围)中，X标尺39X1，39X2与读头单元62B，62D(X读头66)一定是分别对向，且Y标尺39Y1，39Y2与读头单元62A，62C(Y读头64)或Y读头64y1，64y2一定是分别对向”，即载台在移动过程中，投影光学系统曝光基板，对准系统检测标尺。
独立权利要求1中记载了技术特征“编码器系统，具有设置于该载台的多个读头，该多个读头用以检测与该格子构件的位置相关的资讯，该编码器系统测量该载台的位置资讯”、“基于该编码器系统测量到的位置资讯，控制该驱动系统的控制装置”。对于多个读头的位置，原申请说明书对图19的实施形态的描述中，第[0187]段记载“在晶圆载台WST侧固定编码器的读头64，66”，即编码器系统具有多个读头，多个读头设置于载台侧。对于编码器及多个读头的作用，原申请说明书第1实施形态的描述中，第[0062]段记载“后述的编码器系统，是在曝光时等用以测量晶圆载台WST的位置资讯”，第[0125]段记载“主控制装置20可在前述晶圆载台WST的有效动程范围中，藉由根据编码器70A～70D的至少三个的测量值控制构成载台驱动系统124的各马达，来以高精度控制晶圆载台WST在XY平面内的位置资讯(包含θz方向 的旋转资讯)”, 第[0155]段记载“又，曝光装置100，……，其具备：该标尺39X1，39Y1等；检测该标尺的位置资讯的多个X 读头66 及Y 读头64；……；以及从多个X 读头66 及Y 读头64 的检测结果求出晶圆载台WST 的位移资讯的编码器70A～70D 内的切换控制部70Aa～70Da”，即编码器系统的多个读头用以检测与该格子构件（即标尺）的位置相关的资讯，该编码器系统测量该载台的位置资讯，控制装置基于编码器系统测量到的位置资讯来控制驱动系统。
由此可见，修改后的权利要求1的技术方案可以由原权利要求书以及说明书记载的内容直接地、毫无疑义地得出，其修改没有超出原权利要求书和说明书记载的范围，符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
2、关于权利要求8的修改是否超范围
修改后的独立权利要求8请求保护一种曝光方法，其技术特征与独立权利要求1包含的技术特征实质相同，参见独立权利要求1的评述。基于与权利要求1同样的理由，修改后的权利要求8的技术方案也可以由原权利要求书以及说明书记载的内容直接地、毫无疑义地得出，其修改没有超出原权利要求书和说明书记载的范围，符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
3、关于权利要求2的修改是否超范围。
从属权利要求2引用权利要求1，其附加技术特征为“该载台具有晶圆台，该保持具配置在该晶圆台的凹部内，该多个读头分别与该晶圆台的上面相比设置在外侧”。原申请说明书第1实施形态的描述中，第[0069]段记载“晶圆载台WST，包含：前述载台本体91；以及晶圆台WTB，是通过未图示Z调平机构(例如音圈马达等)装载于该载台本体91上，……，但本实施形态中晶圆保持具与晶圆台WTB是分别构成，藉由例如真空吸附等将晶圆保持具固定于晶圆台WTB的凹部内”，即该载台具有晶圆台，该保持具配置在该晶圆台的凹部内。原申请说明书对图19的实施形态的描述中，第[0191]段记载“固定有在Y方向夹着晶圆载台WST的载台本体91的一对延伸于Y方向的检测框架135A，135B，固定有在X方向夹着本体部91的一对延伸于X方向的检测框架135C，135D(135D未图示)，在检测框架135A，135B以既定间隔固定有检测X标尺39AX1，39AX2的多个X读头66，在检测框架135C，135D以既定间隔固定有检测Y标尺39AY1，39AY2的多个Y读头64”，结合附图19可知，多个读头分别与晶圆台的上面相比设置在外侧。因此，修改后的权利要求2的技术方案也可以由原权利要求书以及说明书记载的内容直接地、毫无疑义地得出，其修改没有超出原权利要求书和说明书记载的范围，符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
4、关于权利要求3的修改是否超范围
权利要求3的附加技术特征对嘴单元及4个格子构件的具体设置进行限定。由原申请说明书附图19可以直接地、毫无疑义地确定：曝光装置还具备嘴单元。原申请说明书第1实施形态的描述中，第[0055]段记载“由于是进行适用液浸法的曝光，因此是设有构成局部液浸装置8一部分的嘴单元32，来包围用以保持前端透镜191的镜筒40的下端部周围，该前端透镜191是构成投影光学系统PL的最靠像面侧(晶圆W侧)的光学元件的透镜”，第[0058]段记载“以液体Lq充满包含图1的前端透镜191与晶圆W间的照明光IL的光路空间的液浸区域14(参照图3)，以形成液体Lq的液浸空间”，即曝光装置还具备嘴单元，该嘴单元以包围镜筒的下端部的方式设置，该镜筒用以保持该投影光学系统的多个光学元件中最靠近像面侧配置的透镜，以包含该透镜与该基板之间的该照明光的光路的方式用液体充满液浸区域，通过该投影光学系统和该液浸区域的液体用该照明光曝光该基板。由原申请说明书附图19可以确定：4个格子构件（标尺39AX1，39AX2，39AY1，39AY2）相对于嘴单元32配置于其外侧。因此，修改后的权利要求3的技术方案也可以由原权利要求书以及说明书记载的内容直接地、毫无疑义地得出，其修改没有超出原权利要求书和说明书记载的范围，符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
5、关于权利要求4的修改是否超范围
权利要求4的附加技术特征对嘴单元的具体结构进行限定。原申请说明书第1实施形态的描述中，第[0056]段记载“嘴单元32具有能供应曝光用液体Lq的供应口与能回收曝光用液体Lq的回收口。在该回收口配置有多孔构件(网眼)。能与晶圆W表面对向的嘴单元32的下面，包含配置成包围多孔构件的下面及用以使照明光IL通过的开口的各平坦面”，即该嘴单元包括供应口、回收口以及供照明光通过的开口；第[0058]段记载“自图7的液体供应装置186送出的曝光用液体Lq，在流经图1的供应管31A及嘴单元32的供应流路后，自该供应口供应至照明光IL的光路空间。又，藉由驱动图7的液体回收装置189，自该回收口回收的曝光用液体Lq，是在流经嘴单元32的回收流路后，通过回收管31B被液体回收装置189回收”，即通过该供应口向该光路供应液体，通过该回收口回收该液浸区域的液体。因此，修改后的权利要求4的技术方案也可以由原权利要求书以及说明书记载的内容直接地、毫无疑义地得出，其修改没有超出原权利要求书和说明书记载的范围，符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
6、关于权利要求5的修改是否超范围
从属权利要求引用权利要求3或4，其附加技术特征为“还具备与该测量框架不同的框架构件，该嘴单元设置于该不同的框架构件”。原申请说明书第1实施形态的描述中，第[0060]段记载“局部液浸装置8的一部分、例如至少嘴单元32，也可悬吊支撑于用以保持投影单元PU的主框架(包含前述的镜筒固定座)，或也可设置于与主框架不同的框架构件”。因此，修改后的权利要求5的技术方案也可以由原权利要求书以及说明书记载的内容直接地、毫无疑义地得出，其修改没有超出原权利要求书和说明书记载的范围，符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
7、关于权利要求6的修改是否超范围
从属权利要求6引用权利要求3或4，其附加技术特征为“该嘴单元设置于该测量框架”。原申请说明书第1实施形态的描述中，第[0060]段记载“本实施形态中，是将嘴单元32设置于与投影单元PU独立悬吊支撑的测量框架”。因此，修改后的权利要求6的技术方案也可以由原权利要求书以及说明书记载的内容直接地、毫无疑义地得出，其修改没有超出原权利要求书和说明书记载的范围，符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
8、关于权利要求7的修改是否超范围
从属权利要求7引用权利要求3或4，其附加技术特征为“该载台具有晶圆台，该保持具配置在该晶圆台的凹部内，该晶圆台以使该基板的表面与该晶圆台的上面大致为同一面高的方式将该基板保持在该凹部内”。原申请说明书第1实施形态的描述中，第[0070]段记载“本实施形态中晶圆保持具与晶圆台WTB是分别构成，藉由例如真空吸附等将晶圆保持具固定于晶圆台WTB的凹部内。又，在晶圆台WTB上面设有板体(拨液板)28，该板体是与装载在晶圆保持具上的晶圆表面大致同一面高、其外形(轮廓)为矩形且在其中央部形成有较晶圆保持具(晶圆的装载区域)大一圈的圆形开口。” 因此，修改后的权利要求7的技术方案也可以由原权利要求书以及说明书记载的内容直接地、毫无疑义地得出，其修改没有超出原权利要求书和说明书记载的范围，符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
9、关于权利要求9-14的修改是否超范围
权利要求9-14直接或间接引用权利要求8，其附加技术特征分别与权利要求2-7相同。如前所述，修改后的独立权利要求8包含的技术特征与独立权利要求1中实质相同。因此，基于与权利要求2-7相同的理由，修改后的权利要求9-14的技术方案可以由原权利要求书以及说明书记载的内容直接地、毫无疑义地得出，其修改没有超出原权利要求书和说明书记载的范围，符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
10、关于权利要求15的修改是否超范围
权利要求15请求保护一种元件制造方法，使用权利要求1-4中任一项所述的曝光装置曝光基板，并进一步限定将经该曝光的基板显影。原申请说明书对图19的实施形态的描述中，第[0192]段记载“微型元件例如能经由图18所示的制程制造”，制程包括“使已曝光的基板显影的步骤”。因此，修改后的权利要求15的技术方案也可以由原权利要求书以及说明书记载的内容直接地、毫无疑义地得出，其修改没有超出原权利要求书和说明书记载的范围，符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
11、关于权利要求16的修改是否超范围
权利要求16请求保护一种元件制造方法，使用权利要求8-11中任一项所述的曝光方法曝光基板，并进一步限定将经该曝光的基板显影。原申请说明书对图19的实施形态的描述中，第[0192]段记载“微型元件例如能经由图18所示的制程制造”，制程包括“使已曝光的基板显影的步骤”。因此，修改后的权利要求16的技术方案也可以由原权利要求书以及说明书记载的内容直接地、毫无疑义地得出，其修改没有超出原权利要求书和说明书记载的范围，符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
综上，修改后的权利要求1-16没有超出原申请说明书和权利要求书记载的范围，符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
根据以上事实和理由，本案合议组作出如下审查决定。
三、决定
撤销国家知识产权局于2018年09月29日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局原专利实质审查部门在本复审请求审查决定所针对的文本的基础上对本申请继续进行审查。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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