发明创造名称：制作隔垫物的方法、基板、显示面板及显示装置
外观设计名称：
决定号：195336
决定日：2019-11-18
委内编号：1F273725
优先权日：
申请（专利）号：201610076288.X
申请日：2016-02-03
复审请求人：京东方科技集团股份有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：高宇
合议组组长：高懿颖
参审员：张帆
国际分类号：G02F1/1339
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求请求保护的技术方案与作为最接近现有技术的对比文件所公开的技术方案相比，存在某些区别技术特征，而该些区别技术特征部分是在另一篇对比文件公开内容的基础上容易想到的，部分属于本领域的常用技术手段，且本领域技术人员在该作为最接近现有技术的对比文件的基础上结合另一篇对比文件和本领域的常用技术手段就能显而易见地得到该权利要求请求保护的技术方案，则该权利要求不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201610076288.X、名称为“制作隔垫物的方法、基板、显示面板及显示装置”的发明专利申请（下称本申请），本申请的申请日为2016年02月03日，公开日为2016年05月04日，申请人为京东方科技集团股份有限公司。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年11月02日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-7不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。驳回决定引用如下2篇对比文件：
对比文件1：CN103760720A，申请公布日为2014年04月30日；
对比文件2：CN1385759A，公开日为2002年12月18日。
驳回决定所依据的文本为申请日2016年02月03日提交的说明书第1-47段、说明书附图1-6、说明书摘要、摘要附图，以及2018年09月21日提交的权利要求第1-7项。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种制作隔垫物的方法，其特征在于，包括：
在基板上形成隔垫物材料薄膜；
对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光，且任意相邻两次曝光的区域部分重叠；
所述对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光包括：
采用同一掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光；
采用同一掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光包括：
采用所述掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行第一次曝光；
移动所述掩膜版，然后对所述隔垫物材料薄膜进行第二次曝光；
所述基板包括呈矩阵排列的多个像素单元，所述掩膜版移动的方向为像素单元排列的行方向或列方向；
去除所述隔垫物材料薄膜中未曝光的区域的隔垫物材料形成隔垫物，所形成的每个隔垫物在行方向上的尺寸小于像素单元在行方向上的尺寸。
2. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩膜版包括遮光区域和多个透光区域，每一个所述透光区域的形状为圆形或矩形。
3. 一种基板，其特征在于，具有采用权利要求1或2所述的方法制成的隔垫物。
4. 如权利要求3所述的基板，其特征在于，所述基板为彩膜基板。
5. 如权利要求3所述的基板，其特征在于，所述基板为阵列基板。
6. 一种显示面板，其特征在于，包括权利要求3-5任一所述的基板。
7. 一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求6所述的显示面板。”
驳回决定认为：独立权利要求1与对比文件1的区别技术特征为：（1）对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光，且任意相邻两次曝光的区域部分重叠；所述对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光包括：采用同一掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光；采用同一掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光包括：采用所述掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行第一次曝光；移动所述掩膜版，然后对所述隔垫物材料薄膜进行第二次曝光；所述基板包括呈矩阵排列的多个像素单元，所述掩膜版移动的方向为像素单元排列的行方向或列方向；（2）所形成的每个隔垫物在行方向上的尺寸小于像素单元在行方向上的尺寸。区别技术特征（1）部分是在对比文件2公开的基础上容易想到的，部分是本领域技术人员的惯用技术手段，区别技术特征（2）是本领域技术人员的惯用技术手段，权利要求1相对于对比文件1和对比文件2以及本领域技术人员的惯用技术手段的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-5直接或间接引用权利要求1，从属权利要求2的附加技术特征部分被对比文件1公开，部分是本领域技术人员的惯用技术手段；从属权利要求3-5的附加技术特征被对比文件1公开；从属权利要求2-5也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。独立权利要求6要求保护的显示面板包括权利要求3-5任一所述的基板，显示面板采用具有隔垫物的基板为本领域技术人员的惯用技术手段，由于权利要求3-5均不具备创造性，权利要求6也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。独立权利要求7要求保护的显示装置包括如权利要求6所述的显示面板，显示装置包括显示面板为本领域技术人员的惯用技术手段，由于权利要求6不具备创造性，权利要求7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人京东方科技集团股份有限公司（下称复审请求人）不服上述驳回决定，于2019年02月15日向国家知识产权局提出了复审请求，仅陈述了意见，未修改申请文件。
复审请求人认为：首先，对比文件2中采用计算机生成的掩模图形，其成本较高。而本申请采用的为一掩膜版，可通过调整移动距离，低成本生产不同尺寸的隔垫物。其次，本申请的一种制作隔垫物的方法，其适用的领域为显示面板技术领域，其应用的领域中隔垫物的尺寸较小，需要将掩膜版的曝光区域移动一较小的距离，使任意相邻两次曝光的区域部分重叠，使用同一掩膜版，通过移动不同的距离即可精准满足不同型号的基板尺寸隔垫物尺寸需求。对比文件2中采用的技术手段为分别对两个不同且相邻曝光区域分别曝光，不存在技术启示对重叠的两个区域进行曝光，若是对比文件2中的两个曝光区域存在重叠，则违背了对比文件2中“重复1-4的步骤”的发明技术构思。计算机生成的掩模图形本身就可以完成不同尺寸隔垫物的尺寸调节功能，若是采用移动微小的曝光区域，使两个曝光区域重叠，相对于调节计算机生成的掩模图形而言，反而生产成本会提高，具有相反的教导。再次，由对比文件1、对比文件2公开的内容以及其他可以获知的现有技术得出，采用掩膜版一次曝光或是采用调节计算机掩膜图形生产隔垫物才是本领域的惯用技术手段，而权利要求1中记载的区别技术特征是非显而易见的。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年02月22日依法受理了该复审请求，并将本案转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年08月12日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1与对比文件1的区别技术特征在于：（1）对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光，且任意相邻两次曝光的区域部分重叠；所述对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光包括：采用同一掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光；采用同一掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光包括：采用所述掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行第一次曝光；移动所述掩膜版，然后对所述隔垫物材料薄膜进行第二次曝光；所述基板包括呈矩阵排列的多个像素单元，所述掩膜版移动的方向为像素单元排列的行方向或列方向；（2）所形成的每个隔垫物在行方向上的尺寸小于像素单元在行方向上的尺寸。区别技术特征（1）部分是在对比文件2公开的基础上容易想到的，部分是本领域技术人员的惯用技术手段，区别技术特征（2）是本领域技术人员的惯用技术手段，权利要求1相对于对比文件1和对比文件2以及本领域技术人员的惯用技术手段的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-5直接或间接引用权利要求1，从属权利要求2的附加技术特征部分被对比文件1公开，部分是本领域技术人员的惯用技术手段；从属权利要求3-5的附加技术特征被对比文件1公开；从属权利要求2-5也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。独立权利要求6要求保护的显示面板包括权利要求3-5任一所述的基板，显示面板采用具有隔垫物的基板为本领域技术人员的惯用技术手段，由于权利要求3-5均不具备创造性，权利要求6也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。独立权利要求7要求保护的显示装置包括如权利要求6所述的显示面板，显示装置包括显示面板为本领域技术人员的惯用技术手段，由于权利要求6不具备创造性，权利要求7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。合议组同时对复审请求人的意见进行了答复。
复审请求人于2019年09月02日提交了意见陈述书，仅陈述了意见，未修改申请文件。
在本次意见陈述书中，复审请求人除重复在提交复审请求时的意见之外，还认为：在实际分析对比文件2所采用的技术手段的适用范围和可扩展范围中，应当以对比文件2的整体文件为出发点，不能将整体技术方案进行割裂，也不能随意的替换其部分技术手段。对比文件2通过移动曝光台实际实现的增大曝光面积的技术手段中，实际合理的移动的范围应当为实现不重叠的区域曝光。单独的对于比文件2中，计算机模拟的掩膜版可以实时变化，不存在通过移动微小距离的方式的技术启示。对比文件2中的技术手段可以进行相应的变化是不合理的，从对比文件2的整体考虑，其需要达到的目的为制备三维微结构，若是将计算机生成的掩膜板替换为实体的掩膜板，本领域技术人员无法获知如何通过一个实体掩膜板的移动，来重构三维微结构的实现方式，脱离了对比文件2的本身。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，依法作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
在复审程序中，复审请求人对申请文件未进行修改。因此，本决定以驳回决定针对的文本，即，申请日2016年02月03日提交的说明书第1-47段、说明书附图1-6、说明书摘要、摘要附图，以及2018年09月21日提交的权利要求第1-7项为基础作出。
（二）有关创造性的问题
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案与作为最接近现有技术的对比文件所公开的技术方案相比，存在某些区别技术特征，而该些区别技术特征部分是在另一篇对比文件公开内容的基础上容易想到的，部分属于本领域的常用技术手段，且本领域技术人员在该作为最接近现有技术的对比文件的基础上结合另一篇对比文件和本领域的常用技术手段就能显而易见地得到该权利要求请求保护的技术方案，则该权利要求不具备创造性。
具体到本案而言：
1. 权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性
权利要求1要求保护一种制作隔垫物的方法，对比文件1公开了一种显示面板的制作方法，其中包括制作隔垫物的方法，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第0004-0007，0027-0060段、附图1-5）：可以在阵列基板10上沉积用于制作隔垫物的有机材料层11和光刻胶层12，之后，可以通过包括完全曝光区41和部分曝光区42的掩模板40对有机材料层11和光刻胶层 12进行曝光和显影，之后，可以通过刻蚀等工艺在阵列基板10上与掩模板40的完全曝光区41对应的区域形成主隔垫物31，在阵列基板10上与掩模板40的部分曝光区42对应的区域形成副隔垫物32。在阵列基板10上，与掩模板40的每个完全曝光区41对应的区域能够形成一个主隔垫物31，而与掩模板40的每个部分曝光区42 对应的区域能够形成一个副隔垫物32（参见说明书第0059段）。
可见，对比文件1中在阵列基板10上沉积用于制作隔垫物的有机材料层11和光刻胶层12，相当于在基板上形成隔垫物材料薄膜；通过包括完全曝光区41和部分曝光区42的掩模板40对有机材料层11和光刻胶层 12进行曝光和显影，相当于采用掩膜版对隔垫物材料薄膜进行曝光；通过刻蚀等工艺在阵列基板10上与掩模板40的完全曝光区41对应的区域形成主隔垫物31，在阵列基板10上与掩模板40的部分曝光区42对应的区域形成副隔垫物32，相当于去除所述隔垫物材料薄膜中未曝光的区域的隔垫物材料形成隔垫物。
权利要求1与对比文件1的区别技术特征在于：（1）对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光，且任意相邻两次曝光的区域部分重叠；所述对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光包括：采用同一掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光；采用同一掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光包括：采用所述掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行第一次曝光；移动所述掩膜版，然后对所述隔垫物材料薄膜进行第二次曝光；所述基板包括呈矩阵排列的多个像素单元，所述掩膜版移动的方向为像素单元排列的行方向或列方向；（2）所形成的每个隔垫物在行方向上的尺寸小于像素单元在行方向上的尺寸。基于上述区别技术特征，权利要求1实际解决的技术问题为：如何增大基板上单位区域面积内的隔垫物面积从而避免其破损，提高可靠性，同时避免最终形成的隔垫物侵入到像素单元中造成显示不良，以及如何避免隔垫物阻碍液晶在列方向上的自由流动。
针对区别技术特征（1），在对比文件1还公开了通过增加显示面板周边区域的主隔垫物的数量，能够增加使得更多的主隔垫物在显示面板周边区域隔垫物所提供支撑力，可以减少显示面板周边区域的每个隔垫物受到的压力，从而能够避免现有技术中在剪薄、二次切割等工艺时可能导致的显示面板周边区域的隔垫物破损的问题，以及与显示面板周边区域的隔垫物接触的取向层破损的问题（参见说明书第0027、0062段）。可见，对比文件1公开了增加周边区域的单位区域面积内的所述主隔垫物的个数，可增大周边区域的单位区域面积内的隔垫物的面积进而减少隔垫物承受的压力，进而实现减少显示面板周边区域的各主柱状隔垫物的破损；在此基础上，本领域技术人员容易想到采用在基板的各个区域上，增大基板上的单位区域面积内的隔垫物的面积进而减少隔垫物承受的压力，进而实现减少显示面板区域的各主柱状隔垫物的破损。
对比文件2公开了一种三维微结构的制作方法及其曝光装置，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第2页第12行至第5页第17行）：本发明曝光装置的曝光台可以移动，结合实时掩膜曝光方法，可使同一感光材料的不同区域产生不同曝光量分布，因此能够制作总体面积大的具有微细结构的元器件（参见说明书第3页第21行至第23行）。制作三维微结构的方法的实施例各步骤如下：①、固定曝光台4，通过计算机5控制生成实时掩模图形。②、通过计算机5控制液晶光阀1的通光单元，使实时掩模图形透过液晶光阀1的通光单元，成像于投影曝光镜头2像面上的感光材料3上，并完成一次曝光。③、曝光台4固定不动，刷新实时掩模图形，再进行第二次曝光。④、重复②～③，经过多次往复，即经过n＝3次曝光，在感光材料3上产生曝光量分布的积累。由于实时掩模能够生成任意图形，通过控制曝光量和各次曝光时间，可以生成任意的曝光量分布。⑤、移动曝光台4，使感光材料3的另一区域位于投影曝光镜头2下面，重复①～④的步骤。通过掩模实时刷新，使每个曝光区域获得与上一曝光区域不同的曝光量分布，将若干曝光区域拼接为一个更大面积的曝光量分布。⑥、将若干区域曝光后的感光材料3一次显影，形成任意连续三维微结构（参见说明书第5页第1行至第17行）。可见对比文件2中公开了，利用计算机5控制液晶光阀生成实时掩膜进行至少两次曝光：采用掩膜对感光材料进行第一次曝光；移动移动曝光台4，改变掩膜位置，然后对所述隔垫物材料薄膜进行第二次曝光，并将若干曝光区域拼接为一个更大面积的曝光量分布，从而能够制作总体面积大的具有微细结构的元器件；上述公开的技术特征在对比文件2中同样起到了增大对应曝光区域面积的作用。本领域技术人员在面对如何增大基板上单位区域面积内的隔垫物面积的技术问题时，有动机根据对比文件2的技术启示，将对比文件2的“采用掩模图形对感光材料（3）曝光，在完成对一感光材料（3）区域实现曝光后，移动曝光台（4），使感光材料(3)的另一曝光区域处于投影曝光”步骤应用到对比文件1中，得到增大隔垫物面积的制作隔垫物的方法。对比文件2中为了生成复杂的三维微结构需要刷新实时掩模图形对同一区域进行多次曝光、并在其他区域重复这些步骤，但当将对比文件2的上述特征用于对比文件1时，由于隔垫物的结构简单，仅使用本领域常见的普通掩膜版而不是实时掩膜就可以实现，本领域技术人员容易想到简化对比文件2的曝光方式，省略步骤③、④，采用移动掩膜版替换对比文件2中的移动曝光台（4）并使用同一掩膜版进行两次曝光。而任意相邻两次曝光的区域部分是否重叠是本领域技术人员可根据需要生成的隔垫物的具体设计而调整的，对本领域技术人员是显而易见的。进而，本领域中基板通常包括呈矩阵排列的多个像素单元，采用所述基板包括呈矩阵排列的多个像素单元为本领域技术人员的惯用技术手段。为了避免最终形成的隔垫物侵入到像素单元中引起漏光，进而导致显示不良，使得掩膜版移动的方向为像素单元排列的行方向或列方向也是本领域技术人员的惯用技术手段。
针对区别技术特征（2），在液晶显示领域，为了保证液晶灌注过程中液晶盒厚的均一性，液晶显示面板的亮度的均匀性，或实现液晶显示面板的抗压等特性，采用液晶在显示面板内自由流动为本领域技术人员的惯用技术手段，在液晶显示面板中，隔垫物对液晶的自由流动起到阻碍作用在本领域也十分熟知，因此，对于本领域技术人员而言，为了避免隔垫物在行方向上的尺寸过大，阻碍液晶在列方向上的自由流动，采用所形成的每个隔垫物在行方向上的尺寸小于像素单元在行方向上的尺寸为本领域技术人员的惯用技术手段。
由此可知，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域技术人员的惯用技术手段得到权利要求1要求保护的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的。因此，权利要求1要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对于复审请求人在答复复审通知书时新增加的意见，合议组经合议认为：在将对比文件2中的技术手段用于对对比文件1的改进时并不需要照搬对比文件2的全部技术方案，也不必须保留对比文件2的全部技术效果，只要对比文件2的某些技术手段，起到了相同的作用，给予了本领域技术人员启示，本领域技术人员就容易想到将该些技术手段用于对对比文件1的改进。本申请说明书中并未记载“可通过调整移动距离，低成本生产不同尺寸的隔垫物”或“通过移动不同的距离即可精准满足不同型号的基板尺寸隔垫物尺寸需求”,也并未记载两次曝光区域重叠与不重叠相比具有何种预料不到的技术效果。本申请仅记载了要解决的技术问题是“如何提高基板上隔垫物结构的可靠性”。对比文件1通过增大主隔垫物数量避免了隔垫物破损。在此基础上，增大隔垫物的面积以提高基板上隔垫物结构的可靠性，是本领域技术人员容易想到的。对比文件2中移动曝光台实现了增大曝光面积，本领域技术人员在其启示下，由于曝光台和掩模板为相对运动关系，为了扩大对比文件1中制作隔垫物的曝光面积容易想到采用移动掩模板的方法。将对比文件2中计算机生产的掩模替换为实体掩膜版也并不存在技术障碍，对比文件2为了生产复杂的三维微结构，需要计算机生产的实时变化的掩模，但其背景技术里说明了具有一定限制的三维微结构通过移动掩模法就可以实现（参见对比文件2说明书第2页第6行至第11行），其说明书还记载了，通过不断刷新掩模图形以及多次曝光后一次显影，提高了制作精度（参见对比文件2说明书第3页第14行至第17行），曝光装置的曝光台可以移动，结合实时掩模曝光方法，能够制作总体面积大的具有微细结构的元器件（参见对比文件2说明书第3页第21行至第23行）。可见。对比文件2中移动曝光台起到的作用是增大了曝光面积，当将移动掩模用于对比文件1的隔垫物制作时，显然不需要将对比文件1的隔垫物制做成具有复杂的三维微结构，而由于不需要构成复杂的结构，不使用计算机生产的掩模，采用实体掩膜版并在移动掩膜版后两次曝光对本领域技术人员是显而易见的，根据需要将两次曝光的区域部分重合也并不存在技术上的障碍。在移动掩模时，使两次曝光的区域重叠或不重叠都是本领域技术人员容易想到的，是本领域技术人员可根据需要形成的隔垫物的大小和形状而进行选择的技术手段，其实施方式和效果对本领域技术人员都是显而易见的，并不会带来预料不到的技术效果，而且，尽管对比文件2中没有明确记载其两次曝光区域是否重合，但即使是采用计算机生成的掩模图形对于两次曝光区域重叠也并不构成阻碍，而在使用二维掩模制作三维微结构时，多次曝光的部分区域重叠的技术方案是常见的。对比文件2给出了移动曝光台对感光材料不同位置曝光的启示，并没有给出相反的教导。因而，当不需要制作复杂的微结构时，采取对比文件1中的、本领域常见的掩膜版并通过移动掩膜版获得增大的隔垫物，从而提高隔垫物的可靠性，对本领域技术人员是显而易见的。因此，合议组对复审请求人的意见不予支持。
2. 从属权利要求2引用权利要求1，对比文件1还公开了（参见说明书第0006段）：在所述阵列基板和所述对盒基板之间进行间隔设置有隔垫物；所述掩模板40上对应于所述显示面板区域的周边区域的单位面积内完全曝光区的个数大于所述掩模板40上对应于所述显示面板区域的中部区域的单位面积内完全曝光区的个数。可见，对比文件1公开了掩膜版包括多个透光区域。本领域技术人员可以确定，掩模板40的除完全曝光区41和部分曝光区42外的其他部分为遮光区。为了实现隔垫物的不同的形状，使得每一个透光区域的形状为圆形或矩形为本领域技术人员的惯用技术手段。因此，在引用的权利要求1的不具备创造性的情况下，权利要求2也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3. 权利要求3要求保护一种基板，其具有采用权利要求1或2所述的方法制成的隔垫物。对比文件1还公开了（参见说明书第0004段）：如附图1所示，现有的显示面板中，主隔垫物通常为均匀设置在彩膜基板3上，也可以设置在阵列基板上。可见，对比文件1公开了具有隔垫物的基板。因此，当权利要求1或2所述的制作隔垫物的方法不具备创造性时，权利要求3要求保护的具有采用权利要求1或2所述制作隔垫物方法的隔垫物的基板也不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
4. 从属权利要求4、5均引用权利要求3，对比文件1中还公开了以下技术特征（参见说明书第0004段、附图1）：如附图1所示，现有的显示面板中，主隔垫物通常为均匀设置在彩膜基板3上，也可以设置在阵列基板上。可见，权利要求4、5的附加技术特征已被对比文件1公开。因此，在引用的权利要求3的不具备创造性的情况下，权利要求4、5也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
5. 权利要求6要求保护一种显示面板，显示面板包括采用具有隔垫物的基板，为本领域技术人员的惯用技术手段。因此，当权利要求3-5所述的基板不具备创造性时，权利要求6要求保护的包括权利要求3-5任一所述基板的显示面板也不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
6.权利要求7要求保护一种显示装置，显示装置包括显示面板，为本领域技术人员的惯用技术手段。因此，当权利要求6所述的显示面板不具备创造性时，权利要求7要求保护的包括权利要求6所述的显示面板的显示装置也不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
综上所述，本申请权利要求1-7不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
根据以上事实和理由，合议组依法作出如下决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年11月02日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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