发明创造名称：偏振片的制造方法
外观设计名称：
决定号：194974
决定日：2019-11-13
委内编号：1F267713
优先权日：2015-11-27,2016-07-13
申请（专利）号：201611052804.1
申请日：2016-11-24
复审请求人：住友化学株式会社
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：朱宇澄
合议组组长：张瑜
参审员：高望
国际分类号：G02B5/30，G02F1/1335
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点：如果一项权利要求请求保护的技术方案与一篇最接近的现有技术公开的技术方案相比，存在区别技术特征，而该区别技术特征为本领域公知常识，则该权利要求不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201611052804.1、名称为“偏振片的制造方法”的发明专利申请（下称本申请），本申请的申请日为2016年11月24日，优先权日为2015年11月27日和2016年07月13日，公开日为2017年06月06日，申请人为住友化学株式会社。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年08月20日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-6不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。驳回决定引用如下对比文件：
对比文件1：CN101542336A，公开日期为2009年09月23日。
实质审查过程中还引用过如下对比文件：
对比文件2：CN1831571A，公开日期为2006年09月13日。
驳回决定所依据的文本为：申请日2016年11月24日提交的说明书摘要、说明书第1-130段，2018年07月13日提交的权利要求第1-6项。驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种偏振片的制造方法，其包括染色工序，该染色工序中，将未染色的聚乙烯醇系树脂膜浸渍在包含二色性色素的染色液中，由此对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色，
所述染色液含有交联剂，
所述交联剂的浓度相对于所述染色液中包含的溶剂100重量份为0.01重量份以上且低于0.05重量份，
所述聚乙烯醇系树脂膜的厚度为10μm以下，并形成于热塑性树脂基材之上。
2. 如权利要求1所述的偏振片的制造方法，其中，所述交联剂为硼化合物。
3. 如权利要求2所述的偏振片的制造方法，其中，所述硼化合物为硼酸。
4. 如权利要求1～3中任一项所述的偏振片的制造方法，其中，所述二色性色素为碘。
5. 如权利要求1～3中任一项所述的偏振片的制造方法，其中，所述二色性色素的浓度相对于所述溶剂100重量份为0.01重量份～10重量份。
6. 如权利要求1～3中任一项所述的偏振片的制造方法，其中，所述染色液含有碘化钾。”
驳回决定认为：1）权利要求1与对比文件1的区别在于：聚乙烯醇系树脂膜的厚度为10μm以下，并形成于热塑性树脂基材上。该区别为本领域常规设置和结构，因此，权利要求1不具备创造性。2）权利要求2-6的附加技术特征被对比文件1公开，因此，权利要求2-6不具备创造性。
申请人住友化学株式会社（下称复审请求人）对上述驳回决定不服,于2018年12月04日向国家知识产权局提出了复审请求，并提交了权利要求书全文的修改替换页，其中，权利要求1进一步限定偏振片的制造方法包括拉伸工序、不溶化工序，并且对拉伸工序和不溶化工序进行了限定。修改后的权利要求1为：
“1. 一种偏振片的制造方法，其包括拉伸工序、不溶化工序和染色工序，
所述拉伸工序是包含干式拉伸处理的工序，该干式拉伸处理在染色工序前实施，
所述不溶化工序是在实施所述拉伸工序或所述染色工序前进行的工序，
所述染色工序是：将未染色的聚乙烯醇系树脂膜浸渍在包含二色性色素的染色液中，由此对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色的工序，
所述染色液含有交联剂，
所述交联剂的浓度相对于所述染色液中包含的溶剂100重量份为0.01重量份以上且低于0.05重量份，
所述聚乙烯醇系树脂膜的厚度为10μm以下，并形成于热塑性树脂基材之上。”
复审请求人认为：a、对比文件1没有记载“在染色工序之前进行干式拉伸工序”，若没有足够明确的逻辑指引，本领域技术人员基于对比文件1也难以想到在染色工序前进行干式拉伸工序；b、对比文件1的制造方法实现的技术效果是：获得明暗比优异的高亮度的LCD板，关于本申请所要解决的“薄膜化的偏振片在连续生产中存在的问题”以及技术手段，对比文件1中没有任何教导或启示。本申请的制造方法中具体限定了交联剂的浓度，且进一步限定了在染色工序前实施干式拉伸工序、不溶化工序，由此，可以实现优异的脱液性，不存在染色不均以及硼酸导致的污染。
经形式审查合格，专利复审委员会于2018年12月10日依法受理了该复审请求，并将本案转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中坚持原驳回决定。
随后，专利复审委员会成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年07月04日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1包含两个并列技术方案，其中一个技术方案修改超范围，不符合专利法第33条的规定；针对权利要求1中不存在修改超范围缺陷的技术方案，权利要求1-6不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。复审通知书认为：1）由本申请原说明书和权利要求书记载的内容，不能直接地、毫无疑义地得到“不溶化工序在实施拉伸工序前进行”的技术方案，权利要求1中“不溶化工序在实施拉伸工序前进行”的技术方案修改超范围，因此，权利要求1修改超范围。2）权利要求1中“不溶化工序在实施染色工序前进行”的技术方案与对比文件1的区别在于：a、干式拉伸处理在染色工序前实施；还包括不溶化工序，不溶化工序在染色工序前进行；b、聚乙烯醇系树脂膜的厚度为10μm以下，并形成于热塑性树脂基材之上。区别技术特征a、b均为本领域技术人员的常规选择，因此，权利要求1不具备创造性。3）权利要求2-6的附加技术特征均被对比文件1公开，因此，权利要求2-6不具备创造性。4）针对复审请求人的意见陈述，合议组认为：a、在偏振片的制造过程中，染色工序与拉伸工序是相对独立的两个工序，先染色后拉伸、先拉伸后染色或者染色、拉伸同时进行对于偏振片的制造并不会产生不可预期的影响，并且上述三种方式在偏振片的制造过程中均已经被广泛使用。在此基础上，无需进一步指引，本领域技术人员即可根据实际应用环境，相应地选择更加合理的实施顺序。b、对比文件1染色步骤中作为染色液的碘的水溶液中，包含作为交联剂的硼酸，其同样可以避免聚乙烯醇从聚乙烯醇系树脂膜中析出，同样解决了本申请所要解决的技术问题。在染色工序之前进行不溶化工序为本领域技术人员的常用技术手段，而拉伸工序与染色工序的实施顺序为本领域技术人员的常规选择，由此可见，在对比文件1的基础上结合本领域公知常识得到的技术方案，同样具有上述技术效果。因此，复审请求人的意见不能被接受。
复审请求人于2019年08月16日提交了意见陈述书，并且提交了权利要求书全文的修改替换页，其中，权利要求1中删除了修改超范围的并列技术方案，并且增加了对“不溶化工序”的进一步限定，修改后的权利要求书如下：
“1. 一种偏振片的制造方法，其包括拉伸工序、不溶化工序和染色工序，
所述拉伸工序是包含干式拉伸处理的工序，该干式拉伸处理在染色工序前实施，
在所述拉伸工序后进行所述不溶化工序，
所述不溶化工序是在实施所述染色工序前进行的工序，
所述不溶化工序是：将未染色的聚乙烯醇系树脂膜浸渍在含有硼化合物的溶液中的工序，
所述染色工序是：将未染色的聚乙烯醇系树脂膜浸渍在包含二色性色素的染色液中，由此对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色的工序，
所述染色液含有交联剂，
所述交联剂的浓度相对于所述染色液中包含的溶剂100重量份为0.01重量份以上且低于0.05重量份，
所述聚乙烯醇系树脂膜的厚度为10μm以下，并形成于热塑性树脂基材之上。
2. 如权利要求1所述的偏振片的制造方法，其中，所述交联剂为硼化合物。
3. 如权利要求2所述的偏振片的制造方法，其中，所述硼化合物为硼酸。
4. 如权利要求1～3中任一项所述的偏振片的制造方法，其中，所述二色性色素为碘。
5. 如权利要求1～3中任一项所述的偏振片的制造方法，其中，所述二色性色素的浓度相对于所述溶剂100重量份为0.01重量份～10重量份。
6. 如权利要求1～3中任一项所述的偏振片的制造方法，其中，所述染色液含有碘化钾。”
复审请求人认为：对比文件1没有公开PVA系树脂膜（偏振片）的厚度，也没有公开拉伸工序、不溶化工序、染色工序的特定实施工序，更没有公开不溶化工序的具体限定。对比文件1中拉伸工序是在染色工序之后进行的。对比文件1的“交联工序”中记载了使碘分子吸附至聚乙烯醇膜的高分子基质上、但是其并不是将未染色的PVA系树脂膜浸渍在含硼化合物的溶液中，对比文件1并未公开本发明的不溶化工序。对比文件1未教导上述技术特征，本领域技术人员在没有任何明确的技术指引的前提下，基于对比文件1难以想到本发明。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，依法作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
在复审程序中，复审请求人于2019年08月16日提交了权利要求书第1-6项的修改替换页，经审查，其中所作的修改符合专利法第33条及专利法实施细则第61条第1款的规定。因此，本决定以申请日2016年11月24日提交的说明书摘要、说明书第1-130段，2019年08月16日提交的权利要求书第1-6项为基础作出。
关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案与一篇最接近的现有技术公开的技术方案相比，存在区别技术特征，而该区别技术特征为本领域公知常识，则该权利要求不具备创造性。
具体到本案：权利要求1请求保护一种偏振片的制造方法，对比文件1公开了一种碘型偏光片的制备方法，其中，披露了以下技术特征（参见说明书第4页第3行至第7页倒数第3行）：该方法包括染色步骤和拉伸步骤，染色步骤将基于聚乙烯醇（PVA）的膜浸入染色浴中的碘的水溶液中以用分子碘对基于PVA的膜染色。基于100重量份的水，碘的水溶液优选进一步包含0.01-6重量份的硼酸，碘的水溶液中添加硼酸可以促进分子碘的交联以有效且快速的方式进行，即碘的水溶液中含有作为交联剂的硼酸。拉伸步骤通过在特定方向上拉伸PVA膜来进行，干拉伸法和湿拉伸法均可使用，并且，可以与染色步骤分开进行或一起进行。
权利要求1与对比文件1的区别在于：1）干式拉伸处理在染色工序前实施；还包括不溶化工序，不溶化工序在拉伸工序后、染色工序前进行，不溶化工序是将未染色的聚乙烯醇系树脂膜浸渍在含有硼化合物的溶液中的工序；2）聚乙烯醇系树脂膜的厚度为10μm以下，并形成于热塑性树脂基材之上。基于上述区别技术特征，本申请实际解决的技术问题是：如何避免聚乙烯醇系树脂膜层溶化，如何选择膜厚以及基材。
对于区别技术特征1），为避免聚乙烯醇系树脂膜层中的一部分聚乙烯醇溶于染色液中，析出的聚乙烯醇附着在聚乙烯醇系树脂膜上，从而导致染色不均等问题，在染色工序之前，将聚乙烯醇系树脂膜浸入硼酸水溶液，即含有硼化合物的溶液中，这样的不溶化工序为本领域技术人员的常用技术手段。至于拉伸工序、不溶化工序以及染色工序的实施顺序，根据实际应用环境的需求，在染色工序前或染色工序后实施干式拉伸处理均为本领域技术人员的常规选择，对于在染色工序前实施干式拉伸处理的情况而言，在拉伸处理之前或之后进行不溶化工序均为本领域技术人员的常规选择，并没有获得预料不到的技术效果。
对于区别技术特征2），根据实际应用需求，相应地选择偏振膜层的厚度，例如，10μm以下，为本领域技术人员的常规选择，其技术效果也可以预期。热塑性树脂具有机械强度好、热稳定性高等特点，为本领域广泛使用的偏振片基材，采用热塑性树脂作为偏振片的基材为本领域技术人员的常规选择，并没有获得预料不到的技术效果。
由此可见，在对比文件1的基础上，结合本领域公知常识，得到权利要求1的技术方案是显而易见的，权利要求1不具备突出的实质性特点和显著进步，不具备创造性。
对于复审请求人的意见陈述，合议组认为：首先，尽管对比文件1没有公开偏振片的厚度，但是，根据本领域公知常识可知，作为偏振片，膜层的厚度过厚将导致其难以获得预期光学性能，膜层的厚度过薄将降低其后续工序的可加工性，根据实际应用需求，相应地选择偏振膜层的厚度，例如，10μm以下，为本领域技术人员的常规选择，其技术效果也可以预期。其次，尽管对比文件1没有公开不溶化工序及其具体限定，但是，如前所述，在染色工序之前，将聚乙烯醇系树脂膜浸入硼酸水溶液，即含有硼化合物的溶液中，这样的不溶化工序为本领域技术人员的常用技术手段。再次，对于各工序实施的顺序，在偏振片的制造过程中，染色工序与拉伸工序是相对独立的两个工序，先染色后拉伸、先拉伸后染色或者染色、拉伸同时进行对于偏振片的制造并不会产生不可预期的影响，并且上述三种方式在偏振片的制造过程中均已经被广泛使用。不溶化工序的目的在于避免聚乙烯醇系树脂膜层析出的聚乙烯醇附着在聚乙烯醇系树脂膜上，而导致染色不均等问题，该工序在染色工序之前实施即可。在此基础上，无需进一步指引，本领域技术人员即可根据实际应用环境，相应地选择更加合理的实施顺序，例如，按照拉伸处理、不溶化工序、染色工序的顺序实施，这样的选择属于本领域技术人员的常规选择，并不能使本申请具备创造性。因此，复审请求人的意见不能被接受。
权利要求2、3的附加技术特征进一步限定了交联剂的成分。对比文件1公开了交联剂为硼酸（参见说明书第4页第19-21行），权利要求2、3的附加技术特征被对比文件1公开。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求2、3也不具备创造性。
权利要求4、5的附加技术特征进一步限定了二色性色素的成分以及浓度。对比文件1公开了染色步骤为用分子碘对基于PVA的膜染色（参见说明书第4页第7-9行），其中，碘的水溶液的浓度为：基于100重量份的水，碘的水溶液优选包含0.01-0.5重量份的碘（参见说明书第4页第12、13行），权利要求4、5的附加技术特征被对比文件1公开。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求4、5也不具备创造性。
权利要求6的附加技术特征进一步限定了染色液所含物质。对比文件1公开了基于100重量份的水，碘的水溶液可包含0.01-10重量份的碘化钾（参见说明书第4页倒数第14-17行），权利要求6的附加技术特征被对比文件1公开。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求6也不具备创造性。
综上所述，本申请权利要求1-6不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年08月20日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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