发明创造名称：一种触控基板及其制备方法、显示装置
外观设计名称：
决定号：194814
决定日：2019-11-06
委内编号：1F268481
优先权日：
申请（专利）号：201510329463.7
申请日：2015-06-15
复审请求人：合肥鑫晟光电科技有限公司 京东方科技集团股份有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：杨继爽
合议组组长：刘宇儒
参审员：范玉霞
国际分类号：G06F3/041
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求请求保护的技术方案相对于作为最接近现有技术的对比文件存在多个区别技术特征，但这些区别技术特征均属于本领域的常用技术手段，则该项权利要求请求保护的技术方案不具有突出的实质性特点，因而不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201510329463.7，名称为“一种触控基板及其制备方法、显示装置”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为合肥鑫晟光电科技有限公司、京东方科技集团股份有限公司，申请日为2015年06月15日，公开日为2015年08月26日。
经实质审查，国家知识产权局实质审查部门于2018年09月07日发出驳回决定，以本申请的权利要求1-14相对于对比文件1（CN104407758A，公开日为2015年03月11日）以及本领域常用技术手段的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由驳回了本申请，驳回的主要理由为：（1）权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征为：子电极为感应电极，连接线用于传递触控驱动信号或触控检测信号，连接线设置在第二绝缘层上的凹槽中，且凹槽的一端以过孔为起点延伸至触控基板的同一侧，凹槽在第一电极层的正投影位于感应电极之间。上述区别技术特征为本领域常用技术手段，因此权利要求1不具备创造性。（2）从属权利要求2-4的附加技术特征被对比文件1公开，从属权利要求5-10的附加技术特征为本领域常用技术手段，因此在其引用的权利要求不具备创造性的情况下，权利要求2-10不具备创造性。（3）权利要求11与对比文件1相比，区别技术特征为：电极为感应电极，绝缘层采用构图工艺形成，绝缘层还包括一端连接过孔另一端从触控基板同一侧引出的凹槽，凹槽用于设置连接线，还包括在凹槽内形成信号屏蔽层、在信号屏蔽层上形成粗糙表面以及在信号屏蔽层的粗糙表面上形成连接线，连接线用于传递触控驱动信号或触控检测信号。上述区别技术特征为本领域常用技术手段，因此权利要求11不具备创造性。（4）从属权利要求12-13的附加技术特征为本领域常用技术手段，因此在其引用的权利要求不具备创造性的情况下，权利要求12-13不具备创造性。（5）权利要求14请求保护一种包括如权利要求1-10任一所述的触控基板的显示装置，由于权利要求1-10不具备创造性，且权利要求14中限定的其他技术特征被对比文件1公开，因此权利要求14不具备创造性。
驳回决定所依据的文本为：2018年05月07日提交的权利要求第1-14项；申请日2015年06月15日提交的说明书第1-8页、说明书附图第1-3页、说明书摘要、摘要附图。
驳回决定所针对的权利要求书内容如下：
“1. 一种触控基板，其特征在于，包括触控区域，所述触控区域包括设置在衬底上的第一电极层和第二电极层，以及位于所述第一电极层的远离所述第二电极层的一侧的第二绝缘层，所述第一电极层包括沿行、列排布的多个感应电极和第一连接部；
所述第二电极层包括第二连接部；
同一行相邻所述感应电极通过第一连接部连接；
同一列相邻所述感应电极通过第二连接部连接；
所述第一连接部和所述第二连接部绝缘交叉；
所述第一电极层的远离所述第二电极层的一侧设有连接线，所述连接线通过位于第二绝缘层上与所述感应电极位置相对应的过孔与所述感应电极连接，并且，所述第二绝缘层上设有凹槽，用于设置所述连接线，且所述凹槽的一端以所述过孔为起点延伸至所述触控基板的同一侧，所述凹槽在第一电极层的正投影位于所述感应电极之间；所述连接线用于传递触控驱动信号或触控检测信号；所述连接线在所述触控基板的同一侧引出。
2. 如权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述连接线在所述第一电极层的正投影位于所述触控区域内。
3. 如权利要求2所述的触控基板，其特征在于，所述连接线在所述第一电极层的正投影位于相邻的感应电极之间。
4. 如权利要求1所述的触控基板，其特征在于，每行所述感应电极通过一根连接线引出；每列所述感应电极通过一根连接线引出。
5. 如权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述连接线是采用透明导电材料制备的。
6. 如权利要求5所述的触控基板，其特征在于，所述的透明导电材料包括纳米银材料。
7. 如权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述凹槽的底面上设有信号屏蔽层。
8. 如权利要求7所述的触控基板，其特征在于，所述信号屏蔽层具有粗糙的表面。
9. 如权利要求8所述的触控基板，其特征在于，所述信号屏蔽层的表面具有沟槽或突起。
10. 如权利要求7所述的触控基板，其特征在于，所述连接线设置于所述信号屏蔽层上。
11. 一种触控基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
在形成感应电极的衬底上通过构图工艺形成第二绝缘层，其中，第二绝缘层包括暴露出所述感应电极的过孔，以及一端连接过孔另一端从所述触控基板同一侧引出的凹槽，所述凹槽在第一电极层的正投影位于所述感应电极之间；
在所述凹槽内形成信号屏蔽层；
在所述信号屏蔽层上形成粗糙表面；
在所述信号屏蔽层的粗糙表面上形成连接线，所述连接线用于传递触控驱动信号或触控检测信号；所述凹槽用于设置所述连接线。
12. 如权利要求11所述的触控基板的制备方法，其特征在于，
所述的信号屏蔽层的制备方法包括网版印刷；
所述的信号屏蔽层上的粗糙表面的制备方法包括摩擦法；
所述连接线的制备方法包括网版印刷。
13. 如权利要求11所述的触控基板的制备方法，其特征在于，
所述的在形成感应电极的衬底上通过构图工艺形成第二绝缘层包括控制过孔和凹槽部位的曝光量，使与过孔位置对应的第二绝缘层刻穿，而与凹槽位置对应的第二绝缘层部分刻蚀。
14. 一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-10任一所述的触控基板。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年12月06日向国家知识产权局提出了复审请求，未对申请文件进行修改。复审请求人认为：权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征为：“在第二绝缘层上设置凹槽，用于设置连接线，且凹槽的一端以所述过孔为起点延伸至触控基板的同一层，凹槽在第一电极层的正投影位于感应电极之间”。设置凹槽便于通过网版印刷形成连接线；凹槽位于第一电极层的正投影位于感应电极之间，可以在凹槽设置连接线时，减少连接线内的驱动信号或感测信号对触控检测造成的影响；虽然对比文件1所表现的现有技术中，本领域技术人员能够想到将连接线设置于凹槽中，而凹槽的结构和设置方式也未公开，也不是本领域技术人员容易想到的。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年12月26日依法受理了该复审请求，并将其转送至实质审查部门进行前置审查。
实质审查部门在前置审查意见书中认为：为便于设置连接线，在第二绝缘层上设有凹槽用于设置连接线并将凹槽的一端以过孔为起点延伸至触控基板的同一侧属于本领域常用技术手段，复审请求意见也已经指出当面对减少连接线内的驱动信号或检测信号对触控检测造成的影响的技术问题时，本领域技术人员知道设有凹槽；此时，为进一步减少连接线内的驱动信号或检测信号对触控检测造成的影响，在对比文件1已经公开了“第一走线在电容式触控面板上的正投影在第一子电极和第二子电极在电容式触控面板上的正投影之间的间隙中延伸”的基础上，设置凹槽在第一电极层的正投影位于感应电极之间是本领域技术人员可以想到的，不需要付出创造性的劳动。权利要求1-14不具备创造性，因而坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年05月28日向复审请求人发出复审通知书，复审通知书中指出：（1）权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征为：1）本申请与对比文件1中第二绝缘层以及连接线的位置不同，本申请中第二绝缘层、连接线位于所述第一电极层远离第二电极层的一侧，对比文件1中的第二绝缘层、连接线位于第二电极层远离第一电极层的一侧；2）第二绝缘层上设有凹槽，用于设置所述连接线，且所述凹槽的一端以所述过孔为起点延伸至所述触控基板的同一侧，所述凹槽在第一电极层的正投影位于所述感应电极之间。上述区别技术特征1）、2）为本领域常用技术手段，因此权利要求1不具备创造性。（2）从属权利要求2-4的附加技术特征被对比文件1公开，从属权利要求5-10的附加技术特征为本领域常用技术手段，因此在其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求2-10不具备创造性。（3）权利要求11与对比文件1相比，区别技术特征为：绝缘层采用构图工艺形成，绝缘层还包括一端连接过孔、另一端从触控基板同一侧引出的凹槽，凹槽用于设置连接线，还包括在凹槽内形成信号屏蔽层、在信号屏蔽层上形成粗糙表面以及在信号屏蔽层的粗糙表面上形成连接线。上述区别技术特征为本领域常用技术手段，因此权利要求11不具备创造性。（4）从属权利要求12-13的附加技术特征为本领域常用技术手段，因此在其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求12-13不具备创造性。（5）权利要求14请求保护一种包括如权利要求1-10任一所述的触控基板的显示装置，由于权利要求1-10不具备创造性，且权利要求14中限定的其他技术特征被对比文件1公开，因此权利要求14不具备创造性。（6）针对复审请求意见，合议组认为：在触摸面板制造领域中，为便于网版印刷各种连接线，采用先设置凹槽结构再进行定位印刷连接线的方式是本领域的常规工艺。因此，对比文件1公开了在第二绝缘层上设置连接线且连接线在电容式触控面板上的正投影在所述第一子电极和第二子电极在所述触控面板上的正投影之间的间隙中延伸，并延伸至绑定区域。为便于网版印刷连接线，在第二绝缘层上采用凹槽结构用于印刷并容纳连接线是本领域的常规手段。由于采用凹槽的前提是便于制作连接线，那么凹槽的位置必须要以连接线为基础，连接线的宽度、起点、终点确定了凹槽的宽度、起点、及终点。具体而言，由于连接线通过过孔连接感应电极并延伸至触控基板绑定区域一侧，那么凹槽也会以该过孔为起点并延伸至触控基板的同一侧；同时对比文件1已经公开了“连接线在触控基板的正投影位于子电极的间隙之间，以便减弱连接线的信号对感应电极信号的影响”，因此当需要设置凹槽以容纳连接线时，本领域技术人员容易想到将凹槽的宽度也应设置于子电极的间隙间，即凹槽在第一电极层的正投影位于感应电极之间，由此可以减弱凹槽内的连接线的信号对感应电极信号的影响。综上所述，为了便于连接线的印制而应用的凹槽，将其位置设置于适应连接线的位置也是本领域的常规手段，即将凹槽以过孔为起点并延伸至触控基板的同一侧并且凹槽在第一电极层的正投影位于感应电极之间。
复审请求人于2019年07月03日提交了意见陈述书和权利要求书的全文修改替换页（共包括权利要求第1-12项），具体修改为：将从属权利要求7、8的附加技术特征加入到权利要求1中，删除权利要求7、8，并适应性地调整权利要求的编号和引用关系，形成新的权利要求1-12。复审请求人认为：本申请与对比文件1相比，区别技术特征为：1）所述第二绝缘层上设有凹槽，用于设置所述连接线，且所述凹槽的一端以所述过孔为起点延伸至所述触控基板的同一侧，所述凹槽在第一电极层的正投影位于所述感应电极之间；2）所述凹槽的底面上设有信号屏蔽层，且所述信号屏蔽层具有粗糙的表面。区别技术特征1）所要解决的技术问题是减少连接线内的驱动信号或感测信号对触控检测造成的影响。现有技术未关注到该技术问题，即使想到将连接线设置于第二绝缘层的凹槽中，也只能采用现有的常规结构的凹槽，且将凹槽设置于常规位置上。本申请凹槽的结构和设置位置并非本领域常规选择；区别技术特征2）所解决的问题是在屏蔽信号的同时利用光的散射起到消影的作用，对比文件1代表的现有技术并未关注到该技术问题。因此，修改后的权利要求具备创造性。
复审请求人在答复复审通知书时新修改的权利要求1的内容如下：
“1. 一种触控基板，其特征在于，包括触控区域，所述触控区域包括设置在衬底上的第一电极层和第二电极层，以及位于所述第一电极层的远离所述第二电极层的一侧的第二绝缘层,所述第一电极层包括沿行、列排布的多个感应电极和第一连接部；
所述第二电极层包括第二连接部；
同一行相邻所述感应电极通过第一连接部连接；
同一列相邻所述感应电极通过第二连接部连接；
所述第一连接部和所述第二连接部绝缘交叉；
所述第一电极层的远离所述第二电极层的一侧设有连接线，所述连接线通过位于第二绝缘层上与所述感应电极位置相对应的过孔与所述感应电极连接，并且，所述第二绝缘层上设有凹槽，用于设置所述连接线，且所述凹槽的一端以所述过孔为起点延伸至所述触控基板的同一侧，所述凹槽在第一电极层的正投影位于所述感应电极之间；所述凹槽的底面上设有信号屏蔽层，且所述信号屏蔽层具有粗糙的表面；所述连接线用于传递触控驱动信号或触控检测信号；所述连接线在所述触控基板的同一侧引出。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以依法作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人在答复复审通知书时提交了权利要求书的全文修改替换页，经审查，所作修改符合专利法实施细则第61条第1款和专利法第33条的规定。本复审请求审查决定所针对的文本是：2019年07月03日提交的权利要求第1-12项；申请日2015年06月15日提交的说明书第1-8页、说明书附图第1-3页、说明书摘要、摘要附图。
2、专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案相对于作为最接近现有技术的对比文件存在多个区别技术特征，但这些区别技术特征均属于本领域的常用技术手段，则该项权利要求请求保护的技术方案不具有突出的实质性特点，因而不具备创造性。
本复审请求审查决定引用的对比文件与驳回决定和复审通知书中引用的对比文件相同，即：
对比文件1：CN104407758A，公开日：2015年03月11日。
2.1 权利要求1请求保护一种触控基板，对比文件1公开了一种电容式触控面板，并具体公开了如下特征（参见说明书第[0039]-[0055]段，说明书附图2）：所述电容式触控面板（相当于触控基板）包括在基板的触控区域制作的触控结构（相当于触控区域），该触控结构包括位于同一层的多条横向电极和多条纵向电极（相当于第一电极层），横向电极和纵向电极是通过对同一ITO层进行刻蚀形成的条状结构，每个条状结构包括多个菱形图案作为子电极（相当于第一电极层包括沿行、列排布的多个感应电极）。每条横向电极的多个横向子电极沿横向保持连接（横向子电极之间的连接部相当于第一连接部；每条横向电极的多个横向子电极保持连接相当于同一行相邻感应电极通过第一连接部连接），每条纵向电极的多个纵向子电极沿纵向分段形成，在对应于横向电极和纵向电极交叉的位置处，在横向电极和纵向电极所在的层之上设有绝缘层，在绝缘层之上设有用于连接相邻的纵向子电极的桥接线（桥接线所在的层相当于第二电极层，桥接线相当于第二连接部；纵向子电极通过桥接线相连相当于同一列相邻感应电极通过第二连接部连接；横向电极的连接部和纵向电极的桥接线通过绝缘层交叉绝缘相当于第一连接部和所述第二连接部绝缘交叉）；第一走线（相当于连接线）连接第一电极，第二走线连接第二电极；第一走线在电容式触控面板上的正投影在第一子电极和第二子电极在电容式触控面板上的正投影之间的间隙中延伸，并延伸至绑定区域，第二走线从第二电极的端部直接引出至绑定区域，该绑定区域位于边框区域中，第一走线和第二走线被引出至同一边框区域（相当于连接线在触控基板的同一侧引出）。还包括第二绝缘层，桥接线和第一走线在交叉位置的部分沿垂直于电容式触控面板的方向分别位于第二绝缘层的两侧，设置在最上层的第一走线或桥接线通过过孔与相应的子电极连接（相当于连接线通过位于第二绝缘层上与所述感应电极位置相对应的过孔与所述感应电极连接）。通过检测横向电极和纵向电极的交叉处形成的电容的变化量判断触控点的位置，每条横向电极和每条纵向电极至少与一条走线连接（相当于连接线用于传递触控驱动信号或触控检测信号）。
由此可见，权利要求1的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征为：（1）本申请与对比文件1中第二绝缘层以及连接线的位置不同，本申请中第二绝缘层、连接线位于所述第一电极层远离第二电极层的一侧，对比文件1中的第二绝缘层、连接线位于第二电极层远离第一电极层的一侧；（2）第二绝缘层上设有凹槽，用于设置所述连接线，且所述凹槽的一端以所述过孔为起点延伸至所述触控基板的同一侧，所述凹槽在第一电极层的正投影位于所述感应电极之间，所述凹槽的底面上设有信号屏蔽层，且所述信号屏蔽层具有粗糙的表面。基于上述区别技术特征可以确定，权利要求1实际要解决的技术问题是：（1）如何设置第二绝缘层以及连接线的位置；（2）如何便于网版印刷连接线以及减少连接线中信号对触控检测的影响。
针对上述区别技术特征（1），在对比文件1公开将第二绝缘层和连接线设置于第二电极层远离第一电极层一侧的基础上，将第二绝缘层和连接线设置于第一电极层远离第二电极层的一侧也是本领域技术人员容易想到的，都是本领域在考虑将连接线与电极层分层设置时的常规选择。
针对上述区别技术特征（2），为便于网版印刷各种连接线，采用先设置凹槽结构再进行定位印刷连接线的方式是本领域的常规工艺。因此，在对比文件1公开连接线设置于第二绝缘层上且连接线在电容式触控面板上的正投影在第一子电极和第二子电极在所述触控面板上的正投影之间的间隙中延伸并延伸至绑定区域的基础上，为便于网版印刷连接线，本领域技术人员容易想到在第二绝缘层上采用凹槽结构用于印刷并容纳连接线。由于采用凹槽的前提是便于制作连接线，那么凹槽的位置必须要以连接线为基础，连接线的宽度、起点、终点确定了凹槽的宽度、起点、及终点。具体而言，由于连接线通过过孔连接感应电极并延伸至触控基板绑定区域一侧，那么凹槽也会以该过孔为起点并延伸至触控基板的同一侧。同时由于连接线在触控基板的正投影位于子电极的间隙之间，那么凹槽的正投影也应设置于子电极的间隙间。另外，为进一步减少连接线中信号对触控检测的影响，在设置连接线的凹槽底部设置信号屏蔽层、并在信号屏蔽层上形成粗糙表面是本领域降低信号干扰、减少光的反射的常规技术手段。
因此，在对比文件1的基础上结合本领域常用技术手段得到本权利要求的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，权利要求1不具有突出的实质性特点，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.2 权利要求2-4直接或间接对权利要求1作了进一步限定，其附加技术特征被对比文件1公开（参见说明书第[0048]、[0050]、[0054]段，说明书附图2）：第一走线在电容式触控面板上的正投影在第一子电极和第二子电极在电容式触控面板上的正投影之间的间隙中延伸（相当于连接线在第一电极层的正投影位于触控区域内、位于相邻的感应电极之间）。图2示出了一条第一走线与一条第一电极连接的情形（相当于每行感应电极通过一根连接线引出）；每条第二走线连接一条第二电极（相当于每列感应电极通过一根连接线引出）。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求2-4也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.3 权利要求5、6直接或间接对权利要求1作了进一步限定，为增加触控面板的透光率以及降低连接线的方阻，采用包括纳米银材料的透明导电材料制备连接线属于本领域常用技术手段。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求5、6也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.4 权利要求7、8对权利要求1作了进一步限定，针对其附加技术特征，沟槽或突起是粗糙表面的常规实现方式。而将连接线设置于凹槽内屏蔽层之上以使得屏蔽层位于连接线与触控检测电路之间是本领域避免信号干扰的常规技术手段。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求7、8也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.5 权利要求9请求保护一种触控基板的制备方法，对比文件1公开了一种电容式触控面板，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第[0039]-[0055]段，说明书附图2）：电容式触控面板包括在基板的触控区域制作的触控结构，该触控结构包括位于同一层的多条横向电极和多条纵向电极，横向电极和纵向电极是通过对同一ITO层进行刻蚀形成的条状结构，每个条状结构包括多个菱形图案作为子电极。在包括子电极的基底上形成第二绝缘层（相当于在形成感应电极的衬底上形成第二绝缘层）和第一走线，桥接线和第一走线在交叉位置的部分沿垂直于电容式触控面板的方向分别位于第二绝缘层的两侧。设置在最上层的第一走线或桥接线通过过孔与相应的子电极连接（相当于第二绝缘层包括暴露出感应电极的过孔）。第一走线（相当于连接线）连接第一电极，第一走线在电容式触控面板上的正投影在第一子电极和第二子电极在电容式触控面板上的正投影之间的间隙中延伸，并延伸至绑定区域。通过检测横向电极和纵向电极的交叉处形成的电容的变化量判断触控点的位置，每条横向电极和每条纵向电极至少与一条走线连接（相当于连接线用于传递触控驱动信号或触控检测信号）。
由此可见，权利要求9的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别技术特征为：绝缘层采用构图工艺形成，绝缘层还包括一端连接过孔、另一端从触控基板同一侧引出的凹槽，凹槽用于设置连接线，还包括在凹槽内形成信号屏蔽层、在信号屏蔽层上形成粗糙表面以及在信号屏蔽层的粗糙表面上形成连接线。基于上述区别技术特征可以确定，权利要求9实际要解决的技术问题是：如何便于网版印刷连接线以及减少连接线中信号对触控检测的影响。
针对上述区别技术特征，为便于网版印刷各种连接线，采用先设置凹槽结构再进行定位印刷连接线的方式是本领域的常规工艺。因此，在对比文件1公开连接线设置于第二绝缘层上且连接线在电容式触控面板上的正投影在第一子电极和第二子电极在所述触控面板上的正投影之间的间隙中延伸并延伸至绑定区域的基础上，为便于网版印刷连接线，在第二绝缘层上采用凹槽结构用于印刷并容纳连接线是本领域常规工艺。由于采用凹槽的前提是便于制作连接线，那么凹槽的位置必须要以连接线为基础，连接线的宽度、起点、终点确定了凹槽的宽度、起点、及终点。具体而言，由于连接线通过过孔连接感应电极并延伸至触控基板绑定区域一侧，那么凹槽也会以该过孔为起点并延伸至触控基板的同一侧。同时由于连接线在触控基板的正投影位于子电极的间隙之间，那么凹槽的正投影也应设置于子电极的间隙间。故上述区别中“绝缘层还包括一端连接过孔、另一端从触控基板同一侧引出的凹槽，凹槽用于设置连接线”是本领域常用技术手段。同时，构图工艺是触摸屏领域中导电结构的常规制造工艺；另外，为进一步减少连接线中信号对触控检测的影响，在设置连接线的凹槽底部设置信号屏蔽层、并在信号屏蔽层上形成粗糙表面是本领域降低信号干扰、减少光的反射的常规技术手段。
因此，在对比文件1的基础上结合本领域常用技术手段得到本权利要求的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，权利要求9不具有突出的实质性特点，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.6权利要求10对权利要求9作了进一步限定，采用网版印刷制备屏蔽层和连接线、采用摩擦法制备粗糙表面均属于本领域常用技术手段。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求10也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.7权利要求11对权利要求10作了进一步限定，针对其附加技术特征，在对比文件1公开连接线通过绝缘层上的过孔与子电极连接的基础上，为便于连接线的网版印刷而在第二绝缘层上为适应连接线而形成凹槽时，通过构图工艺控制第二绝缘层上过孔与凹槽位置的曝光量而达到连接线可设置于凹槽中并通过过孔与子电极相连是本领域常规的制备工艺。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求11也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.8 权利要求12请求保护一种显示装置，其包括如权利要求1-10任一所述的触控基板。对此，对比文件1公开了以下特征（参见说明书第[0061]段）：一种显示装置，包括电容式触控面板。结合权利要求1-10的前述评述意见，该权利要求也不具备专利法第22条第3款的创造性。
3、对复审请求人相关意见的评述
对于复审请求人在答复复审通知书时的意见，合议组认为：
首先，对比文件1公开了在第二绝缘层上设置连接线且连接线在电容式触控面板上的正投影在所述第一子电极和第二子电极在所述触控面板上的正投影之间的间隙中延伸，并延伸至绑定区域。而在触摸面板制造领域中，为便于网版印刷各种连接线，采用先设置凹槽结构再进行定位印刷连接线的方式是本领域的常规工艺。因此，为便于网版印刷连接线，在第二绝缘层上采用凹槽结构用于印刷并容纳连接线是本领域技术人员容易想到的常规手段。由于采用凹槽的前提是便于制作连接线，那么凹槽的位置必须要以连接线为基础，连接线的宽度、起点、终点确定了凹槽的宽度、起点、及终点。具体而言，由于连接线通过过孔连接感应电极并延伸至触控基板绑定区域一侧，那么凹槽也会以该过孔为起点并延伸至触控基板的同一侧；同时对比文件1已经公开了“连接线在触控基板的正投影位于子电极的间隙之间，以便减弱连接线的信号对感应电极信号的影响”，因此当需要设置凹槽以容纳连接线时，本领域技术人员容易想到将凹槽的宽度也应设置于子电极的间隙间，即凹槽在第一电极层的正投影位于感应电极之间，由此可以减弱凹槽内的连接线的信号对感应电极信号的影响。综上所述，为了便于连接线的印制而应用的凹槽，将其位置设置于适应连接线的位置也是本领域的常规手段，即将凹槽以过孔为起点并延伸至触控基板的同一侧并且凹槽在第一电极层的正投影位于感应电极之间。其次，避免信号间的相互干扰以实现高精度的检测效果是触控领域中的普遍需求，而设置屏蔽结构以隔离相互干扰的信号是本领域的常规技术手段。因此为进一步减少设置于凹槽的连接线中信号对触控检测的影响，在设置连接线的凹槽底部设置信号屏蔽层以隔绝连接线信号与触控检测信号是本领域技术人员容易想到并实现的。同时，粗糙表面对光的散射可以实现消影的作用是本领域的公知常识，故为减少凹槽内信号屏蔽层对光的反射，在信号屏蔽层表面形成粗糙表面以实现光的消影是本领域的常规手段。
因此，复审请求人的意见不具备说服力，合议组不予支持。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年09月07日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本复审请求审查决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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