发明创造名称：附载体铜箔、附载体铜箔的制造方法、印刷配线板用附载体铜箔及印刷配线板
外观设计名称：
决定号：195312
决定日：2019-10-28
委内编号：1F272107
优先权日：2012-03-26
申请（专利）号：201610090046.6
申请日：2013-03-26
复审请求人：JX日矿日石金属株式会社
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：卢鹏
合议组组长：刘晓华
参审员：白秀梅
国际分类号：H05K1/09,H05K3/02,H05K3/38,B32B3/30
外观设计分类号：
法律依据：专利法第33条
决定要点
：如果修改的内容没有记载在原说明书和权利要求书中，也不能由原说明书和权利要求书文字记载的内容以及说明书附图直接地、毫无疑义地确定，则该修改超范围。
全文：
本复审请求审查决定涉及申请号为201610090046.6，名称为“附载体铜箔、附载体铜箔的制造方法、印刷配线板用附载体铜箔及印刷配线板”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为JX日矿日石金属株式会社。本申请的申请日为2013年03月26日，优先权日为2012年03月26日，公开日为2016年06月15日。
本申请是申请号为：201380017079.2的发明专利申请的分案申请，因此，在本次复审请求审查决定中所涉及的“原说明书和权利要求书”是指申请号为：201380017079.2的发明专利申请的原说明书和权利要求书。
经实质审查，国家知识产权局实质审查部门于2018年10月16日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-4不符合专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所针对的文本为：分案提交日2016年02月17日提交的说明书第1-428段（即第1-35页），说明书附图第1页，说明书摘要以及摘要附图；2018年07月11日提交的权利要求第1-4项。
驳回决定所针对的权利要求书的内容如下：
“1. 一种附载体铜箔的制造方法，用于制造依序积层有载体、中间层、极薄铜层的附载体铜箔，其特征在于：该附载体铜箔于该极薄铜层表面具有粗化处理层，使用含有选自硫酸烷基酯盐、钨、砷中的物质的至少一种以上且由硫酸－硫酸铜构成的电解浴，形成该粗化处理层；将形成该粗化处理层的粗化粒子时的对极限电流密度比设为2.50～4.80。
2. 如权利要求1所述的附载体铜箔的制造方法，其中，于该粗化处理层上形成含有选自锌、镍、铜、磷、钴中的至少一种以上的元素的耐热－防锈层，继而于该耐热－防锈层上形成铬酸盐皮膜层，并进一步于该铬酸盐皮膜层上形成硅烷偶合剂层。
3. 如权利要求1所述的附载体铜箔的制造方法，其中，于该粗化处理层上形成一层以上选自由耐热－防锈层、铬酸盐皮膜层及硅烷偶合剂层组成的群中的层，该耐热－防锈层含有选自锌、镍、铜、磷、钴中的至少一种以上的元素。
4. 如权利要求1所述的附载体铜箔的制造方法，其中，于该粗化处理层上形成含有选自锌、镍、铜、磷、钴中的至少一种以上的元素的耐热－防锈层，继而于该耐热－防锈层上形成铬酸盐皮膜层。”
驳回决定中引用的对比文件是：
对比文件1：US2007/0154692A1，公开日：2007年07月05日；
对比文件2：CN102362559A，公开日：2012年02月22日。
驳回决定主要指出：（1）权利要求1与对比文件1的区别技术特征是：该附载体铜箔于该极薄铜层表面具有粗化处理层，使用含有选自硫酸烷基酯盐、钨、砷中的物质的至少一种以上且由硫酸－硫酸铜构成的电解浴，形成该粗化处理层；将形成该粗化处理层的粗化粒子时的对极限电流密度比设为2.50～4.80。区别特征的一部分被对比文件2公开，区别特征中的另外部分属于本领域的常规设置，即形成该粗化处理层的粗化粒子时的对极限电流密度比是本领域技术人员根据实际工艺调整的，并不需要付出创造性的劳动。在对比文件1的基础上结合对比文件2和本领域的常规设置而获得权利要求1请求保护的技术方案，对于本领域技术人员而言是显而易见的。权利要求1不具备创造性；（2）权利要求2-4的附加特征或者被对比文件2公开、或者属于本领域的公知常识。因此，权利要求2-4不符合专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年01月24日向国家知识产权局提出了复审请求，提交了参考文件，但未修改申请文件。复审请求人认为：（1）对比文件1及2中都未揭示或暗示有关对极限电流密度比。（2）通常的合适的“对极限电流密度比”是指1.0以下的范围。因此，通常的情况下，即便调节合适的电流密度，对极限电流密度比也为1.0以下。本领域技术人员通常不会考虑设为“会导致落粉即比1.0大的对极限电流密度比”。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年01月30日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为，（1）首先，申请人提供的文献表明，对极限电流密度比大于1时，容易镀覆出颗粒，而本申请正是要在极薄铜层表面镀覆颗粒以粗化极薄铜层表面，因此，不难想到将对极限电流密度设置于大于1的范围。（2）对比文件2公开了与本发明一致的技术构思：“为了防止落粉并提高剥离强度，期望包含针状的微细的铜粗糙粒子的粗糙化处理层用包含硫酸/硫酸铜的电解浴进行包覆式镀敷。”并且本申请说明书中具体记载的镀覆粗化粒子的工艺条件与对比文件2说明书第0058-0085段中记载的镀覆粗化粒子的工艺条件相同，电流密度均为：25～110A/dm2。在此基础上，本领域技术人员不难想到通过调节合适的电流密度，也即调节合适的“对极限电流密度比”。因而坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年04月28日向复审请求人发出复审通知书，该次复审通知书针对的文本与驳回决定针对的文本相同，即：分案提交日2016年02月17日提交的说明书第1-35页，说明书附图第1页，说明书摘要以及摘要附图；2018年07月11日提交的权利要求第1-4项。该次复审通知书引用的对比文件与驳回决定引用的对比文件相同，即对比文件1和对比文件2。复审通知书中指出：（1）权利要求1限定了：“将形成该粗化处理层的粗化粒子时的对极限电流密度比设为2.50～4.80”，而原权利要求书和说明书仅记载了粗化粒子形成时的对极限电流密度比设为2.50、3.10、3.20、3.50、4.30和4.80这6个数值点的情况，而并没有关于对极限电流密度比的相关数值范围的记载，因此根据原申请文件记载的内容并不能直接地、毫无疑义地得到该数值范围。因此，分案申请的权利要求1超出了原权利要求书和说明书的记载，修改不符合专利法第33条的规定。（2）如果复审请求人将权利要求1中的“将形成该粗化处理层的粗化粒子时的对极限电流密度比设为2.50～4.80”删除，以克服超范围缺陷，则这样修改后形成的权利要求1仍不具备创造性。在此基础上，对按照上述假设修改后的权利要求1-4进行了评述：权利要求1相对于对比文件1以及对比文件2的结合不具备创造性，从属权利要求2-4的附加特征或者被对比文件2公开，或者属于本领域的公知常识，因此权利要求1-4不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
复审请求人于2019年08月02日提交了复审无效宣告程序意见陈述书，但未修改申请文件。复审请求人认为：“对极限电流密度比2.50-4.80”的技术方案并不属于超出原说明书记载的增加，本领域技术人员能够根据原申请文件的内容直接且毫无疑义地得到该数值范围，故本申请权利要求书并没有合议组所认定的“修改后的本申请权利要求超出原申请资料的范围”的问题，符合专利法第33条的规定。并且，本申请权利要求1具备创造性，故其从属权利要求2-4也具备创造性。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
复审请求人在复审程序中未修改申请文件。本复审请求审查决定所针对的审查文本为：分案提交日2016年02月17日提交的说明书第1-35页，说明书附图第1页，说明书摘要以及摘要附图；2018年07月11日提交的权利要求第1-4项。
（二）具体理由的阐述
1、关于专利法第33条
专利法第33条规定：申请人可以对其专利申请文件进行修改，但是，对发明和实用新型专利申请文件的修改不得超出原说明书和权利要求书记载的范围，对外观设计专利申请文件的修改不得超出原图片或者照片表示的范围。
权利要求1限定了：“将形成该粗化处理层的粗化粒子时的对极限电流密度比设为2.50～4.80”，即目前权利要求1中限定了“对极限电流密度比”的数值范围是：2.50～4.80。然而，原说明书第19页第9行-第26页第25行中的实施例中仅记载了：“粗化粒子形成时的对极限电流密度比设为2.50”，“粗化粒子形成时的对极限电流密度比设为3.10”，“粗化粒子形成时的对极限电流密度比设为4.30”，“粗化粒子形成时的对极限电流密度比设为3.50”，“粗化粒子形成时的对极限电流密度比设为4.80”，“粗化粒子形成时的对极限电流密度比设为3.20”。即原权利要求书和说明书仅记载了粗化粒子形成时的对极限电流密度比设为2.50、3.10、3.20、3.50、4.30和4.80这6个数值点的情况，而并没有关于对极限电流密度比的相关数值范围的记载，因此根据原申请文件记载的内容并不能直接地、毫无疑义地得到该数值范围。
因此，修改后的权利要求1的技术方案在原始说明书和权利要求书中没有文字记载，也无法从原说明书和权利要求书文字记载的内容以及说明书附图直接地、毫无疑义地得出。权利要求1的修改不符合专利法第33条的规定。
2、针对复审请求人的意见陈述
合议组认为：（1）原权利要求书和说明书并未记载包括特征“将形成该粗化处理层的粗化粒子时的对极限电流密度比设为2.50～4.80”的修改后的权利要求1的技术方案。（2）也无法从原说明书和权利要求书文字记载的内容以及说明书附图直接地、毫无疑义地得出上述修改后的权利要求1的技术方案。理由如下：原权利要求书和说明书并未记载“极限电流密度为与镀敷液的离子浓度成正比的参数”，因此不能根据原说明书所记载的各实施例的Cu浓度及Cu浓度值（10-30g/L）而加以变化极限电流密度，进而也不能得到对极限电流密度比的相应数值范围。
因此，复审请求人的理由不成立，合议组不予接受。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年10月16日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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