一种触摸屏及其制备方法-复审决定


发明创造名称:一种触摸屏及其制备方法
外观设计名称:
决定号:193529
决定日:2019-10-28
委内编号:1F268585
优先权日:2014-12-08
申请(专利)号:201510082968.8
申请日:2015-02-16
复审请求人:芜湖伦丰电子科技有限公司
无效请求人:
授权公告日:
审定公告日:
专利权人:
主审员:王可
合议组组长:王效维
参审员:曲颖
国际分类号:G06F3/041
外观设计分类号:
法律依据:专利法第22条第3款
决定要点:如果一项权利要求要求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征,但是现有技术已经给出将上述区别技术特征应用到最接近的现有技术以解决其存在的技术问题的启示,那么该权利要求所要求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的,不具备创造性。
全文:
本复审请求涉及申请号为201510082968.8,名称为“一种触摸屏及其制备方法”的发明专利申请(下称本申请)。申请人为芜湖伦丰电子科技有限公司。本申请的申请日为2015年02月16日,优先权日为2014年12月08日,公开日为2016年10月05日。
经实质审查,国家知识产权局原审查部门于2018年10月26日发出驳回决定,驳回了本申请,其理由是:权利要求1-11不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为原始申请文本。驳回决定所针对的权利要求书如下:
“1. 一种触摸屏,包括基片,所述基片包括显示区和边框区,其特征在于,所述基片显示区正反面均贴附有透光导电层,所述基片边框区正反面均贴附有金属电极引线,所述金属电极引线的一端与所述基片同一侧的导电层电连接。
2. 根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述金属电极引线为感光银浆电极引线。
3. 根据权利要求1 所述的触摸屏,其特征在于,所述的基片为PET或PDMS或环状烯烃聚合物基片。
4. 根据权利要求3所述的触摸屏,其特征在于,所述导电层为ITO导电层、石墨烯导电层或纳米银线导电层。
5. 根据权利要求4所述的触摸屏,其特征在于,所述ITO导电层由多个ITO导电条组成,每个ITO导电条均电连接一根所述感光银浆电极引线,各ITO导电条之间以及各感光银浆电极引线之间相互绝缘。
6. 根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述感光银浆电极引线的宽度为20至70微米,所述相邻两个感光银浆电极引线之间的间距为20至70微米。
7. 一种触摸屏的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)提供基片,并在基片的正反面均贴附导电层,该基片包括显示区和边框区;
2)在基片正反面的导电层上分别覆盖光阻干膜;
3)对基片正反面的光阻干膜有选择的曝光,形成曝光部分和非曝光部分,所述曝光部分或非曝光部分形成基片显示区域的导电层图案;
4)通过显影处理去除导电层图案以外的光阻干膜,保留与导电层图案相对应的光阻干膜部分;
5)通过蚀刻去除步骤4)保留的光阻干膜以外部分的导电层的导电材料并退去所保留的光阻干膜以便在基片上形成显示区和边框区,所述导电层图案处于显示区内;
6)分别在基片边框区的正反面印刷感光银浆;
7)对感光银浆有选择的曝光以便得到有特定形状的银浆图案,并通过显影处理得到感光银浆电极引线,所述感光银浆电极引线的一端与步骤5)所述导电条电连接;
所述步骤2)到步骤7)在黄光条件下进行。
8. 根据权利要求7所述触摸屏的制备方法,其特征在于,所述光阻干膜为负光阻干膜,步骤2)在80至110℃的条件下通过热压完成光阻干膜的覆盖。
9. 根据权利要求7所述触摸屏的制备方法,其特征在于,步骤4)显影处理时需对基片正反面同时喷淋弱碱溶液,步骤5)蚀刻时首先对基片正反面同时喷淋强酸溶液,然后喷淋强碱溶液。
10. 根据权利要求9所述触摸屏的制备方法,其特征在于,所述强酸为王水、硝酸或草酸,所述强碱为氢氧化钠、氢氧化钾溶液或质量浓度为1%到6%的乙二胺。
11. 根据权利要求7所述触摸屏的制备方法,其特征在于,所述感光银浆曝光前还包括预烘烤步骤,所述预烘烤条件为:70至100℃的温度下预烘烤3至15分钟,所述曝光能量为100mJ 到400mJ。”
申请人(下称复审请求人)对上述驳回决定不服,于2018年12月14日向国家知识产权局提出了复审请求,同时修改了权利要求书。复审请求人于2019年01月24日再次提交了修改文本和意见陈述书,并表示,提出复审请求时所提交的修改文本有误,应当以本次提交的权利要求书作为审查文本,并认为:修改后的权利要求1-11相对于对比文件1和对比文件2的结合具有创造性。2019年01月24日新修改的权利要求书如下:
“1. 一种触摸屏,包括基片,所述基片包括显示区和边框区,其特征在于,所述基片显示区正反面均贴附有透光导电层,所述基片边框区正反面均贴附有金属电极引线,所述金属电极引线的一端与所述基片同一侧的导电层电连接;
基片显示区的正反面分别贴附有多个上导电条和下导电条,基片1的上导电条与下导电条为交叉设布局。
2. 根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述金属电极引线为感光银浆电极引线。
3. 根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述的基片为PET或PDMS或环状烯烃聚合物基片。
4. 根据权利要求3所述的触摸屏,其特征在于,所述导电层为ITO导电层、石墨烯导电层或纳米银线导电层。
5. 根据权利要求4所述的触摸屏,其特征在于,所述ITO导电层由多个ITO导电条组成,每个ITO导电条均电连接一根所述感光银浆电极引线,各ITO导电条之间以及各感光银浆电极引线之间相互绝缘。
6. 根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述感光银浆电极引线的宽度为20至70微米,所述相邻两个感光银浆电极引线之间的间距为20至70微米。
7. 一种触摸屏的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)提供基片,并在基片的正反面贴附导电层,该基片包括显示区和边框区;
2)在基片的正反面导电层上分别覆盖光阻干膜:所述基片的正反面导电层分别包括上导电层和下导电层,在基片正反面的上导电层和下导电层上分别覆盖上光阻干膜和下光阻干膜;
3)对基片正反面的光阻干膜有选择的曝光,形成曝光部分和非曝光部分,所述曝光部分或非曝光部分形成基片显示区域的导电层图案,所述曝光能量控制在20mJ至200mJ之间;分别对基片上的上光阻干膜和下光阻干膜通过用不同图案的菲林片同时或分别有选择的曝光,所述上光阻干膜和下光阻干膜曝光部分所形成的图案交叉分布;
4)通过显影处理去除导电层图案以外的光阻干膜,保留与导电层 图案相对应的光阻干膜部分;首先,通过显影处理去除导电层图案以外的光阻干膜,保留与导电层图案相对应的光阻干膜部分;其次,通过蚀刻去除保留的光阻干膜以外部分的导电层的导电材料并退去所保留的光阻干膜以便在基片上形成显示区和边框区,所述导电层图案处于显示区内;然后,分别在基片边框区的正反面印刷感光银浆;最后,对感光银浆有选择的曝光以便得到有特定形状的银浆图案,并通过显影处理得到感光银浆电极引线,所述感光银浆电极引线的一端与所述导电层连接;
5)通过蚀刻去除步骤4)保留的光阻干膜以外部分的导电层的导电材料并退去所保留的光阻干膜以便在基片上形成显示区和边框区,所述导电层图案处于显示区内;
6)分别在基片边框区的正反面印刷感光银浆;
7)对感光银浆有选择的曝光以便得到有特定形状的银浆图案,并通过显影处理得到感光银浆电极引线,所述感光银浆电极引线的一端与步骤5)所述导电条电连接;
所述步骤2)到步骤7)在黄光条件下进行;所述感光银浆由银颗粒和树脂组成,其中银颗粒的质量百分数为80~97%,余量为树脂,所述银颗粒的粒径为0.5~2微米,所述树脂为丙烯酸树脂或环氧树脂。
8. 根据权利要求1所述触摸屏的制备方法,其特征在于,所述光阻干膜为负光阻干膜,步骤2)在80至110℃的条件下通过热压完成光阻干膜的覆盖。
9. 根据权利要求1所述触摸屏的制备方法,其特征在于,步骤4)显影处理时需对基片正反面同时喷淋弱碱溶液,步骤4)蚀刻时首先对基片正反面同时喷淋强酸溶液,然后喷淋强碱溶液。
10. 根据权利要求5所述触摸屏的制备方法,其特征在于,所述强酸为王水、硝酸或草酸,所述强碱为氢氧化钠、氢氧化钾溶液或质量浓度为1%到6%的乙二胺。
11. 根据权利要求1所述触摸屏的制备方法,其特征在于,所述感光银浆曝光前还包括预烘烤步骤,所述预烘烤条件为:70至100℃的温度下预烘烤3至15分钟,所述曝光能量为100mJ到400mJ。”
经形式审查合格,国家知识产权局于2018年12月19日依法受理了该复审请求,并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门坚持原驳回决定。
随后,国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019 年07月04日向复审请求人发出复审通知书,指出:复审请求人2019年01月24日提交的权利要求1-11相对于对比文件1和对比文件2的结合依然不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
复审请求人于2019年07 月19日提交了意见陈述书及修改后的权利要求1-11,认为权利要求1-11具备创造性,其中将权利要求7中的触摸屏的制备步骤加入到权利要求1中。复审请求人提交的权利要求如下:
“1. 一种触摸屏,包括基片,所述基片包括显示区和边框区,其特征在于,所述基片显示区正反面均贴附有透光导电层,所述基片边框区正反面均贴附有金属电极引线,所述金属电极引线的一端与所述基片同一侧的导电层电连接;基片显示区的正反面分别贴附有多个上导电条和下导电条,基片的上导电条与下导电条为交叉设布局;
所述触摸屏采用下述工艺制备得到:
所述基片的正反面导电层分别包括上导电层和下导电层,在基片正反面的上导电层和下导电层上分别覆盖上光阻干膜和下光阻干膜;
分别对基片上的上光阻干膜和下光阻干膜通过用不同图案的菲林片同时或分别有选择的曝光,所述上光阻干膜和下光阻干膜曝光部分所形成的图案交叉分布;
通过显影处理去除导电层图案以外的光阻干膜,保留与导电层图案相对应的光阻干膜部分;通过蚀刻去除保留的光阻干膜以外部分的导电层的导电材料并退去所保留的光阻干膜以便在基片上形成显示区和边框区,所述导电层图案处于显示区内;
分别在基片边框区的正反面印刷感光银浆;
对感光银浆有选择的曝光以便得到有特定形状的银浆图案,并通过显影处理得到感光银浆电极引线,所述感光银浆电极引线的一端与蚀刻步骤中所述导电条电连接。
2. 根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述金属电极引线为感光银浆电极引线。
3. 根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述的基片为PET或PDMS或环状烯烃聚合物基片。
4. 根据权利要求3所述的触摸屏,其特征在于,所述导电层为ITO导电层、石墨烯导电层或纳米银线导电层。
5. 根据权利要求4所述的触摸屏,其特征在于,所述ITO导电层由多个ITO导电条组成,每个ITO导电条均电连接一根所述感光银浆电极引线,各ITO导电条之间以及各感光银浆电极引线之间相互绝缘。
6. 根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述感光银浆电 极引线的宽度为20至70微米,所述相邻两个感光银浆电极引线之间的间距为20至70微米。
7. 一种触摸屏的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)提供基片,并在基片的正反面贴附导电层,该基片包括显示区和边框区;
2)在基片的正反面导电层上分别覆盖光阻干膜:所述基片的正反面导电层分别包括上导电层和下导电层,在基片正反面的上导电层和下导电层上分别覆盖上光阻干膜和下光阻干膜;
3)对基片正反面的光阻干膜有选择的曝光,形成曝光部分和非曝光部分,所述曝光部分或非曝光部分形成基片显示区域的导电层图案,所述曝光能量控制在20mJ至200mJ之间;分别对基片上的上光阻干膜和下光阻干膜通过用不同图案的菲林片同时或分别有选择的曝光,所述上光阻干膜和下光阻干膜曝光部分所形成的图案交叉分布;
4)通过显影处理去除导电层图案以外的光阻干膜,保留与导电层图案相对应的光阻干膜部分;首先,通过显影处理去除导电层图案以外的光阻干膜,保留与导电层图案相对应的光阻干膜部分;其次,通过蚀刻去除保留的光阻干膜以外部分的导电层的导电材料并退去所保留的光阻干膜以便在基片上形成显示区和边框区,所述导电层图案处于显示区内;然后,分别在基片边框区的正反面印刷感光银浆;最后,对感光银浆有选择的曝光以便得到有特定形状的银浆图案,并通过显影处理得到感光银浆电极引线,所述感光银浆电极引线的一端与所述导电层连接;
5)通过蚀刻去除步骤4)保留的光阻干膜以外部分的导电层的导电材料并退去所保留的光阻干膜以便在基片上形成显示区和边框区,所述导电层图案处于显示区内;
6)分别在基片边框区的正反面印刷感光银浆;
7)对感光银浆有选择的曝光以便得到有特定形状的银浆图案,并通过显影处理得到感光银浆电极引线,所述感光银浆电极引线的一端与步骤5)所述导电条电连接;
所述步骤2)到步骤7)在黄光条件下进行;所述感光银浆由银 颗粒和树脂组成,其中银颗粒的质量百分数为80~97%,余量为树脂,所述银颗粒的粒径为0.5~2微米,所述树脂为丙烯酸树脂或环氧树脂。
8. 根据权利要求1所述触摸屏的制备方法,其特征在于,所述光阻干膜为负光阻干膜,步骤2)在80至110℃的条件下通过热压完成光阻干膜的覆盖。
9. 根据权利要求1所述触摸屏的制备方法,其特征在于,步骤4)显影处理时需对基片正反面同时喷淋弱碱溶液,步骤4)蚀刻时首先对基片正反面同时喷淋强酸溶液,然后喷淋强碱溶液。
10. 根据权利要求5所述触摸屏的制备方法,其特征在于,所述强酸为王水、硝酸或草酸,所述强碱为氢氧化钠、氢氧化钾溶液或质量浓度为1%到6%的乙二胺。
11. 根据权利要求1所述触摸屏的制备方法,其特征在于,所述感光银浆曝光前还包括预烘烤步骤,所述预烘烤条件为:70至100℃的温度下预烘烤3至15分钟,所述曝光能量为100mJ到400mJ。”
在上述程序的基础上,合议组认为本案事实已经清楚,可以作出审查决定。
二、决定的理由
1.审查文本的认定
复审请求人在答复复审通知书时修改了权利要求书,经审查,所述修改符合专利法第33条和专利法实施细则第61条第1款的规定,因此,本复审决定所依据的文本为:申请日2015年02月16日提交的说明书第0001段至第0037段、说明书附图1-9、说明书摘要、摘要附图以及2019年07月19日提交的权利要求1-11项。
2.关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定:“创造性,是指与现有技术相比,该发明具有突出的实质性特点和显著的进步,该实用新型具有实质性特点和进步。”
如果一项权利要求要求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征,但是现有技术已经给出将上述区别技术特征应用到最接近的现有技术以解决其存在的技术问题的启示,那么该权利要求所要求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的,不具备创造性。
本复审决定所引用的对比文件与驳回决定和复审通知书中所引用的对比文件相同,即:
对比文件1:CN101561729A,公开日为2009年10月21日;
对比文件2:CN103309510A,公开日为2013年09月18日。
(1)权利要求1不具备创造性
权利要求1请求保护一种触摸屏,对比文件1公开了触控电路的透明基板双面导电膜的制法,并具体公开了(参见说明书第4页第1段-第7页第1段,图1-12):触控电路的透明基板双面导电膜的制法,在一透明基板1a的第一表面溅镀形成一第一导电基材层,同时在透明基板1a的第二表面溅镀形成一第二导电基材层;该上导电基材层21a与该下导电基材层22a可由透明的导电材料制成(即基片,且基片正反面均贴附有透光导电层)。(1)在一透明基板1a的第一表面溅镀形成一第一导电基材层;同时在透明基板1a的第二表面溅镀形成一第二导电基材层(即提供基片,并在基片的正反面均设置导电层);
(2)在该上导电基材层21a表面附着一具有感光变色剂的第一光阻层31a(如图7所示),并在该下导电基材层22a表面附着一第二光阻层32a(即在基片正反面的导电层上分别覆盖光阻膜);
(3)使用一具有镂空电路图样41a的第一光罩4a(如图8所示),覆盖于第一光阻层31a上方,通过镂空电路图样41a对第一光阻层31a实施照射,以进行第一光阻层31a的曝光制程,使第一光阻层31a接受曝光区域形成具有可供识别颜色的电路图形311a。
(4)翻转该透明基板1a,让第二光阻层32a朝向上方(如图9所示);使用一具有镂空电路图样51a的第二光罩5a,覆盖于第二光阻层32a上方,通过该镂空电路图样51a对该第二光阻层32a实施照射,以进行该第二光阻层32a的曝光制程(即对基片正反面的光阻膜有选择的曝光,形成曝光部分和非曝光部分,所述曝光部分或非曝光部分形成基片的导电层图案)。
(5)在第一光阻层31a与第二光阻层32a表面附着显影剂,以同时对该透明基板1a双面进行显影程序,使第一光阻层31a与第二光阻层32a未接受曝光的区域受到显影剂溶解(如图10所示),使上导电基材层21a及下导电基材层22a各自裸露出一待接受蚀刻的区域(即通过显影处理去除导电层图案以外的光阻膜,保留与导电层图案相对应的光阻膜部分;)。
(6)将该透明基板1a浸泡于蚀刻用的蚀刻剂中,同时对透明基板1a双面进行蚀刻程序,使上导电基材层21a及下导电基材层22a裸露的区域受到蚀刻剂溶解(如图11所示),促使该上导电基材层21a形成一触控电路6a的第一导电膜,且下导电基材层22a形成触控电路6a的第二导电膜;(7)在该上层导电膜61a表面残余的第一光阻层31a与该下层导电膜62a表面残余的第二光阻层32a上涂洒去除光阻用的除光阻剂,同时除去该上层与下层导电膜61a、62a表面残余的第一及第二光阻层31a、32a,并完全裸露上层导电膜61a与下层导电膜62a(如图12所示)(即通过蚀刻去除步骤4)保留的光阻膜以外部分的导电层的导电材料并退去所保留的光阻膜)。
权利要求1与对比文件1的区别在于:触摸屏,基片包括显示区和边框区,透光导电层位于基片显示区,基片边框区正反面均贴附有金属电极引线,所述金属电极引线的一端与所述基片同一侧的导电层电连接,基片的上导电条与下导电条为交叉设布局;以及光阻膜为光阻干膜;上下光阻干膜曝光部分所形成的图案交叉分布;分别在基片边框区的正反面印刷感光银浆;对感光银浆有选择的曝光以便得到有特定形状的银浆图案,并通过显影处理得到感光银浆电极引线,所述感光银浆电极引线的一端与所述导电条电连接。
基于上述区别可以确定本申请实际解决的技术问题是触控电路的应用,如何制备触摸屏,如何在基片上形成导电层、如何在上下导电层形成交叉图案、选择哪种光阻层材料以及如何将信号引出触控电路。
然而,对比文件2公开了触摸屏电极制造方法(参见说明书第【0032】-【0047】段,附图1-2):在基片表面形成导电层、丝印、紫外线固化耐酸材料,以形成图形化的显示区域和边框区域,显示区域包括多个导电图案区,边框区域为空白区域,得到感光银浆电极引线,所述感光银浆电极引线贴附于所述边框区域,且与所述导电图案区电连接。即对比文件2公开了将触摸屏的基片分为显示区和边框区,且导电层位于显示区,以及边框区的电极引线与导电图案电连接,以引出电信号。因此,在面对如何制备触摸屏以及如何将信号引出触控电路的技术问题时,本领域技术人员容易想到将对比文件2应用到对比文件1中。此外,对比文件1公开了通过镂空电路图样41a和镂空电路图样51a对光阻层实施照射,即上下两层的图案可以不同,在此基础上,将上下层的导电条交叉设置对于本领域技术人员而言是常规选择。对比文件1还公开了双面导电膜,在具体应用对比文件2的过程中,将基板正反面均设置引线,并将引线的一端与同侧的导电层电连接是本领域技术人员容易想到的。此外,贴附是在基片上形成导电层的常用方法,光阻干膜也是本领域常用的光阻膜。因此,在对比文件1的基础上结合对比文件2和本领域的公知常识得到该权利要求所要保护的技术方案对所属领域技术人员而言是显而易见的,权利要求1不具备突出的实质性特点和显著的进步,进而不具备创造性,不符合专利法第22条第3款的规定。
(2)权利要求2-6不具备创造性。
权利要求2引用了权利要求1,然而,对比文件2已经公开了感光银浆电极引线,因此,当其引用的权利要求不具备创造性时,权利要求2也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求3引用了权利要求1,然而,PET或PDMS或环状烯烃聚合物均是是透明基板的常用材料。因此,当其引用的权利要求不具备创造性时,权利要求3也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求4引用了权利要求3,然而,对比文件2还公开了(参见说明书第【0034】-【0050】段):可通过溅射方式,在基片表面形成厚度为200nm的ITO导电层。形成导电层还可以包括以下步骤:将纳米银浆涂布与基片表面,金属墨水可以为纳米银材料亲水性溶剂形成,烘烤,得到由若干金属线交叉形成的不规则的随机金属网格,金属网格构成导电层。即对比文件2公开了导电层为ITO或纳米银线材料,此外,石墨烯也是本领域常用的透明导电层材料,因此,当其引用的权利要求不具备创造性时,权利要求4也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求5引用了权利要求4,然而,对比文件2还公开了(参见说明书第【0036】-【0041】段):导电层预定形状可以为条形状,也可以为菱形等形状。所述显示区域包括多个导电图案区,所述多个导电图案区相互绝缘,感光银浆电极引线贴附于所述边框区域,且与所述导电图案区电连接,每个导电图案区电连接有一根所述感光银浆电极引线,所述感光银浆电极引线相互绝缘。因此,当其引用的权利要求不具备创造性时,权利要求5也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求6引用了权利要求1,然而,对比文件2还公开了(参见说明书第【0040】段):根据需求,可将曝光模版中的银浆线路的线宽的范围设为20μm-50μm,线距的范围设为20μm-50μm。因此,当其引用的权利要求不具备创造性时,权利要求6也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
(3)权利要求7不具备创造性
权利要求7请求保护一种触摸屏的制备方法,对比文件1公开了触控电路的透明基板双面导电膜的制法,并具体公开了(参见说明书第4页第1段-第7页第1段,图1-12):
(1)在一透明基板1a的第一表面溅镀形成一第一导电基材层;同时在透明基板1a的第二表面溅镀形成一第二导电基材层(即提供基片,并在基片的正反面均设置导电层);
(2)在该上导电基材层21a表面附着一具有感光变色剂的第一光阻层31a(如图7所示),并在该下导电基材层22a表面附着一第二光阻层32a(即在基片正反面的导电层上分别覆盖光阻膜);
(3)使用一具有镂空电路图样41a的第一光罩4a(如图8所示),覆盖于第一光阻层31a上方,通过镂空电路图样41a对第一光阻层31a实施照射,以进行第一光阻层31a的曝光制程,使第一光阻层31a接受曝光区域形成具有可供识别颜色的电路图形311a。
(4)翻转该透明基板1a,让第二光阻层32a朝向上方(如图9所示);使用一具有镂空电路图样51a的第二光罩5a,覆盖于第二光阻层32a上方,通过该镂空电路图样51a对该第二光阻层32a实施照射,以进行该第二光阻层32a的曝光制程(即对基片正反面的光阻膜有选择的曝光,形成曝光部分和非曝光部分,所述曝光部分或非曝光部分形成基片的导电层图案)。
(5)在第一光阻层31a与第二光阻层32a表面附着显影剂,以同时对该透明基板1a双面进行显影程序,使第一光阻层31a与第二光阻层32a未接受曝光的区域受到显影剂溶解(如图10所示),使上导电基材层21a及下导电基材层22a各自裸露出一待接受蚀刻的区域(即通过显影处理去除导电层图案以外的光阻膜,保留与导电层图案相对应的光阻膜部分;)。
(6)将该透明基板1a浸泡于蚀刻用的蚀刻剂中,同时对透明基板1a双面进行蚀刻程序,使上导电基材层21a及下导电基材层22a裸露的区域受到蚀刻剂溶解(如图11所示),促使该上导电基材层21a形成一触控电路6a的第一导电膜,且下导电基材层22a形成触控电路6a的第二导电膜;(7)在该上层导电膜61a表面残余的第一光阻层31a与该下层导电膜62a表面残余的第二光阻层32a上涂洒去除光阻用的除光阻剂,同时除去该上层与下层导电膜61a、62a表面残余的第一及第二光阻层31a、32a,并完全裸露上层导电膜61a与下层导电膜62a(如图12所示)(即通过蚀刻去除步骤4)保留的光阻膜以外部分的导电层的导电材料并退去所保留的光阻膜)。
权利要求7与对比文件1的区别在于:本申请是一种触摸屏的制备方法,基片还包括显示区和边框区,导电层图案处于显示区内;导电层贴附在基片上;光阻膜为光阻干膜;上下光阻干膜曝光部分所形成的图案交叉分布;该方法还包括如下步骤:6)分别在基片边框区的正反面印刷感光银浆;7)对感光银浆有选择的曝光以便得到有特定形状的银浆图案,并通过显影处理得到感光银浆电极引线,所述感光银浆电极引线的一端与步骤5)所述导电条电连接;所述步骤2)到步骤7)在黄光条件下进行;感光银浆的组成。
基于上述区别可以确定本申请实际解决的技术问题是如何制备触摸屏,如何在基片上形成导电层、如何在上下导电层形成交叉图案、选择哪种光阻层材料、构造感光银浆以及如何将信号引出触控电路。
然而,对比文件2公开了触摸屏电极制造方法(参见说明书第【0032】-【0047】段,附图1-2):在基片表面形成图形化的显示区域和边框区域,显示区域包括多个导电图案区,边框区域为空白区域;步骤S160,印刷感光银浆于所述边框区域。步骤S170,曝光所述感光银浆,形成图形化的感光银浆。此曝光机为紫外线曝光机,曝光机的紫外线(ultraviolet,UV)波长为350nm,曝光能量为50-1000mJ.s-1(即黄光条件下)。步骤S180,显影,以得到感光银浆电极引线,所述感光银浆电极引线贴附于所述边框区域,且与所述导电图案区电连接,每个导电图案区电连接有一根所述感光银浆电极引线,所述感光银浆电极引线相互绝缘,导电层的预定形状可以为条形状,也可以为菱形等形状。即对比文件2公开了将触摸屏的基片分为显示区和边框区,且导电层位于显示区,以及边框区的电极引线与导电图案电连接,以引出电信号,并公开了引线的具体制备方法,且公开了引线制备过程在黄光条件下进行,因此,在面对如何制备触摸屏以及如何将信号引出触控电路的技术问题时,本领域技术人员容易想到将对比文件2应用到对比文件1中,在此基础上,由于对比文件2公开了在黄光条件下制备引线,本领域技术人员容易想到在制备导电层时同样采用黄光条件,此外,贴附是在基片上形成导电层的常用方法,干膜也是本领域常用的光阻膜。对比文件1公开了通过镂空电路图样41a和镂空电路图样51a对光阻层实施照射,即上下两层的图案可以不同,在此基础上,将上下层的导电条交叉设置对于本领域技术人员而言是常规选择。在本领域中,银浆必然由银微粒和粘合剂、溶剂组成,粘合剂通常为树脂,银微粒的质量百分数和粒径均可以通过有限次实验确定,这种参数的设定无法为技术方案带来创造性的高度。因此,在对比文件1的基础上结合对比文件2和本领域公知常识得到该权利要求所要保护的技术方案对所属领域技术人员而言是显而易见的,权利要求7不具备突出的实质性特点和显著的进步,进而不具备创造性,不符合专利法第22条第3款的规定。
(4)权利要求8-11不具备创造性。
在2019年07月19日提交的修改文本中,权利要求8-11直接或间接引用了权利要求1,这显然与原始申请文件不符。通过权利要求8-11的记载可以明确看出,权利要求8-11应该直接或间接引用权利要求7。合议组按照权利要求8-11直接或间接引用权利要求7进行评述。
权利要求8引用了权利要求7,然而,对比文件1还公开了(参见说明书第6页第1段):该第一光阻层31a和第二光阻层32a在本实施上为负光阻(NegativePhotoresist);此外,在80至110℃的条件下通过热压完成光阻干膜的覆盖是本领域的常用技术手段。因此,当其引用的权利要求不具备创造性时,权利要求8也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求9-10直接或间接引用了权利要求7,然而,在显影处理时喷淋弱碱溶液、以及在蚀刻时先后喷淋强酸强碱溶液均是本领域常用技术手段,而王水、硝酸或草酸均为常用的强酸,氢氧化钠、氢氧化钾溶液或质量浓度为1%到6%的乙二胺均是常用的强碱。因此,当其引用的权利要求不具备创造性时,权利要求9-10也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求11引用了权利要求7,对比文件2还公开了(参见说明书第【0040】-【0046】段):步骤S170曝光感光银浆步骤前,还包括步骤S161在黄光条件下预烘烤,对感光银浆进行预烘烤,以固化所述感光银浆。通过60℃-120℃温度进行预烘烤,将感光银浆烘烤到一定程度,使其在曝光时不会反沾菲林或模版。曝光机的曝光能量为50-1000mJ.s-1。即对比文件2公开了预烘烤步骤以及曝光能量范围,在此基础上,选择70至100℃的温度下预烘烤3至15分钟,曝光能量为100mJ到400mJ是本领域技术人员容易想到的。因此,当其引用的权利要求不具备创造性时,权利要求11也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3.对复审请求人相关意见的评述
复审请求人在答复复审通知书的意见陈述书中认为:修改后的权利要求1的技术方案与对比文件1技术方案的发明目的不同;修改后的权利要求1中的触摸屏与对比文件1中的触摸屏不同、制备工艺手段不同;权利要求1具备专利法意义的有益效果;没有证据说明修改后的权利要求1中的感光银浆组份是本领域技术人员无需付出创造性劳动即可得出的;因此,权利要求1具备创造性,权利要求2-11也具备创造性。
对此,合议组认为:首先,文字记载的发明目的是否相同并不是权利要求相对于对比文件具备创造性的理由;其次,触摸屏的不同具体体现在上下层图案的不同,这一点在之前权利要求1和权利要求7的评述中已经进行了说明,即,对比文件1也公开了上下层图案不同的触摸屏(参见图8和图9),交叉设置的图案并没有突出的实质性特点和显著进步;同样地,制备工艺手段的技术特征也已经在对权利要求1的评述中进行了说明,请参照前述意见,此处不再赘述;再者,权利要求1中并不存在复审请求人所述的感光银浆组份,对感光银浆组份的限定出现在权利要求7中,本决定在前面的意见中也已经进行了详细评述,感光银浆的组份是本领域技术人员通过有限次实验即可获知的,这种参数的设定不会给技术方案带来创造性的高度。综上所述,复审请求人的意见均不具备说服力,合议组不予支持。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年10月26日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。


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