发明创造名称：扩散板及其制作方法
外观设计名称：
决定号：192760
决定日：2019-10-21
委内编号：1F272201
优先权日：
申请（专利）号：201510009294.9
申请日：2015-01-08
复审请求人：深圳光峰科技股份有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：王娜
合议组组长：张瑜
参审员：李琪
国际分类号：G02B5/02，G02B1/10
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求与一篇对比文件所公开的技术方案之间的区别技术特征部分是在另一篇对比文件的启示下容易想到的，部分属于本领域技术人员的常规选择，且该区别技术特征并未给该项权利要求的技术方案带来预料不到的技术效果，则该权利要求相对于上述对比文件与本领域技术人员的常规选择的结合不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201510009294.9、发明名称为“扩散板及其制作方法”的发明专利申请（下称本申请），其申请日为2015年01月08日，公开日为2016年08月03日，申请人原为深圳市绎立锐光科技开发有限公司，后变更为深圳光峰科技股份有限公司。
国家知识产权局专利实质审查部门依法对本申请进行了实质审查，以本申请的权利要求1-12不符合专利法第22条第3款的规定为由，于2018年10月15日作出驳回决定，驳回决定中引用了如下2篇对比文件：
对比文件1：CN102650409A，公开日期为2012年08月29日；
对比文件2：CN101728152A，公开日期为2010年06月09日。
驳回决定所依据的文本为：申请人于申请日2015年01月08日提交的说明书摘要、说明书附图1-11、摘要附图、说明书1-94段，以及于2018年03月12日提交的权利要求第1-12项。驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种扩散板的制作方法，其特征在于，包括：
提供透明基板；
在所述透明基板上贴附掩模，所述掩模具有镂空区域，所述镂空区域与所述待制作散射涂层的区域对应；
在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂或喷涂具有一定厚度的散射材料，以在所述透明基板上形成具有一定散光角度的散射涂层，并通过所述散射涂层中的散射颗粒来对光线进行扩散，其中，所述散射材料的厚度是由所述掩模的厚度决定的。
2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述透明基板上贴附掩模，所述掩模为胶带，在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂具有一定厚度的散射材料的过程包括：
在所述透明基板上待制作散射涂层的区域外贴附具有一定厚度的胶带，所述胶带的厚度等于待制作的散射涂层的厚度；
在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂散射材料；
对刮涂有散射材料的所述透明基板进行高温烘烤，以在所述透明基板的表面形成具有一定散光角度的散射涂层。
3. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂散射材料的过程包括：
将所述透明基板放置在旋转涂粉机的夹具中；
在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂具有一定厚度的散射材料；
对刮涂有散射材料的所述透明基板进行高温烘烤，以在所述透明基板的表面形成具有一定散光角度的散射涂层。
4. 根据权利要求3所述的方法，其特征在于，将所述透明基板放置在旋转涂粉机的夹具中之前，还包括：
将具有一定厚度的垫片放置在所述夹具的底部，所述散射涂层的厚度是由所述垫片和所述掩模的厚度决定的。
5. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂具有一定厚度的散射材料时控制涂粉机旋转2圈或3圈。
6. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述透明基板上待制作散射涂层的区域喷涂具有一定厚度的散射材料的过程包括：
将所述透明基板放置在喷粉机的承载盘上；
在所述透明基板上待制作散射涂层的区域喷涂具有一定厚度的散射材料，所述散射材料的厚度是由所述喷粉机的流量和喷涂次数决定的；
对喷涂有散射材料的所述透明基板进行高温烘烤，以在所述透明基板的表面形成具有一定散光角度的散射涂层。
7. 根据权利要求6所述的方法，其特征在于，喷涂次数为3次，喷涂间隔为2秒。
8. 根据权利要求2至7任一项所述的方法，其特征在于，在160℃的温度对喷涂有散射材料的所述透明基板高温烘烤20分钟，然后在环境温度下冷却20分钟。
9. 根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述镂空区域为扇形区域或圆环形区域。
10. 根据权利要求9所述的方法，所述散射涂层的材质为散射粉和/或散射胶水。
11. 一种扩散板，其特征在于，所述扩散板为采用权利要求1-10任一项所述的方法制作的扩散板，所述扩散板包括透明基板和位于所述透明基板表面的具有一定散光角度的散射涂层；所述扩散板通过所述散射涂层中的散射颗粒来对光线进行扩散。
12. 根据权利要求11所述的扩散板，其特征在于，所述扩散板包括多个区域，不同区域的散射涂层的散光角度不同。”
驳回决定认为，独立权利要求1与对比文件1的区别在于：掩模是贴附在透明基板上的，散射材料通过喷涂或刮涂的方式设置，所述散射材料的厚度是由所述掩模的厚度决定的。而对比文件2公开了使用贴附的方式将作为掩模的胶带固定在待制作的基板上，且散射材料的厚度和掩模的厚度是相关的，而且对比文件1和2中的散射材料是涂覆或喷涂在掩模的镂空处的，刮涂也是本领域常用的材料涂覆方式，并且掩模在后续过程中要被去除而保留散射材料，故散射材料厚度和掩模厚度必然是具有一定联系的，因此本领域技术人员也容易想到由掩模的厚度来决定散射材料的厚度。因此权利要求1相对于对比文件1、2以及常用技术手段的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-10的附加技术特征或者被对比文件1或2所公开，或者属于常用技术手段，因此权利要求2-10也均不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。独立权利要求11请求保护一种扩散板，采用权利要求1-10任一项所述方法制作，而对比文件1还公开了包括透明的第二基层，在第二基层表面涂覆光散射材料，光散射材料可以是树脂颗粒或者折射率不同的微小颗粒的塑料片，因此在权利要求1-10相对于对比文件1、2以及上述常用技术手段的结合不具备创造性的基础上，权利要求11也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。从属权利要求12的附加技术特征部分被对比文件1所公开，部分属于常用技术手段，因此权利要求12也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
申请人深圳光峰科技股份有限公司（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年01月15日向国家知识产权局提出了复审请求，并提交了权利要求书的全文修改替换页，在驳回决定所针对的权利要求书的基础上，在独立权利要求1中增加“所述掩模的厚度近似等于所述散射涂层的厚度”，其余权利要求未作修改。修改后的独立权利要求1如下：
“1. 一种扩散板的制作方法，其特征在于，包括：
提供透明基板；
在所述透明基板上贴附掩模，所述掩模具有镂空区域，所述镂空区域与所述待制作散射涂层的区域对应；
在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂或喷涂具有一定厚度的散射材料，以在所述透明基板上形成具有一定散光角度的散射涂层，并通过所述散射涂层中的散射颗粒来对光线进行扩散，其中，所述散射材料的厚度是由所述掩模的厚度决定的，所述掩模的厚度近似等于所述散射涂层的厚度。”
复审请求人认为：对比文件1的制作散射涂层的技术方案时需要采用感光胶的，对比文件1也没有解决由于采用光刻感光胶或刻蚀液而导致的扩散板的制作成本较高的问题需求。而且权利要求1中的“在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂或喷涂具有一定厚度的散射材料，所述散射材料的厚度是由所述掩模的厚度决定的，所述掩模的厚度近似等于所述散射涂层的厚度”并未被对比文件2公开。对比文件2虽然公开了涂覆，但没有具体公开涂覆采用何种方式，而且对比文件2中掩模厚度是由基板上浆料厚度、喷嘴与浆料形成的湿膜之间的间隙决定的，其掩模厚度根本不可能和散射涂层厚度近似相等。因此不能在对比文件2中得到关于掩模厚度是根据待制作的散射涂层的厚度选择的以及所述掩模的厚度近似等于散射涂层厚度的技术启示，即便将对比文件2中“掩模和散射涂层之间的关系”应用到对比文件1中，也不可能得到本申请权利要求1的技术方案。而且本申请不需采用其他方式对散射涂层厚度进行限定和处理，能够简化扩散板制作工艺，降低制作成本。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年02月01日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局依法成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019 年08月05日向复审请求人发出复审通知书，指出独立权利要求1与对比文件1的区别在于：形成散射涂层的方法为在所述透明基板上贴附掩模，掩模具有镂空区域，镂空区域与待制作散射涂层的区域对应，在透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂或喷涂具有一定厚度的散射材料，所述散射材料的厚度是由所述掩模的厚度决定的，所述掩模的厚度近似等于所述散射涂层的厚度。对比文件2公开了利用基板上的掩模设置为镂空结构来涂覆浆料、干燥、去除掩模从而在基板上形成具有预定图案的涂覆层的方法，本领域技术人员也容易想到由掩模厚度来限定制作，从而使得掩模厚度近似等于所述散射涂层的厚度只是本领域技术人员根据实际需求所做的常规选择。此外，刮涂和喷涂都是本领域常用的材料涂覆方式，本领域技术人员可以根据实际需要选择这两种涂覆方式。因此权利要求1相对于对比文件1、2以及上述本领域常规选择的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-10的附加技术特征或者被对比文件1或2所公开，或者属于常规选择，因此权利要求2-10也均不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。独立权利要求11请求保护一种采用权利要求1-10任一项所述方法制作的扩散板，由于权利要求1-10不具备创造性，而对比文件1还公开了权利要求11请求保护的扩散板的结构，因此权利要求11相对于对比文件1、2以及上述常规选择的结合也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。从属权利要求12的附加技术特征部分被对比文件1所公开，部分属于常规选择，因此权利要求12也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
针对上述复审通知书，复审请求人于2019 年09月12日提交了意见陈述书，并提交了权利要求书的全文修改替换页。在复审通知书所依据的权利要求书的基础上，将权利要求1中的“或喷涂”删除，删除了权利要求6、7，其余权利要求的编号和引用关系作适应性修改，修改后的权利要求如下：
“1. 一种扩散板的制作方法，其特征在于，包括：
提供透明基板；
在所述透明基板上贴附掩模，所述掩模具有镂空区域，所述镂空区域与所述待制作散射涂层的区域对应；
在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂具有一定厚度的散射材料，以在所述透明基板上形成具有一定散光角度的散射涂层，并通过所述散射涂层中的散射颗粒来对光线进行扩散，其中，所述散射材料的厚度是由所述掩模的厚度决定的，所述掩模的厚度近似等于所述散射涂层的厚度。
2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述透明基板上贴附掩模，所述掩模为胶带，在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂具有一定厚度的散射材料的过程包括：
在所述透明基板上待制作散射涂层的区域外贴附具有一定厚度的胶带，所述胶带的厚度等于待制作的散射涂层的厚度；
在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂散射材料；
对刮涂有散射材料的所述透明基板进行高温烘烤，以在所述透明基板的表面形成具有一定散光角度的散射涂层。
3. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂散射材料的过程包括：
将所述透明基板放置在旋转涂粉机的夹具中；
在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂具有一定厚度的散射材料；
对刮涂有散射材料的所述透明基板进行高温烘烤，以在所述透明基板的表面形成具有一定散光角度的散射涂层。
4. 根据权利要求3所述的方法，其特征在于，将所述透明基板放置在旋转涂粉机的夹具中之前，还包括：
将具有一定厚度的垫片放置在所述夹具的底部，所述散射涂层的厚度是由所述垫片和所述掩模的厚度决定的。
5. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在所述透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂具有一定厚度的散射材料时控制涂粉机旋转2圈或3圈。
6. 根据权利要求2至5任一项所述的方法，其特征在于，在160℃的温度对喷涂有散射材料的所述透明基板高温烘烤20分钟，然后在环境温度下冷却20分钟。
7. 根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述镂空区域为扇形区域或圆环形区域。
8. 根据权利要求7所述的方法，所述散射涂层的材质为散射粉和/或散射胶水。
9. 一种扩散板，其特征在于，所述扩散板为采用权利要求1-8任一项所述的方法制作的扩散板，所述扩散板包括透明基板和位于所述透明基板表面的具有一定散光角度的散射涂层；所述扩散板通过所述散射涂层中的散射颗粒来对光线进行扩散。
10. 根据权利要求9所述的扩散板，其特征在于，所述扩散板包括多个区域，不同区域的散射涂层的散光角度不同。”
复审请求人认为：（1）对比文件1设置散射部为了改善激发光经过接缝处在投影屏幕上产生的亮斑的技术问题，是在色轮两个荧光材料的接缝处设置散射层，并且对比文件1仅公开了采用感光胶的方法来形成散射层，其已经解决上述技术问题，不会再考虑采用光刻感光胶或刻蚀液而导致的扩散板的制作成本较高的问题需求，也没有改进的必要，现有技术也不会给出启示对对比文件1进行改进。（2）对比文件2与本申请技术领域不同，对比文件2是在等离子基板图层上涂覆，本申请是在扩散板的透明基板上刮涂，对比文件2涂覆的浆料实际上是电介质材料，而本申请是散射材料，刮涂时对于工艺要求更高。对比文件2中使用掩模要解决的是在结合处的涂覆起始位置的边缘产生不均匀的技术问题，而本申请要解决是如何简化扩散板的制作工艺。而且对比文件2也未公开掩模厚度设置为与散射材料涂层厚度近似相等，因为对比文件2中掩模要解决涂覆不均匀以及涂覆效率低的问题，掩模作用是分隔，对光的传播方向没有改变作用，而本申请散射材料的厚度不同对光的传播方向的作用是不一样的，所以要精确控制散射涂层的厚度。因此，对比文件2的技术方案与本申请权利要求1技术领域不同、达到的技术效果完全不一样。（3）对比文件2虽然公开了涂覆，但未公开涂覆采用何种方式，并且采用喷嘴喷涂浆料不能明确控制散射涂层的厚度，而且对比文件2中T＜A B的目的是避免喷嘴与掩模发生摩擦，不能得出散射材料的厚度与掩模的厚度有联系并且是相关的，相反，此公式并非用来控制散射涂层厚度，而是反过来控制掩模厚度，因此从对比文件2不能得到采用刮涂的方式，掩模的厚度根据待制作的散射涂层的厚度选择的以及所述掩模的厚度近似等于散射涂层厚度的技术启示。即便将对比文件2中“掩模和散射涂层之间的关系”应用到对比文件1中，也不可能得到本申请权利要求1的技术方案。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，依法作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
在复审程序中，复审请求人于2019 年09月12日提交了权利要求书的全文修改替换页，经审查，其中所作的修改符合专利法第33条的规定，因此，本决定所依据的文本为：复审请求人于申请日2015年01月08日提交的说明书摘要、说明书附图1-11、摘要附图、说明书1-94段，以及于2019年09月12日提交的权利要求第1-10项。
（二）、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定，创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步。
如果一项权利要求与一篇对比文件所公开的技术方案之间的区别技术特征部分是在另一篇对比文件的启示下容易想到的，部分属于本领域技术人员的常规选择，且该区别技术特征并未给该项权利要求的技术方案带来预料不到的技术效果，则该权利要求相对于上述对比文件与本领域技术人员的常规选择的结合不具备创造性。
具体到本案，合议组认为：
1.权利要求1要求保护一种扩散板的制作方法，对比文件1公开了一种波长转换器件中光散射部的制作方法，并具体公开了如下特征（参见说明书第0005、0010、0025-0036、0049、0055、0069-0080段，附图2-4）：光散射部11可设计为第二基层1100之外的透光薄片。例如，薄片的表面具有散光效果的微结构，或者薄片表面涂覆一层散光材料，或者薄片表面的微结构上再涂覆一层散光材料，或者使用内部掺入折射率不同的微小颗粒的薄片等等（具体参见说明书第0028段）。散光材料是树脂颗粒、光波长转换材料或无机金属氧化物颗粒，无机金属氧化物颗粒包括二氧化硅颗粒、二氧化钛颗粒等等（具体参见说明书第0055段）。第二基层是透明玻璃或者透明塑料等透明材料。第二基层表面经化学腐蚀、热压或喷砂方式形成光散射层。另外，还可以在第二基层表面涂覆光散射材料或设置渗透有光散射材料的薄片，以形成光散射层，该光散射材料是折射率不同的微小颗粒的塑料片材或者表面有微小起伏的透明片材（具体参见说明书第0069-0070段）。先在第二基层表面均匀涂敷一层感光胶，再利用掩模盖覆在该感光胶上，用紫外灯照射。通过紫外光曝光的方式把掩模上的图案复制到该感光胶上，形成感光胶图案。然后，再对第二基层进行化学腐蚀或喷砂处理，有感光胶的覆盖的部分受到感光胶保护不发生变化，没有感光胶覆盖的部分被加工成具有散光效果。最后，去除感光胶，得到部分散光部分透明的光散射层（具体参见说明书第0073段）。
将对比文件1公开的内容与权利要求1相比，对比文件1中第二基层1100是透明玻璃或者透明塑料等透明材料，相当于公开了提供透明基板；在第二基层1100上形成的光散射层相当于在透明基板上形成散射涂层，该散射涂层必然具有一定散光角度；散光材料是树脂颗粒、光波长转换材料或无机金属氧化物颗粒，无机金属氧化物颗粒包括二氧化硅颗粒、二氧化钛颗粒等等相当于公开了通过散射涂层中的散射颗粒来对光线进行扩散。
因此，权利要求1的技术方案与对比文件1之间的区别在于：形成散射涂层的方法为在所述透明基板上贴附掩模，掩模具有镂空区域，镂空区域与待制作散射涂层的区域对应，在透明基板上待制作散射涂层的区域刮涂具有一定厚度的散射材料，所述散射材料的厚度是由所述掩模的厚度决定的，所述掩模的厚度近似等于所述散射涂层的厚度。基于上述区别技术特征，本申请实际解决的技术问题是如何简化扩散板的制作工艺，降低成本。
针对该区别，对比文件2公开了一种等离子基板图层的涂覆方法，并具体公开了（参见说明书第0005段及0018-0042段，图1-8）：该等离子基板图层的涂覆方法主要包括： S102，在上述等离子基板上设置一层掩模，其中，上述掩模具有与上述待涂覆的图案相同的镂空结构；S104，将浆料涂覆在带有上述掩模的等离子基板上；S106，将所涂覆的浆料进行干燥； S108，将上述掩模从上述等离子基板上去除。使用粘接在基板上的胶带作为掩模，胶带具有镂空结构，其镂空图案与待涂覆的图案相同。胶带厚度为T，优选的，T＜A B，其中，A表示所需涂覆在所述等离子基板上的浆料的厚度，B表示用于涂覆所述浆料的喷嘴与由所述浆料形成的湿膜之间的间隙。即对比文件2公开了使用贴附的方式将作为掩模的胶带固定在待制作的基板上，且浆料的厚度和掩模的厚度是相关的。可见，对比文件2公开了利用基板上的掩模设置为镂空结构来涂覆浆料、干燥、去除掩模从而在基板上形成具有预定图案的涂覆层的方法，面对对比文件1中形成光扩散层成本高、工艺复杂的技术问题，本领域技术人员能够从对比文件2中制作具有预定图案的涂覆层的简便方法中获得技术启示，将对比文件2的胶带作为对比文件1中的掩模贴附在透明基板上，并将其设置为与待制作散射涂层的区域对应的镂空结构，再涂覆散射材料、干燥、去除掩模从而在基板上形成具有预定图案的散射涂层，从而降低成本、简化工艺。而对于散射材料采用刮涂手段来涂覆是本领域常用的散射材料涂覆方式，本领域技术人员可以根据实际需要选择采用本领域中非常常见的散射材料涂覆方法之一，即刮涂法来涂覆该散射材料形成散射涂层。而且，本领域技术人员明了，在已具有镂空结构的掩模板时，本领域技术人员很容易想到直接利用已有的掩模板的厚度来控制其待刮涂的散射材料厚度，并且虽然对比文件2公开了T＜A B，但对比文件2并没有排除将掩模厚度设置为与散射涂层厚度近似相等的可能性，因此本领域技术人员也容易想到在刮涂时将散射涂层的厚度设置为由掩模厚度来限定制作，从而使得掩模厚度近似等于所述散射涂层的厚度，这只是本领域技术人员根据实际需求所做的常规选择。
因此，在对比文件1的基础上结合对比文件2和本领域常规选择得到权利要求1的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，权利要求1不具有突出的实质性特点和显著的进步，不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
对于复审请求人的意见，合议组认为：（1）权利要求1请求保护一种扩散板的制作方法，其并未限定其具体的应用领域。而对比文件1公开的是一种应用于波长转换器件中光散射部的制作方法，虽然其应用于波长转换器件中，但其仍然涉及了光散射部的制作方法，因此从光散射部的制作方法上来讲，两者涉及了同一技术领域。而且，虽然对比文件1制作具有微结构的散射涂层时需要采用感光胶，但是对于本领域技术人员来说，光刻法和刻蚀法工艺比较复杂、光刻胶或刻蚀液比较昂贵是众所周知的，而在制造业工艺简单、成本低是普遍追求，因此对比文件1客观上也必然面临需要解决由于采用光刻感光胶或刻蚀液而导致的扩散板的制作成本较高的问题需求。因此，在对比文件2公开了利用基板上的掩模设置为镂空结构来涂覆浆料、干燥、去除掩模从而在基板上形成具有预定图案的涂覆层的方法的启示下，本领域技术人员容易从这种更简便、成本更低的制作方法中获得启示去改进对比文件1的散射涂层的制作，并且这种改进并没有技术障碍。
（2）如前所述，对比文件1与本申请涉及同一技术领域，权利要求1的技术方案与对比文件1之间的区别仅在于散射涂层的具体制作步骤。虽然对比文件2是在等离子基板图层上涂覆浆料，但公开的利用基板上的掩模设置为镂空结构来涂覆浆料、干燥、去除掩模从而在基板上形成具有预定图案的涂覆层的方法显然并不会特定局限应用于涂覆电介质材料，本领域技术人员可以明了，该方法可以适用于涂覆实际需要的各种适合的浆料或者待涂覆材料。而且这种方法相对于采用刻蚀液或光刻胶的方法必然简化了工艺。此外，本领域技术人员熟知，采用刮涂法涂覆散射材料来制作散射板是非常常见的工艺，因此本领域技术人员在对比文件2的启示下，将对比文件2的胶带作为对比文件1中的掩模贴附在透明基板上，并将其设置为与待制作散射涂层的区域对应的镂空结构，再涂覆散射材料、干燥、去除掩模从而在基板上形成具有预定图案的散射涂层时，容易想到采用本领域中非常常见的散射材料涂覆方法之一，即刮涂法来涂覆该散射材料形成散射涂层。而且本领域技术人员明了，在刮涂时通常会在基板上设置边框或隔板来限定涂布的厚度，而在已具有镂空结构的掩模板时，本领域技术人员很容易想到直接利用已有的掩模板的厚度来控制其待刮涂的散射材料厚度，因此将掩模厚度设置为与散射材料涂层厚度近似相等是采用刮涂方法时的常见工艺手段。
（3）对比文件2中T＜A B的目的是避免喷嘴与掩模发生摩擦，该公式反映的是喷嘴需要高于掩模的高度而设置，并没有排除将掩模厚度设置为与散射涂层厚度近似相等的可能性。而且，如前所述，对比文件2中已经公开了将浆料涂覆在掩模的镂空处，而刮涂是本领域常用的散射材料涂覆方式，因此本领域技术人员也容易想到在涂覆散射材料时采用刮涂的方式，而且由于刮涂本身的涂覆特点需要由待刮涂部位周边的隔板来限定刮涂厚度，因此通过控制掩模的高度来控制待刮涂的散射涂层的厚度，也即将散射涂层的厚度设置为由掩模厚度来限定制作，从而使得掩模厚度近似等于所述散射涂层的厚度只是本领域技术人员根据实际需求所做的常规选择，并不需要付出创造性的劳动，没有带来预料不到的技术效果。
综上，复审请求人的意见陈述不成立。
2、权利要求2、3对具体制作步骤作了进一步限定。对比文件2公开已经公开了（参见说明书第0018-0042段，图1-8）使用粘接在基板上的胶带作为掩模，胶带具有镂空结构，其镂空图案与待涂覆的图案相同，镂空部用于形成具有预定图案的涂覆层。胶带厚度为T，优选的，T＜A B。预先在基板上粘接具有镂空结构的掩模（即在待制作浆料涂敷层的区域外贴附具有一定厚度的胶带），然后涂覆浆料，将所涂覆的浆料进行干燥，干燥完成后去除留在基板上的浆料。此外，如前所述，对比文件1已经公开了（参见权利要求1的评述）透明基板、在所述透明基板的表面形成具有一定散光角度的散射涂层。而且使得胶带的厚度等于待制作的散射涂层的厚度、刮涂的相关内容已在权利要求1的技术方案评述过。此外，旋转涂粉机是本领域常用的涂粉装置，将透明基板放置在旋转涂粉机的夹具中以便于涂覆是本领域技术人员的常规选择，而高温烘烤是干燥的一种常用方法，因此在透明基板上刮涂完一定厚度的散射材料后对其进行高温烘烤以最终形成具有一定散光角度的散射涂层是本领域技术人员容易想到的。因此，在其引用权利要求不具有创造性的基础上，从属权利要求2、3也不具有专利法第22条第3款规定的创造性。
3、权利要求4、5分别对刮涂前的基板固定方式、刮涂时的旋转圈数进行了限定。在使用旋转涂粉机时使用具有一定厚度垫片来避免对基板的损伤，并在制作散射涂层时考虑该垫片的厚度，涂粉机涂粉时旋转2或3圈以涂覆的更均匀均是本领域常规选择，其效果可以合理预期，不需要付出创造性的劳动。因此在其引用权利要求不具有创造性的基础上，从属权利要求4、5也不具有专利法第22条第3款规定的创造性。
4、权利要求6对烘烤条件进行了限定。在烘烤时，具体选择高温烘烤的温度为160度，高温烘烤时间20分钟、冷却20分钟均是本领域常规选择，其效果可以合理预期，不需要付出创造性的劳动。因此在其引用权利要求不具有创造性的基础上，从属权利要求6也不具有专利法第22条第3款规定的创造性。
5、权利要求7、8对镂空区域的形状、散射图形的材质进行了限定。对比文件1已经公开了镂空区域为扇形区域（参见附图2），根据实际需要将镂空区域选择为圆环形区域也只不过是本领域技术人员的常规选择。此外，选择散射涂层具体是散射粉和/或散射胶水均是本领域常规选择，其效果可以合理预期，不需要付出创造性的劳动。因此在其引用权利要求不具有创造性的基础上，从属权利要求7、8也不具有专利法第22条第3款规定的创造性。
6、权利要求9请求保护一种采用权利要求1-8任一项所述方法制作的扩散板。如前所述，权利要求1-8所要求保护的制作方法相对于对比文件1、2以及本领域技术人员常规选择的结合不具备创造性。而且，对比文件1还公开了一种扩散板（说明书第0005、0025-0034、0049、0055、0069-0080段，附图2-4），包括透明的第二基层（即透明基板），在第二基层表面涂覆光散射材料（即涂覆具有一定厚度的散射材料）或设置渗透有光散射材料的薄片，以形成光散射层，该光散射材料是折射率不同的微小颗粒的塑料片材或者表面有微小起伏的透明片材（在第二基层上形成的光散射层相当于在透明基板上形成散射涂层，该散射涂层必然具有一定散光角度）。散光材料是树脂颗粒、光波长转换材料或无机金属氧化物颗粒，无机金属氧化物颗粒包括二氧化硅颗粒、二氧化钛颗粒等等（相当于通过散射涂层中的散射颗粒来对光线进行扩散）。由此可知，对本领域技术人员来说，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域技术人员的常规选择得出该权利要求的技术方案是显而易见的，因此该权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
7、权利要求10对扩散板的区域作出了进一步限定。对比文件1已经公开了（参见附图2，说明书第0010段）扩散板包括多个区域，其分别位于不同色区之间，而为了适应对不同色区之间的缝隙在屏幕上产生的亮斑的消除的不同需求，或为了满足其他投影显示时的效果的需求，本领域技术人员容易想到将不同区域的散射涂层的散光角度设计为不同。因此在其引用权利要求不具有创造性的基础上，该从属权利要求也不具有专利法第22条第3款规定的创造性。
综上，权利要求1-10均不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
根据上述事实和理由，合议组依法作出如下审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年10月15日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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