发明创造名称：一种磁共振图像引导的放射治疗系统
外观设计名称：
决定号：192923
决定日：2019-10-17
委内编号：1F271953
优先权日：
申请（专利）号：201510572355.2
申请日：2015-09-10
复审请求人：上海联影医疗科技有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：范文扬
合议组组长：邵建霞
参审员：张莉平
国际分类号：A61N5/055,A61B5/10
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术之间存在区别技术特征，但所述区别技术特征是本领域技术人员容易想到的常规设置，那么该权利要求不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201510572355.2，名称为“一种磁共振图像引导的放射治疗系统”的发明专利申请（下称本申请），申请人为上海联影医疗科技有限公司，本申请的申请日为2015年09月10日，公开日为2016年01月13日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年10月08日以本申请权利要求1-14不符合专利法第22条第3款的规定为由作出驳回决定。驳回决定中引用了如下2篇对比文件：
对比文件2：CN103800009A，其公开日为2014年05月21日；
对比文件3：CN103210318A，其公开日为2013年07月17日。
驳回决定所依据的审查文本为：申请日2015年09月10日提交的说明书摘要、说明书第1-74段、摘要附图、说明书附图图1-8；以及2018年02月05日提交的权利要求第1-14项。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种磁共振图像引导的放射治疗系统，包括：
放射治疗组件，其包括治疗头、治疗臂及机架，所述治疗头通过所述治疗臂安装于所述机架上；
磁共振组件，所述磁共振组件安装于所述机架上，所述磁共振组件包括主磁体，所述主磁体产生的主磁场平行于所述磁共振组件的轴线；
所述磁共振组件的外壁上设置收容空间，所述治疗头至少部分地置于所述收容空间内。
2. 如权利要求1所述的放射治疗系统，其特征在于，所述放射治疗组件的等中心点大致位于所述磁共振组件的轴线上，所述放射治疗组件沿所述轴线方向设有第一通孔，所述磁共振组件沿所述轴线方向设有第二通孔，所述第一通孔和所述第二通孔具有共同轴线。
3. 如权利要求2所述的放射治疗系统，其特征在于，所述治疗头的下端面与所述轴线的垂直距离为40～50厘米。
4. 如权利要求1所述的放射治疗系统，其特征在于，所述收容空间的深度不小于50厘米。
5. 如权利要求1所述的放射治疗系统，其特征在于，所述收容空间为阶梯孔。
6. 如权利要求5所述的放射治疗系统，其特征在于，所述阶梯孔包括第一孔及第二孔，所述第一孔用于容置所述治疗头，所述第二孔用于让所述治疗头发射的射束通过。
7. 如权利要求6所述的放射治疗系统，其特征在于，所述第二孔的尺寸小于所述第一孔的尺寸，所述磁共振组件还包括屏蔽线圈，所述第一孔在磁共振组件的径向位于所述主磁体之外，在磁共振组件的轴线方向位于屏蔽线圈之间，所述第二孔在磁共振组件的轴线方向位于所述主磁体之间。
8. 如权利要求1所述的放射治疗系统，其特征在于，所述收容空间为盲孔，所述盲孔用于容置所述治疗头。
9. 如权利要求8所述的放射治疗系统，其特征在于，所述磁共振组件还包括屏蔽线圈，所述盲孔在磁共振组件的径向位于所述主磁体之外，在磁共振组件的轴线方向位于屏蔽线圈之间，且所述主磁体被布置成避开所述治疗头发射的射束。
10. 如权利要求2所述的放射治疗系统，其特征在于，所述放射治疗组件还包括底座，所述机架可转动的支撑于所述底座上，所述磁共振组件和所述治疗头随机架的旋转一起旋转。
11. 如权利要求10所述的放射治疗系统，其特征在于，所述收容空间为一段环形收容空间，所述环形收容空间的中心大致位于所述轴线上，所述治疗头通过所述治疗臂可转动的安装于所述机架上，且所述治疗头在所述环形收容空间内相对磁共振组件独立旋转。
12. 如权利要求11所述的放射治疗系统，其特征在于，所述治疗头在所述环形收容空间内相对磁共振组件独立旋转的最大角度及所述磁共振组件和所述治疗头一起旋转的最大角度不小于360度。
13. 如权利要求2所述的放射治疗系统，其特征在于，所述收容空间为环形收容空间，所述环形收容空间的中心大致位于所述轴线上，所述治疗头通过所述治疗臂可转动的安装于所述机架上，且所述治疗头在所述环形收容空间内相对磁共振组件独立旋转。
14. 如权利要求1所述的放射治疗系统，其特征在于，所述治疗头发射的射束的中心轴基本上垂直于所述磁共振的主磁场方向。”
驳回决定认为：（1）权利要求1所要保护的技术方案与对比文件2所公开的技术内容相比，其区别技术特征在于：权利要求1所述收容空间设置在磁共振组件外壁上。而其所实际解决的技术问题是：如何进一步减小放射治疗系统的尺寸，提高射束治疗效率。对于这一区别，对比文件3公开了磁共振成像系统的磁体510的外壁具有凹陷540，放射治疗头504的部分置于凹陷540内的技术内容。因此，在对比文件2的基础上结合对比文件3得到权利要求1所要保护的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，因此权利要求1不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）从属权利要求2-14的附加技术特征或者已经被对比文件2或对比文件3所公开，或者是本领域技术人员在对比文件2的基础上容易做出的常规选择，因此上述权利要求均不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人上海联影医疗科技有限公司（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年01月23日向国家知识产权局提出了复审请求，但未修改申请文件。
复审请求人认为：对比文件2没有公开“磁共振组件上设置收容空间，所述治疗头至少部分地置于所述收容空间内”和“所述磁共振组件安装于所述机架上”。其中，“所述磁共振组件安装于所述机架上”隐含公开了本案磁共振组件为一个整体的技术特征。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年01月28日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年07月05日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1和对比文件3相比，其区别在于：放射治疗组件包括治疗臂，所述治疗头通过所述治疗臂安装于所述机架上，即治疗臂将放射治疗头和磁共振系统安装在同一个机架上。基于上述区别特征，本申请实际要解决的技术问题是：便于控制治疗头和磁共振系统的协同运动及简化结构。但是上述区别是本领域技术人员在对比文件3的教导下容易想到的常规技术手段，因此权利要求1相对于对比文件3和本领域常规技术手段的结合并没有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-14的附加技术特征或者已经被对比文件3公开，或者是本领域技术人员在对比文件3的基础上容易做出的常规选择，因此上述从属权利要求均不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
复审请求人于2019年08月20日提交了意见陈述书，同时提交了权利要求书全文修改替换页。其中所作修改涉及：在复审通知书所针对的权利要求书基础上，将权利要求5-7的附加特征加入权利要求1中，并进一步将“阶梯孔”限定为“阶梯通孔”，将“所述磁共振组件为一个整体”加入权利要求1中，并调整了权利要求1中各个特征的撰写顺序和形式，删除了权利要求5-9，并适应性地调整了权利要求的编号和引用关系。经修改的权利要求书如下：
“1. 一种磁共振图像引导的放射治疗系统，包括：
放射治疗组件，其包括治疗头、治疗臂及机架，所述治疗头通过所述治疗臂安装于所述机架上；
磁共振组件，所述磁共振组件安装于所述机架上，所述磁共振组件包括主磁体，所述主磁体产生的主磁场平行于所述磁共振组件的轴线；所述磁共振组件为一个整体；所述磁共振组件的外壁上设置收容空间，所述治疗头至少部分地置于所述收容空间内；所述收容空间为阶梯通孔；所述阶梯通孔包括第一孔及第二孔，所述第一孔用于容置所述治疗头，所述第二孔用于让所述治疗头发射的射束通过；所述第二孔的尺寸小于所述第一孔的尺寸，所述磁共振组件还包括屏蔽线圈，所述第一孔在磁共振组件的径向位于所述主磁体之外，在磁共振组件的轴线方向位于屏蔽线圈之间，所述第二孔在磁共振组件的轴线方向位于所述主磁体之间。
2. 如权利要求1所述的放射治疗系统，其特征在于，所述放射治疗组件的等中心点大致位于所述磁共振组件的轴线上，所述放射治疗组件沿所述轴线方向设有第一通孔，所述磁共振组件沿所述轴线方向设有第二通孔，所述第一通孔和所述第二通孔具有共同轴线。
3. 如权利要求2所述的放射治疗系统，其特征在于，所述治疗头的下端面与所述轴线的垂直距离为40～50厘米。
4. 如权利要求1所述的放射治疗系统，其特征在于，所述收容空间的深度不小于50厘米。
5. 如权利要求2所述的放射治疗系统，其特征在于，所述放射治疗组件还包括底座，所述机架可转动的支撑于所述底座上，所述磁共振组件和所述治疗头随机架的旋转一起旋转。
6. 如权利要求5所述的放射治疗系统，其特征在于，所述收容空间为一段环形收容空间，所述环形收容空间的中心大致位于所述轴线上，所述治疗头通过所述治疗臂可转动的安装于所述机架上，且所述治疗头在所述环形收容空间内相对磁共振组件独立旋转。
7. 如权利要求6所述的放射治疗系统，其特征在于，所述治疗头在所述环形收容空间内相对磁共振组件独立旋转的最大角度及所述磁共振组件和所述治疗头一起旋转的最大角度不小于360度。
8. 如权利要求2所述的放射治疗系统，其特征在于，所述收容空间为环形收容空间，所述环形收容空间的中心大致位于所述轴线上，所述治疗头通过所述治疗臂可转动的安装于所述机架上，且所述治疗头在所述环形收容空间内相对磁共振组件独立旋转。
9. 如权利要求1所述的放射治疗系统，其特征在于，所述治疗头发射的射束的中心轴基本上垂直于所述磁共振的主磁场方向。”
复审请求人认为：（1）本申请技术方案限定了“所述磁共振组件为一个整体”，而对比文件3根据说明书第129和131段的记载以及附图5可知，对比文件3中的两个磁体是独立的，属于本申请背景技术中提到的分离式磁体。（2）本申请限定了收容空间为阶梯通孔，并且第二孔在轴线方向位于主线圈之间。而对比文件3的图5公开了其用于容纳部分放射治疗设备的凹陷是一个盲孔并非通孔，且缝隙是位于磁场梯度线圈之间而非超导线圈主磁体之间，其位置与权利要求1中限定的第二孔的位置不同。与对比文件3相比，权利要求1的磁共振组件中，由于收容空间201为阶梯通孔，在主磁体内的射束路径上不存在对射线产生衰减的障碍物，提高治疗效率；此外，由于第二孔在轴线方向位于主线圈之外，使得治疗头与等中心点之间的距离缩短，可以缩小放射治疗系统整体尺寸，提高治疗效率和精度。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）关于审查基础
在复审程序中，复审请求人于2019年08月20日答复复审通知书时提交了权利要求书全文的修改替换页，经审查，所作修改符合专利法第33条和专利法实施细则第61条第1款的规定。因此本复审决定以复审请求人于申请日2015年09月10日提交的说明书摘要、说明书第1-74段、摘要附图、说明书附图图1-8；以及于2019年08月20日答复复审通知书时提交的权利要求第1-9项为基础做出。
（二）、关于创造性
专利法第22条第3款：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术之间存在区别技术特征，但所述区别技术特征是本领域技术人员容易想到的常规设置，那么该权利要求不具备创造性。
具体到本案：
1、权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求1请求保护一种磁共振图像引导的放射治疗系统。对比文件3公开了一种具有至少两个发射和接收信道的磁共振成像以及放射治疗设备，其中（参见说明书第0004-0143段，说明书附图1-6）具体公开了：治疗设备500，包括用于治疗目标区的放射治疗设备502和用于采集磁共振成像数据的磁共振成像系统，放射治疗设备502包括用于将电磁辐射引入到目标区中的放射治疗源504（说明书第129段），所述放射治疗设备适于使所述放射治疗源至少部分地围绕所述磁体旋转（说明书第0026段）。磁共振设备和线性加速器（LINAC）放射治疗源的结合通常是将LINAC源置于围绕磁体的旋转扫描架上，并设计磁体使得LINAC在所述磁体的零场区域中旋转。所述原理的另一具体特征是利用分裂梯度线圈，其将避免LINAC射束的衰减（说明书第0004段）。利用围绕MRI磁体的零场区域之内的公共等中心旋转的LINAC设备的现有MR-LINAC系统原理的改进特征在于：在梯度线圈内获得80cm的孔膛，预计具有96cm的内径的磁体就能够满足需要，在所述孔膛内能够对受检者自由地定位；为了使LINAC射束的效率最大化，还建议任选在磁体内引入外部凹陷，从而使LINAC射束的位置能够更加接近所述受检者（说明书第0010-0016段）。所述放射治疗设备包含用于使所述放射治疗源围绕所述旋转轴旋转的旋转机构，所述放射治疗源引导所述辐射通过所述旋转轴。所述磁共振成像系统具有轴，所述放射治疗设备的旋转轴和所述磁共振成像系统的磁体的轴是共轴的（参见说明书第0032段）。治疗设备还包括处理器和指令，能够利用经配准的磁共振图像生成放射治疗控制信号（参见说明书第0030段）。所述磁体是圆柱形超导磁体。所述磁体在外壁中具有凹陷。所述放射治疗设备适于使所述放射治疗源围绕或者关于所述凹陷旋转。所述放射治疗源的至少一部分处于所述凹陷之内。所述放射治疗源被放置得更接近受检者，这样可以具有将放射治疗源定位在磁体的低磁场区之内，并且仅需采用准确率较低的能调整的射束准直器就能够准确地控制引入到目标区中的电磁辐射，这样能够降低治疗设备的成本（参见说明书第0044段）。在图5中有放射治疗设备502。处于放射治疗设备502之内的是放射治疗源504。放射治疗源504的下面是能调整的射束准直器506。放射治疗源504生成辐射束508。治疗设备500还包括磁共振成像系统。放射治疗设备围绕磁共振成像系统的磁体510形成了环。所述磁体是具有低温恒温器512的超导磁体。有用于为所述磁体生成磁场的超导线圈514。有生成低磁场区域518的超导屏蔽线圈516。将放射治疗源504示为位于低场区域518之内。低场区域518形成了围绕圆柱形磁体510的圈饼形（参见说明书第0129段）。将受检者526的目标区536示为位于成像区534之内。磁体510之内的用于容纳受检者526的空间是所述磁体的孔膛538。在这一范例中，旋转轴542还是磁体510的对称轴（参见说明书第0130段）。所述磁体具有大孔膛，如果所述磁体具有80cm或者更大的孔膛，那么六维定位522将是有利的。这样能够有效率地对目标区536定位，从而使目标区536能够被辐射束508所触及，并且处于旋转轴542上。箭头542所指向的虚线是旋转轴，磁体510具有凹陷540，其允许将放射治疗源504的位置设置得更接近受检者526。在磁体510的孔膛538之内还示出了磁场梯度线圈544。磁体场梯度线圈544被示为是分裂类型的，在所述磁体场梯度线圈中具有缝隙546。缝隙546可以是自所述线圈开始的具有降低的数量的导体或者没有导体的区域（参见说明书第0131段）。
经分析对比可知，对比文件3中的治疗设备500能够利用经配准的磁共振图像生成放射治疗控制信号，因此相当于本申请中的磁共振图像引导的放射治疗系统。用于治疗目标区的放射治疗设备502相当于本申请的放射治疗组件。放射治疗源504相当于本申请的治疗头。LINAC置于围绕磁体的旋转扫描架上相当于本申请的放射治疗组件包括机架。磁共振成像系统相当于本申请的磁共振组件。为实现磁共振成像的目的，对比文件3隐含公开了磁共振成像系统被安装在机架上。包含超导线圈514和超导屏蔽线圈516以及具有低温恒温器512的磁体510相当于本申请的主磁体。超导屏蔽线圈516相当于本申请的屏蔽线圈。对比文件3隐含公开了超导线圈产生的主磁场平行于磁共振成像系统510的轴线542。从说明书记载和附图可以看出，磁体510是具有低温恒温器512的超导磁体，并且磁体和梯度线圈共同组成至少80cm的大孔膛，由此可知包括磁体和梯度线圈的磁共振系统相对于受检者是一个具有孔膛外壳包裹的整体。因此对比文件3公开了磁共振成像系统为一个整体，相当于本申请的磁共振组件为一个整体。磁体510的外筒凹陷540相当于本申请的磁共振组件外壁上设置收容空间。放射治疗源504置于凹陷540中相当于本申请的治疗头至少部分地置于收容空间内。
该权利要求1所要求保护的技术方案与对比文件3所公开的上述方案的区别特征包括：放射治疗组件包括治疗臂，所述治疗头通过所述治疗臂安装于所述机架上，即治疗臂将放射治疗头和磁共振系统安装在同一个机架上，所述收容空间为阶梯通孔；所述阶梯通孔包括第一孔及第二孔，所述第一孔用于容置所述治疗头，所述第二孔用于让所述治疗头发射的射束通过；所述第二孔的尺寸小于所述第一孔的尺寸，所述第一孔在磁共振组件的径向位于所述主磁体之外，在磁共振组件的轴线方向位于屏蔽线圈之间，所述第二孔在磁共振组件的轴线方向位于所述主磁体之间。基于上述区别特征，本申请实际要解决的技术问题是：便于控制治疗头和磁共振系统的协同运动及简化结构。
对于上述区别，虽然对比文件3没有直接公开放射治疗组件是通过治疗臂和磁共振系统安装在同一个机架上。但是本领域技术人员熟知的是，机架可以用来为磁共振系统的磁体和放射治疗头的旋转运动提供动力。为了简化结构，本领域技术人员容易想到将放射治疗头的旋转扫描架与磁共振系统的机架集成为同一个机架为两者同时提供旋转动力，而为了实现对放射治疗头和磁共振系统旋转运动的协同控制，本领域技术人员也容易想到将放射治疗头通过治疗臂连接到该同一个集成机架上，这属于本领域的常规技术手段。虽然对比文件3公开的是容置放射治疗设备的盲孔而非阶梯孔，但是在对比文件3的设计启发下，本领域技术人员容易想到用阶梯孔的结构来替换盲孔的结构容纳放射治疗设备，以便让放射治疗源发射的射束更好地通过，这属于本领域的常规技术手段。阶梯孔的下孔孔径小于上孔属于本领域的常规选择，而从对比文件3（参见附图5）可以看出治疗设备所在的筒体凹陷（盲孔）在磁体轴线方向上位于屏蔽线圈516之间，径向上位于超导线圈514之外。本领域技术人员容易想到将便于治疗设备发射的射束通过的通孔设置更靠近受检者的位置并穿过超导线圈514，因此在轴线方向上将第二孔设置在超导线圈514之间也是设计阶梯孔时容易实现的。
由此可知，在对比文件3的基础上结合本领域的常规技术手段以得到该权利要求1的技术方案，对本技术领域的技术人员来说是显而易见的，因此该权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对于复审请求人的意见，合议组认为：（1）正如复审意见通知书中对假如复审请求人将关于“磁共振组件为一个整体”的技术特征加入权利要求的限定中的回应，该特征已被对比文件3所公开。从说明书记载和附图可以看出，磁体510是具有低温恒温器512的超导磁体，并且磁体和梯度线圈共同组成至少80cm的大孔膛，由此可知包括磁体和梯度线圈的磁共振系统相对于受检者是具有孔膛外壳包裹的一个整体；并且由于分离式磁体需要两套冷却系统，因此从磁体510仅配置有一套低温恒温器512也可推知磁体510是一个整体而非分离式磁体；此外，附图5所示的虽然是一个剖面图，但是从附图5中也可看出磁体510是被具有凹陷540的外筒包裹的一个整体，凹陷并非通孔，并未将磁体510进行割裂，由此也可知道磁体510并非分体设计。因此对比文件3公开了磁共振成像系统以及磁体510均为一个整体而并不是分离式的技术内容，并在整体式的外筒上设有凹陷容置放射治疗设备。而复审请求人所争辩的磁体梯度线圈为分裂类型的，但是磁体梯度线圈既不对应磁共振组件也不对应于磁体，它是设置在磁体系统之外用来产生并控制磁场中梯度以实现磁共振信号空间编码的系统，因此这一理由不具说服力。（2）虽然对比文件3所公开的是盲孔而非通孔，且其位置与权利要求1限定的位置不同，但是盲孔和阶梯通孔的构造都是本领域的常规选择，本领域技术人员容易在对比文件3的设计启发下想到用阶梯通孔的结构来替换盲孔结构以便治疗设备发射的射束更好地通过，这属于本领域的常规技术手段。并且虽然从对比文件3（参见附图5）可以看出治疗设备所在的筒体凹陷（盲孔）在磁体轴线方向上位于屏蔽线圈516之间，径向上位于超导线圈514（对应于本申请的主线圈）之外，但是对比文件3说明书第44段记载了“所述放射治疗源的至少一部分处于所述凹陷之内。所述放射治疗源被放置得更接近受检者，这样可以具有将放射治疗源定位在磁体的低磁场区之内，并且仅需采用准确率较低的能调整的射束准直器就能够准确地控制引入到目标区中的电磁辐射，这样能够降低治疗设备的成本”，给出了减少磁体件对放射治疗射束路径上产生衰减的障碍以及使放射治疗源放置得离受检者更近的技术启示。本领域技术人员在此基础上容易想到将便于治疗设备发射的射束通过的通孔设置更靠近受检者的位置并穿过超导线圈514，因此在轴线方向上将第二孔设置在超导线圈514之间也是设计阶梯孔时容易实现的。基于上述原因，合议组对于复审请求人的意见不予支持。
2. 从属权利要求2-9
权利要求2引用权利要求1，但是其附加技术特征已被对比文件3公开（参见说明书第0129-0130段及图6）：放射治疗设备围绕磁共振成像系统的磁体510形成了环，由此可知放射治疗设备的等中心点位于磁共振成像系统的旋转轴线542上，且放射治疗设备沿旋转轴线542具有形成环的中空结构，这就相当于本申请的第一通孔。磁共振成像系统的磁体510沿旋转轴线542具有容纳受检者526空间即磁体的孔膛538，其相当于本申请的第二通孔。因此，当其引用的权利要求1不具备创造性时，上述权利要求2也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求3引用权利要求2，但是其附加技术特征已被对比文件3公开（参见说明书第0131段）：磁体具有80cm或者更大的孔膛。从图5中可以看出放射治疗设备502高于孔膛的上边缘，由此可知放射治疗设备502下端面与旋转轴542之间的垂直距离大于孔膛的半径，即40cm，公开了本申请所限定的40-50厘米的数值范围。因此，当其引用的权利要求2不具备创造性时，上述权利要求3也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求4引用权利要求1，其附加技术特征限定了收容空间深度的数值范围。对比文件3公开了放射治疗设备的收容空间是磁体外筒上的凹陷的技术内容，本领域技术人员容易根据本领域常规的磁体外筒尺寸选取合适的凹陷空间尺寸，并且为了使LINAC扫描架更加接近受检者，实现更高的LINAC射束效率，本领域技术人员有动机将放射治疗设备在外筒上的凹进距离设置的尽可能大，选取不小于50厘米的收容空间深度属于本领域的常规选择。因此，当其引用的权利要求1不具备创造性时，上述权利要求4也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
从属权利要求5-7引用在前的权利要求，其附加技术特征进一步限定了底座、收容空间的具体构造和旋转的实现方式及最大旋转角。对比文件3（参见说明书第0126、0130段、图5）公开了磁共振成像设备510搁置在基底520（对应于底座）上，放射治疗设备围绕磁共振成像系统形成了环（其内部对应于环形收容空间），环形的中心位于磁体的旋转轴和对称轴542上，放射治疗设备具有旋转路径，旋转路径从图3上看为360度旋转，磁共振成像设备具有旋转轴542。在磁共振和放射治疗领域，放射治疗设备和磁共振成像设备的旋转是一起进行的，还是相互独立旋转的都是常规技术手段，是本领域技术人员容易想到采用的。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，上述权利要求5-7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
从属权利要求8引用权利要求2，其附加技术特征进一步限定了收容空间的具体构造和旋转的实现方式。对比文件3（参见说明书第0126、0130段）公开了放射治疗设备围绕磁共振成像系统形成了环，环形的中心位于磁体的旋转轴和对称轴542上。在磁共振和放射治疗领域，放射治疗设备和磁共振成像设备的旋转是相互独立旋转的属于常规技术手段，是本领域技术人员容易想到采用的。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，上述权利要求8也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
从属权利要求9引用权利要求1，但是其附加技术特征已被对比文件3公开（参见图5）：治疗源504发射的辐射束508的中心轴垂直于磁共振主磁场的方向。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，上述权利要求9也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
综上所述，权利要求1-9均不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
根据上述事实和理由，本案合议组依法做出以下审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年10月08日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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