发明创造名称：基于向日葵图案的经涂覆磨料制品
外观设计名称：
决定号：192416
决定日：2019-09-29
委内编号：1F245535
优先权日：2013-06-28
申请（专利）号：201480035212.1
申请日：2014-06-27
复审请求人：圣戈班磨料磨具有限公司 法国圣戈班磨料磨具公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：李晓明
合议组组长：朱明慧
参审员：谭远
国际分类号：B24D7/00(2006.01);B24B55/00(2006.01)
外观设计分类号：
法律依据：中国专利法第22条第2款，第3款
决定要点
：?如果一项权利要求与一份现有技术公开的技术方案实质不同而存在区别，并且该区别并非本领域惯用技术手段的直接替换，那么该权利要求相对于该份现有技术具备新颖性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201480035212.1，名称为“基于向日葵图案的经涂覆磨料制品”的PCT发明专利申请（下称“本申请”）。本申请的申请人为圣戈班磨料磨具有限公司和法国圣戈班磨料磨具公司，申请日为2014年06月27日，优先权日为2013年06月28日，进入中国国家阶段日为2015年12月18日，公开日为2016年02月10日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2017年11月16日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-8,10-14不符合专利法第22条第2款规定的新颖性，权利要求9,15不符合专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为2017年07月11日提交的权利要求第1-15项，2015年12月18日提交的说明书第1-206段（即第1-32页），说明书附图第1-20页，说明书摘要以及摘要附图。驳回决定引用下列文献：
对比文件1：“基于葵花籽粒结构仿生抛光垫的设计制造及运动场的研究”，段敏，中国优秀硕士学位论文全文数据库 信息科技辑，第1期，第10-58页， 公开日：2012年01月15日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种磨料制品，其包括：
经涂覆磨料，其具有布置成图案的多个磨料区域，
其中所述图案具有受控不均匀分布，且
其中所述图案是螺旋叶序图案，
其中所述图案具有数个顺时针螺旋和数个逆时针螺旋，
其中顺时针螺旋的所述数目和逆时针螺旋的所述数目是斐波那契数或斐波那契数的倍数，
其中所述图案是通过以下方程式在极坐标中描述：
φ＝n*α,r＝c√n (方程式1)
其中：
n是磨料区域的序号，从所述图案的中心向外计数；
φ是参考方向与发源于所述图案的所述中心处的极坐标系中的第n磨料区域的位置向量之间的角度，使得任何两个连续磨料区域的位置向量之间的发散角是恒定角度α；
r是从所述图案的所述中心到所述第n磨料区域的中心的距离；且
c是恒定按比例缩放因数，
其中所述多个磨料区域包含分散在位于背衬上的粘结剂层中的多个磨料颗粒，且
其中所述图案的总开放面积为所述磨料制品的总潜在表面积的80％到99.5％。
2. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述磨料区域的至少51％符合方程式1。
3. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案在极坐标中的发散角的范围是从100°到170°。
4. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案具有137.508°的发散角。
5. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中总磨料面积的至少80％符合方程式1。
6. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述多个磨料区域的范围是从5个磨料区域到10,000个磨料区域。
7. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案覆盖所述磨料制品的实质上整个面。
8. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案的最外部磨料区域的边缘与所述磨料制品的边缘交叉。
9. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案的最外部磨料区域的边缘距所述磨料制品的所述边缘至少特定距离。
10. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案覆盖所述磨料制品的所述面的仅一部分。
11. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案覆盖所述磨料制品的所述面的周期性部分。
12. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案的总开放面积为所述磨料制品的总潜在表面积的80％到93％。
13. 根据权利要求1所述的磨料制品，其总磨料表面积的范围是从所述总潜在表面积的4.5％到20％。
14. 根据权利要求1所述的磨料制品，其具有圆盘的形状。
15. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述磨料区域具有选自短线段、多边形、椭圆面、圆、弧、螺旋、螺纹、螺旋点阵或其组合中的一者的形状。”
驳回决定中认为：独立权利要求1所要求保护的技术方案已被对比文件1公开，所不同的仅仅是文字表达方式上略有差别，其技术方案实质上是相同的，且两者属于相同的技术领域，并能产生相同的技术效果，因此，独立权利要求1所要求保护的技术方案不具备专利法第22条第2款规定的新颖性。从属权利要求2-8,10-14的附加技术特征也已被对比文件1公开，因此，从属权利要求2-8,10-14也不具备专利法第22条第2款规定的新颖性。从属权利要求9,15的附加技术特征是本领域的常规技术手段，因此，从属权利要求9,15不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服,于2018年02月26日向国家知识产权局提出了复审请求，未修改权利要求书。复审请求人认为：对比文件1中关于λ=0.13的可行性的观点是在未全面考虑对比文件1的上下文情况下做出的，事实上，对比文件1写明了面积比λ=0.13显示出仿生抛光垫对去除率非均匀性的负面影响（例如其中“硅片中部及边缘部分去除率过大，平面度还不高”的否定性表述）。在此基础上本领域技术人员能够理解λ=0.13的方案并不能解决对比文件1想要解决的技术问题，不会选择这一比率。对比文件1明确教导了λ=0.13是不可行的，且λ应大于0.24。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年03月29日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为，对比文件1记载的是“λ大于0.24时，得到的硅片表面形貌较λ=0.13时有较大提高。所以，当叶序参数m在2.0-2.2之间，叶序半径在2.2-2.4之间时（参见表5-4，即“λ在0.24-0.36之间”），得到的硅片表面形貌理想”，由此可以确定，对比文件1的实验主要证明了“当叶序参数m在2.0-2.2之间，叶序半径在2.2-2.4之间时（参见表5-4，即“λ在0.24-0.36之间”），得到的硅片表面形貌理想”，没有否认λ=0.13的技术方案不可实施，并非给出λ应大于0.24；反观对比文件1，明确公开了λ=0.13的技术方案，其技术方案是可行的，因而坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组2019年01月25日向复审请求人发出第一次复审通知书，指出：独立权利要求1所要求保护的技术方案已被对比文件1公开，所不同的仅仅是文字表达方式上略有差别，其技术方案实质上是相同的，且两者属于相同的技术领域，并能产生相同的技术效果，因此，独立权利要求1所要求保护的技术方案不具备专利法第22条第2款规定的新颖性。从属权利要求2-8,10-14的附加技术特征也已被对比文件1公开，因此，从属权利要求2-8,10-14也不具备专利法第22条第2款规定的新颖性。从属权利要求9,15的附加技术特征是本领域的常规技术手段，因此，从属权利要求9,15不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
复审请求人于2019年03月04日提交了意见陈述书，并提交了修改后的权利要求书，将“其具有布置成图案的多个磨料区域”修改为“其具有位于柔性平面背衬上的多个不连续磨料区域和布置成图案的邻近开放区域”，将“其中所述图案的总开放面积为所述磨料制品的总潜在表面积的80%到99.5%”修改为“其中所述图案的总开放面积为所述磨料制品的总潜在表面积的90％到95.5％”，增加了技术特征“其中所述多个不连续磨料区域包含分散在位于所述背衬上的所述聚合物粘结剂层中的多个磨料颗粒，其中连续聚合胶料涂层位于所述磨料区域和所述开放区域上方”，“其中所述图案具有在136.5°到138.5°的范围内的极坐标中的发散角，其中所述总磨料区域的至少约80％符合方程式1，其中所述图案具有所述磨料制品的潜在表面积的4.5％到10％的总磨料表面积，其中所述磨料区域的每一者包括不小于1/10至不大于10倍的所述磨料制品的所述邻近开放区域的尺寸的宽度，且其中所述磨料区域的每一者包括在0.1mm至10cm的范围内的宽度”，删除了技术特征“其中所述图案具有数个顺时针螺旋和数个逆时针螺旋，其中顺时针螺旋的所述数目和逆时针螺旋的所述数目是斐波那契数或斐波那契数的倍数”以及“其中所述多个磨料区域包含分散在位于背衬上的粘结剂层中的多个磨料颗粒”。并删除了原从属权利要求2-3,5,12-13，并对权利要求书进行了重新编号。复审请求人认为：（1）对比文件1没有教导本申请要求保护的经涂覆的磨料结构，将连续胶料涂层应用至对比文件1的抛光垫会导致其无法满足预期使用目的，如果涂覆或填充胶料涂层，对比文件1的抛光垫中的凹陷区域和沟槽会阻止均匀的接触压力分布、阻止均匀的抛光浆料流动和分布，并且会阻止均匀的接触温度场分布。（2）对比文件1没有公开或教导磨料区域之间的间距、总开放面积的量和总磨料区域。对比文件1公开了面积比在“0.13”至“0.56”范围内变化的各种实例，但对比文件1没有公开或教导本申请要求保护的总磨料表面积（4.5%到10%），并且对比文件1明确公开了在面积比为0.13时在硅晶片的中心部分和边缘部分去除率过大，且因此得到的平滑度是不理想的，此外，对比文件1解释了“随着面积比的增大，加工后的硅片表面轮廓曲线平滑度有增加的趋势”，因此，在对比文件1的基础上，本领域的技术人员无法合理的实现本申请要求保护的技术特征的组合。复审请求人答复复审通知书时提交的权利要求书如下：
“1. 一种磨料制品，其包括：
经涂覆磨料，其具有位于柔性平面背衬上的多个不连续磨料区域和布置成图案的邻近开放区域，
其中所述多个不连续磨料区域包含分散在位于所述背衬上的所述聚合物粘结剂层中的多个磨料颗粒，
其中连续聚合胶料涂层位于所述磨料区域和所述开放区域上方，
其中所述图案具有受控不均匀分布，
其中所述图案是螺旋叶序图案，
其中所述图案是通过以下方程式在极坐标中描述：
φ＝n*α,r＝c√n (方程式1)
其中：
n是磨料区域的序号，从所述图案的中心向外计数；
φ是参考方向与发源于所述图案的所述中心处的极坐标系中的第n磨料区域的位置向量之间的角度，使得任何两个连续磨料区域的位置向量之间的发散角是恒定角度α；
r是从所述图案的所述中心到所述第n磨料区域的中心的距离；且
c是恒定按比例缩放因数，
其中所述图案具有在136.5°到138.5°的范围内的极坐标中的发散角，
其中所述总磨料区域的至少约80％符合方程式1，
其中所述图案的总开放面积为所述磨料制品的总潜在表面积的90％到95.5％，
其中所述图案具有所述磨料制品的潜在表面积的4.5％到10％的总磨料表面积，
其中所述磨料区域的每一者包括不小于1/10至不大于10倍的所述磨料制品的所述邻近开放区域的尺寸的宽度，且
其中所述磨料区域的每一者包括在0.1mm至10cm的范围内的宽度。
2. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案具有137.508°的发散角。
3. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述多个磨料区域的范围是从5个磨料区域到10,000个磨料区域。
4. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案覆盖所述磨料制品的实质上整个面。
5. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案的最外部磨料区域的边缘与所述磨料制品的边缘交叉。
6. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案的最外部磨料区域的边缘距所述磨料制品的所述边缘至少特定距离。
7. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案覆盖所述磨料制品的所述面的仅一部分。
8. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述图案覆盖所述磨料制品的所述面的周期性部分。
9. 根据权利要求1所述的磨料制品，其具有圆盘的形状。
10. 根据权利要求1所述的磨料制品，其中所述磨料区域具有选自短线段、多边形、椭圆面、圆、弧、螺旋、螺纹、螺旋点阵或其组合中的一者的形状。”
针对复审请求人的意见陈述以及新提交的修改后的申请文件，合议组继续进行审查，并于2019年07月08日发出第二次复审通知书，指出：复审请求人在修改后的权利要求1中补入了技术特征：“其中连续聚合胶料涂层位于所述磨料区域和所述开放区域上方”以及“其中所述图案具有在136.5°到138.5°的范围内的极坐标中的发散角”，但上述技术特征既未明确地记载在原说明书和权利要求书中，也不能由原说明书和权利要求书所记载的内容直接地、毫无疑义地确定，即修改超出了原说明书和权利要求书记载的范围，不符合专利法第33条的规定。
复审请求人于2019年07月30日提交了意见陈述书，并提交了修改后的权利要求书，将权利要求1中的“连续聚合胶料涂层”修改为“胶料涂层”，将“所述图案具有在136.5°到138.5°的范围内的极坐标中的发散角”修改为“所述图案具有在137°到138°的范围内的极坐标中的发散角”，复审请求人认为：修改后的权利要求书没有超出原说明书和权利要求书记载的范围，符合专利法第33条的规定。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出复审请求审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
复审请求人在答复复审通知书时对权利要求书进行了修改，经查，该修改符合专利法第33条以及专利法实施细则第61条的规定，故本复审请求审查决定所针对的审查文本为2019年07月30日提交的权利要求第1-10项，2015年12月18日提交的说明书第1-32页，说明书附图第1-20页，说明书摘要以及摘要附图。
关于专利法第22条第2款
专利法第22条第2款规定：新颖性，是指该发明或者实用新型不属于现有技术；也没有任何单位或者个人就同样的发明或者实用新型在申请日以前向国务院专利行政部门提出过申请，并记载在申请日以后公布的专利申请文件或者公告的专利文件中。
2.1关于独立权利要求1
权利要求1保护一种磨料制品。对比文件1（“基于葵花籽粒结构仿生抛光垫的设计制造及运动场的研究”，段敏，中国优秀硕士学位论文全文数据库 信息科技辑，第1期，第10-58页，公开日为2012年01月15日）公开了一种磨粒叶序排布的仿生抛光垫，并具体公开了（参见对比文件1的第10-58页）：包括：经涂覆的磨料，其具有布置成图案的多个磨料区域，其中图案具有受控不均匀分布，且其中图案是螺旋叶序图案，其中图案具有数个顺时针螺旋和数个逆时针螺旋，其中顺时针螺旋的所述数目和逆时针螺旋的所述数目是斐波那契数或斐波那契数的倍数，其中图案是通过以下方程式在极坐标中描述：
其中：n是籽粒的序数，是第n点的角度，是叶序角，取恒定值137.508，R是叶序点极坐标半径，m是叶序参数，
其中多个磨料区域包含分散在位于背衬上的粘接剂聚氨酯层中的多个二氧化硅磨料颗粒（参见第45-46页），且叶序参数m与叶序半径D影响抛光垫的磨削面积，进一步研究了磨料的总面积与抛光垫总表面积的关系，面积比可取λ=0.13、λ=0.24、λ=0.30、λ=0.36、λ=0.56，当取λ=1.3（原文笔误，应为λ=0.13）时，硅片中部及边缘部分去除率过大，平面度不高。当面积比大于λ=0.24时，得到的硅片表面形貌较λ=1.3时有较大提高（原文笔误，应为λ=0.13）（参见表5.4，第56-58页），当面积比取λ=0.13时，可以得到总开放面积为磨料制品的总潜在表面积的87%。
因此，权利要求1所要求保护的技术方案与对比文件1所公开的技术内容相比，区别在于：其具有位于柔性平面背衬上的多个不连续磨料区域和布置成图案的邻近开放区域， 其中所述多个不连续磨料区域包含分散在位于所述背衬上的所述聚合物粘结剂层中的多个磨料颗粒， 其中胶料涂层位于所述磨料区域和所述开放区域上方，其中所述图案的总开放面积为所述磨料制品的总潜在表面积的90％到95.5％，其中所述图案具有所述磨料制品的潜在表面积的4.5％到10％的总磨料表面积，其中所述磨料区域的每一者包括不小于1/10至不大于10倍的所述磨料制品的所述邻近开放区域的尺寸的宽度，且其中所述磨料区域的每一者包括在0.1mm至10cm的范围内的宽度。因此，独立权利要求1具备新颖性，符合专利法第22条第2款的规定。
2.2关于从属权利要求2-10
由于独立权利要求1具备新颖性，故其从属权利要求2-10也具备新颖性，符合专利法第22条第2款的规定。
关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
权利要求1与对比文件1的区别如上所述，基于上述区别，权利要求1实际解决的技术问题在于：如何提供一种可实现更高切割率的研磨元件。
由对比文件1公开的技术内容可知，对比文件1公开了面积比在“0.13”至“0.56”范围内变化的各种实例，但对比文件1没有公开或教导本申请要求保护的磨料区域之间的间距、总开放面积的量和总磨料区域，尤其是未公开总磨料表面积（4.5%到10%），并且对比文件1明确公开了在面积比为0.13时相对于其他面积比时在硅晶片的中心部分和边缘部分去除率过大，且因此得到的平滑度是不理想的，在对比文件1公开的技术内容的基础上，为获得更好的硅晶片的平滑度，本领域的技术人员在对比文件1的教导下，会增大面积比，从而增大总磨料表面积，因此对比文件1中并不存在将继续缩小总磨料表面积的技术手段应用到对比文件1的技术方案中以解决其技术问题的技术启示。目前也没有足够的证据表明这种区别属于本领域公知常识。此外，由于上述区别技术特征的存在，本申请通过实验数据表明在减小总磨料表面积的基础上获得意料不到的更高切割率的有益技术效果。因而在对比文件1的基础上，本领域普通技术人员在不花费创造性劳动的情况下不能获得权利要求1所要求保护的技术方案。因此，权利要求1相对于对比文件1具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3.2关于从属权利要求2-10
由于独立权利要求1具备创造性，故其从属权利要求2-10也具备创造性，符合专利法第22条第3款的规定。
三、决定
撤销国家知识产权局于2017年11月16日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局原审查部门在本复审请求审查决定所针对的审查文本的基础上对本申请继续进行审查。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人自收到本决定之日起三个月内可以向北京知识产权法院起诉。
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