发明创造名称：具有低摩擦垫的物理气相沉积(PVD)靶材
外观设计名称：
决定号：191806
决定日：2019-09-29
委内编号：1F274911
优先权日：2013-12-18
申请（专利）号：201480061815.9
申请日：2014-11-11
复审请求人：应用材料公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：杨子芳
合议组组长：吴海涛
参审员：窦明生
国际分类号：H01L21/203
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求要求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别特征，但是现有技术已经给出将上述区别特征应用到最接近的现有技术以解决其存在的技术问题的启示，那么该权利要求所要求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，因而不具备创造性。
全文：
本复审请求审查决定涉及申请号为201480061815.9，名称为“具有低摩擦垫的物理气相沉积(PVD)靶材”的PCT发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为应用材料公司，申请日为2014年11月11日，优先权日为2013年12月18日，进入中国国家阶段日为2016年05月11日，公开日为2016年08月17日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年12月24日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1、4-9不具备专利法第22条第3款规定的创造性。具体地，（1）独立权利要求1相对于对比文件1（US7922881B2，公告日为2011年04月12日）的区别特征在于：多个垫的每个垫通过被设置成穿过所述垫的紧固件固定至所述支撑部分，并且其中所述多个垫的每个垫包括支承表面、部分地延伸进入所述垫的主体且具有第一直径的埋头孔凹槽、以及具有小于所述第一直径的第二直径的穿孔。该区别技术特征部分被对比文件2（CN1058998C，公告日为2000年11月29日）公开，部分是在对比文件2的基础上容易想到的。因此独立权利要求1相对于对比文件1、对比文件2和本领域公知常识的结合不具备创造性。（2）从属权利要求4-9的附加技术特征或被对比文件1、对比文件2公开，或为本领域的公知常识，因此当引用的权利要求不具备创造性时，权利要求4-9也不具备创造性。（3）其他说明部分还指出权利要求2、3、10不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
驳回决定所依据的文本为：进入中国国家阶段日2016年05月11日提交的说明书第1-45段、说明书附图图1-4、说明书摘要及摘要附图，于2018年07月11日提交的权利要求第1-10项。驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种用于基板处理腔室的靶材组件，所述靶材组件包含：
板，包含包括中央部分及支撑部分的第一侧面，其中所述中央部分被配置以支撑靶材源材料；
多个凹槽，形成于所述支撑部分中；及
多个垫，部分设置于所述多个凹槽中，其中所述多个垫的每个垫通过被设置成穿过所述垫的紧固件固定至所述支撑部分，并且其中所述多个垫的每个垫包括支承表面、部分地延伸进入所述垫的主体且具有第一直径的埋头孔凹槽、以及具有小于所述第一直径的第二直径的穿孔。
2. 如权利要求1所述的靶材组件，其中所述多个凹槽围绕所述板圆周地间隔开。
3. 如权利要求1所述的组件，其中所述多个凹槽的尺寸是相似的。
4. 如权利要求1所述的靶材组件，其中所述紧固件设置于所述埋头孔凹槽和所述穿孔中。
5. 如权利要求4所述的靶材组件，其中所述紧固件的头为以下之一：在所述支承表面下方的埋头孔或与所述支承表面齐平。
6. 如权利要求4所述的靶材组件，其中所述紧固件的柄被设置成穿过所述穿孔以将所述垫固定至所述板。
7. 如权利要求1至6中任一项所述的靶材组件，其中所述多个垫的每个垫包含座表面及支承表面，其中当所述座表面被支撑于凹槽的底表面时，所述支承表面在所述板的所述第一侧面上方与所述第一侧面间隔开。
8. 如权利要求7所述的靶材组件，其中所述支承表面在所述第一侧面上方以约0.05mm至约1mm的距离而与所述第一侧面间隔开。
9. 如权利要求1至6中任一项所述的靶材组件，其中所述板包括槽，所述槽分隔所述支撑部分为大气侧及真空侧，所述大气侧从所述槽径向地向外，所述真空侧从所述槽径向地向内。
10. 一种用于基板处理腔室的靶材组件，所述靶材组件包含：
板，包含包括中央部分及支撑部分的第一侧面，其中所述中央部分被配置以支撑靶材源材料；
槽，形成于所述板中并分隔所述支撑部分为大气侧及真空侧，所述大气侧从所述槽径向地向外，所述真空侧从所述槽径向地向内；
多个凹槽，形成于所述支撑部分的所述大气侧中且围绕所述板圆周地间隔开；及
多个减摩垫，部分设置于所述多个凹槽中，使得支承表面在所述板的所述第一侧面上方与所述第一侧面间隔开，其中所述多个减摩垫的每个减摩垫通过被设置成穿过所述减摩垫的紧固件固定至所述支撑部分，并且其中所述多个减摩垫的每个减摩垫包括支承表面、部分地延伸进入所述减摩垫的主体且具有第一直径的埋头孔凹槽、以及具有小于所述第一直径的第二直径的穿孔。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年02月25日向国家知识产权局提出了复审请求，提交了意见陈述书和修改后的权利要求书全文替换页（包括权利要求书第1-9项），其中在独立权利要求1、9中加入技术特征“所述紧固件的头设置在所述垫的所述埋头孔凹槽内且在所述支承表面之下”，删除了从属权利要求5，并适应性调整了权利要求编号及引用关系。复审请求人认为：对比文件1仅记载压垫240被配置为紧密地配合在埋头孔241中，对比文件1没有教导或表明用于附接压垫与形成于靶材的埋头孔的技术手段。复审请求人提交复审请求时新修改的独立权利要求1和9如下：
“1. 一种用于基板处理腔室的靶材组件，所述靶材组件包含：
板，包含包括中央部分及支撑部分的第一侧面，其中所述中央部分被配置以支撑靶材源材料；
多个凹槽，形成于所述支撑部分中；及
多个垫，部分设置于所述多个凹槽中，其中所述多个垫的每个垫通过被设置成穿过所述垫的紧固件固定至所述支撑部分，并且其中所述多个垫的每个垫包括支承表面、部分地延伸进入所述垫的主体且具有第一直径的埋头孔凹槽、以及具有小于所述第一直径的第二直径的穿孔，并且其中所述紧固件的头设置在所述垫的所述埋头孔凹槽内且在所述支承表面之下。”
“9. 一种用于基板处理腔室的靶材组件，所述靶材组件包含：
板，包含包括中央部分及支撑部分的第一侧面，其中所述中央部分被配置以支撑靶材源材料；
槽，形成于所述板中并分隔所述支撑部分为大气侧及真空侧，所述大气侧 从所述槽径向地向外，所述真空侧从所述槽径向地向内；
多个凹槽，形成于所述支撑部分的所述大气侧中且围绕所述板圆周地间隔开；及
多个减摩垫，部分设置于所述多个凹槽中，使得支承表面在所述板的所述第一侧面上方与所述第一侧面间隔开，其中所述多个减摩垫的每个减摩垫通过被设置成穿过所述减摩垫的紧固件固定至所述支撑部分，并且其中所述多个减摩垫的每个减摩垫包括支承表面、部分地延伸进入所述减摩垫的主体且具有第一直径的埋头孔凹槽、以及具有小于所述第一直径的第二直径的穿孔，并且其中所述紧固件的头设置在所述垫的所述埋头孔凹槽内且在所述支承表面之下。”
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年02月28日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为：（1）独立权利要求1和9中增加的技术特征是本领域的公知常识。（2）复审请求人认为对比文件1中的多个垫240上没有设置埋头钻孔，对比文件2中公开的是使用冷却盖板95被销钉或螺丝111固定在靶支托板80，并没有涉及垫片。但是，对比文件2公开了使用销钉或螺丝111固定冷却盖板的技术，然而冷却盖板与本申请中的垫片都是靶材组件，本领域技术人员将靶材组件具体为冷却板的安装方式应用到靶材组件具体为垫片的安装，这对本领域技术人员来说是显而易见的，不需要付出创造性的劳动。因此，本申请独立权利要求不具有创造性，因而坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年07月12日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1-9不具备专利法第22条第3款规定的创造性。具体地，（1）独立权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征为：多个垫的每个垫通过被设置成穿过垫的紧固件固定至支撑部分，多个垫的每个垫包括具有小于第一直径的第二直径的穿孔，并且紧固件的头设置在垫的埋头孔凹槽内且在支承表面之下。然而，上述区别技术特征是在对比文件1的基础上结合本领域的公知常识得到的，因此独立权利要求1相对于对比文件1和本领域公知常识的结合不具备创造性。基于类似的理由，独立权利要求9相对于对比文件1和本领域公知常识的结合也不具备创造性。（2）从属权利要求2-8的附加技术特征或被对比文件1、对比文件2公开，或为本领域的公知常识，因此当引用的权利要求不具备创造性时，从属权利要求2-8也不具备创造性。（3）针对复审请求人的意见陈述，合议组认为：对比文件1（参见说明书第3栏第18-56行，图2A-2B）公开了多个压垫240，部分设置于多个埋头孔241中，压垫240通常为圆柱状且被紧密地装配在埋头孔241内，其中每个压垫240高约0.130英寸（3.30 mm），埋头孔241深约0.115英寸（2.92 mm），这给压垫240提供了约0.015英寸（0.381 mm）的空隙，即对比文件1公开了附接压垫与形成于靶材的埋头孔的技术手段。
复审请求人于2019年08月14日提交了意见陈述书和修改的权利要求全文替换页（包括权利要求第1-9项），其中将权利要求中的“垫”、“减摩垫”进一步分别限定为“矩形垫”、“矩形减摩垫”。复审请求人认为：对比文件1和2没有公开本申请的特定垫结构，并且对比文件1也没有提供通过紧固件将垫固定至背板的技术启示。
复审请求人于2019年08月14日提交的权利要求书如下：
“1. 一种用于基板处理腔室的靶材组件，所述靶材组件包含：
板，包含包括中央部分及支撑部分的第一侧面，其中所述中央部分被配置以支撑靶材源材料；
多个凹槽，形成于所述支撑部分中；及
多个矩形垫，部分设置于所述多个凹槽中，其中所述多个矩形垫的每个矩形垫通过被设置成穿过所述矩形垫的紧固件固定至所述支撑部分，并且其中所述多个矩形垫的每个矩形垫包括支承表面、部分地延伸进入所述矩形垫的主体且具有第一直径的埋头孔凹槽、以及具有小于所述第一直径的第二直径的穿孔，并且其中所述紧固件的头设置在所述矩形垫的所述埋头孔凹槽内且在所述支承表面之下。
2. 如权利要求1所述的靶材组件，其中所述多个凹槽围绕所述板圆周地间隔开。
3. 如权利要求1所述的组件，其中所述多个凹槽的尺寸是相似的。
4. 如权利要求1所述的靶材组件，其中所述紧固件设置于所述埋头孔凹槽和所述穿孔中。
5. 如权利要求4所述的靶材组件，其中所述紧固件的柄被设置成穿过所述穿孔以将所述矩形垫固定至所述板。
6. 如权利要求1至5中任一项所述的靶材组件，其中所述多个矩形垫的每个矩形垫包含座表面及支承表面，其中当所述座表面被支撑于凹槽的底表面时，所述支承表面在所述板的所述第一侧面上方与所述第一侧面间隔开。
7. 如权利要求6所述的靶材组件，其中所述支承表面在所述第一侧面上方以约0.05mm至约1mm的距离而与所述第一侧面间隔开。
8. 如权利要求1至5中任一项所述的靶材组件，其中所述板包括槽，所述槽分隔所述支撑部分为大气侧及真空侧，所述大气侧从所述槽径向地向外，所述真空侧从所述槽径向地向内。
9. 一种用于基板处理腔室的靶材组件，所述靶材组件包含：
板，包含包括中央部分及支撑部分的第一侧面，其中所述中央部分被配置以支撑靶材源材料；
槽，形成于所述板中并分隔所述支撑部分为大气侧及真空侧，所述大气侧从所述槽径向地向外，所述真空侧从所述槽径向地向内；
多个凹槽，形成于所述支撑部分的所述大气侧中且围绕所述板圆周地间隔开；及
多个矩形减摩垫，部分设置于所述多个凹槽中，使得支承表面在所述板的所述第一侧面上方与所述第一侧面间隔开，其中所述多个矩形减摩垫的每个矩形减摩垫通过被设置成穿过所述矩形减摩垫的紧固件固定至所述支撑部分，并且其中所述多个矩形减摩垫的每个矩形减摩垫包括支承表面、部分地延伸进入所述矩形减摩垫的主体且具有第一直径的埋头孔凹槽、以及具有小于所述第一直径的第二直径的穿孔，并且其中所述紧固件的头设置在所述矩形减摩垫的所述埋头孔凹槽内且在所述支承表面之下。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人于2019年08月14日提交了答复复审通知书的意见陈述书和修改的权利要求书全文替换页（包括权利要求第1-9项），其中将权利要求中的“垫”、“减摩垫”进一步分别限定为“矩形垫”、“矩形减摩垫”。经审查，上述修改符合专利法第33条及专利法实施细则第61条第1款的规定。因此，本复审请求审查决定所针对的文本为：进入中国国家阶段日2016年05月11日提交的说明书第1-45段、说明书附图图1-4、说明书摘要及摘要附图，于2019年08月14日提交的权利要求第1-9项。
2、关于创造性
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求要求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别特征，但是现有技术已经给出将上述区别特征应用到最接近的现有技术以解决其存在的技术问题的启示，那么该权利要求所要求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，因而不具备创造性。
本复审请求审查决定中引用的对比文件与驳回决定和复审通知书中引用的对比文件相同，即：
对比文件1：US7922881B2，公告日为2011年04月12日；
对比文件2：CN1058998C，公告日为2000年11月29日。
2.1 权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求1要求保护一种用于基板处理腔室的靶材组件，对比文件1公开了一种溅射等离子体反应器，包括用于基板处理腔室的溅射用靶材，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第2栏第63行至第3栏第56行，附图2A-2B）：靶材组件包含盘形靶材212，盘形靶材212包括中央凸起部以及外侧支撑部的下表面，中央凸起部被配置以支撑靶材源材料；多个埋头孔241（相当于凹槽），形成于外侧支撑部中（参见图2A），其必定具有一直径；多个压垫240，部分设置于多个埋头孔241中，压垫240通常为圆柱状且被紧密地装配在埋头孔241内，其中每个压垫240高约0.130英寸（3.30 mm），埋头孔241深约0.115英寸（2.92 mm），这给压垫240提供了约0.015英寸（0.381 mm）的空隙，即公开了埋头孔凹槽部分地延伸进入垫的主体，此外压垫必定包括支承表面。
权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征为：多个矩形垫的每个矩形垫通过被设置成穿过矩形垫的紧固件固定至支撑部分，多个矩形垫的每个矩形垫包括具有小于第一直径的第二直径的穿孔，并且紧固件的头设置在矩形垫的埋头孔凹槽内且在支承表面之下。基于该区别技术特征，权利要求1相对于对比文件1实际解决的技术问题是：如何固定安装垫片以及选择垫的形状。
然而，对比文件1还公开了（参见说明书第3栏第31-56行）：如图2B所示，多个埋头孔241设置在靶材212的外周附近，压垫240通常为圆柱状且被紧密地装配在埋头孔241内。本领域技术人员公知，在基板处理腔室中，为了提高垫片的安装性能，通过穿过垫片的紧固件将垫片固定到背板的支撑部分，这是本领域的常用技术手段，并且本领域技术人员公知，为了防止紧固件损伤背板，在垫片中开设凹孔时使其不穿透垫片以及在凹孔中设有比凹孔直径小的穿孔这是本领域的常用技术手段。对比文件1（参见说明书第3栏第18-30行）还公开了通过在绝缘环226和靶材212之间插入间隔物240即压垫使绝缘环226和靶材212之间形成间隔G。在此基础上，本领域技术人员很容易想到为了提高固定性能使紧固件的头设置在垫的埋头孔凹槽内且在支承表面之下，并且以上垫片的安装方式也是机械领域通过螺母螺栓固定而常采用的方式。此外，本领域技术人员可以根据实际需要选择垫的几何形状，并且选择垫为矩形也是本领域技术人员的常用技术手段。
因此，在对比文件1的基础上结合本领域的公知常识得出该权利要求所要求保护的技术方案，对本领域的技术人员来说是显而易见的，该权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，因而不具备创造性。
2.2 权利要求2-8不符合专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求2-3引用权利要求1，对比文件1（参见说明书第3栏第31-56行，附图2B）还公开了多个埋头孔241（相当于凹槽）围绕盘形基板212圆周地间隔开；埋头孔241的尺寸是一致的，即权利要求2-3的附加技术特征被对比文件1公开。因此，在其引用的权利要求不具备创造性时，上述权利要求也不具备创造性。
权利要求4-5直接或间接引用权利要求1，对比文件2公开了一种溅射靶组合件及其制造方法（参见说明书第18页第5段至第20页第3段，附图19-26），其中如图23所示，通过紧固件202将靶支托板的盖板197固定在靶支托板171上，紧固件202设置于深孔174中，即公开了权利要求4的全部附加技术特征和权利要求5的部分附加技术特征，其在对比文件2中的作用与在权利要求4-5中的作用相同，都是用于溅射腔室中组件的固定。此外，对比文件2公开了通过销钉或螺丝的销钉身或螺丝杆被设置成穿过穿孔以将盖板固定至靶支托板，虽然对比文件2与权利要求4-5所固定的对象不同，但都是用于固定溅射腔室中的组件，在此启示下，本领域技术人员容易想到使紧固件202的柄穿透穿孔将垫片固定到板，且也未产生预料不到的技术效果。因此，在对比文件1的基础上结合对比文件2和本领域的公知常识得出权利要求4-5所要求保护的技术方案，对本领域的技术人员来说是显而易见的，上述权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，因而不具备创造性。
权利要求6引用权利要求1-5中任一项，权利要求7引用权利要求6，然而本领域技术人员根据实际情况设置多个垫，使垫包含座表面及支承表面，当座表面被支撑于凹槽的底表面时，支承表面在板的第一侧面上方与第一侧面间隔开，这是本领域的常用技术手段。此外，本领域技术人员通过有限的试验将间距设置为 0.05mm至1mm，这不需要付出创造性的劳动，也未产生预料不到的技术效果。因此，在其引用的权利要求不具备创造性时，上述权利要求也不具备创造性。
权利要求8引用权利要求1-5中任一项，对比文件1（说明书第3栏第8-17行，附图2A-2B）还公开了凹槽形成于外侧支撑部分中，O环228设置于凹槽中，分隔支撑部分为大气侧及真空侧，大气侧从槽径向地向外，真空侧从槽径向地向内。因此，在其引用的权利要求不具备创造性时，该权利要求也不具备创造性。
2.3 权利要求9不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求9要求保护一种用于基板处理腔室的靶材组件，对比文件1公开了一种溅射等离子体反应器，包括用于基板处理腔室的溅射用靶材，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第2栏第63行至第3栏第56行，附图2A-2B）：靶材组件包含盘形靶材212，盘形靶材212包括中央凸起部以及外侧支撑部的下表面，中央凸起部被配置以支撑靶材源材料；凹槽形成于外侧支撑部分中，O环228设置于凹槽中，分隔支撑部分为大气侧及真空侧，大气侧从槽径向地向外，真空侧从槽径向地向内；多个埋头孔241（相当于凹槽），形成于外侧支撑部的大气侧中且围绕盘形靶材212圆周地间隔开（参见图2A-2B），其必定具有一直径；多个压垫240（相当于减摩垫），部分设置于多个埋头孔241中，使得支承表面在盘形靶材212的下表面上方与下表面间隔开，压垫240通常为圆柱状且被紧密地装配在埋头孔241内，其中每个压垫240高约0.130英寸（3.30 mm），埋头孔241深约0.115英寸（2.92 mm），这给压垫240提供了约0.015英寸（0.381 mm）的空隙，即公开了埋头孔凹槽部分地延伸进入垫的主体，此外压垫必定包括支承表面。
权利要求9与对比文件1相比，区别技术特征为：多个矩形减摩垫的每个矩形减摩垫通过被设置成穿过矩形减摩垫的紧固件固定至支撑部分，多个矩形减摩垫的每个矩形减摩垫包括具有小于第一直径的第二直径的穿孔，并且紧固件的头设置在矩形减摩垫的埋头孔凹槽内且在支承表面之下。基于该区别技术特征，权利要求9相对于对比文件1实际解决的技术问题是：如何固定安装垫片以及选择垫的形状。
然而，对比文件1还公开了（参见说明书第3栏第31-56行）：如图2B所示，多个埋头孔241设置在靶材212的外周附近，压垫240通常为圆柱状且被紧密地装配在埋头孔241内。本领域技术人员公知，在基板处理腔室中，为了提高垫片的安装性能，通过穿过垫片的紧固件将垫片固定到背板的支撑部分，这是本领域的常用技术手段，并且本领域技术人员公知，为了防止紧固件损伤背板，在垫片中开设凹孔时使其不穿透垫片以及在凹孔中设有比凹孔直径小的穿孔这是本领域的常用技术手段。对比文件1（参见说明书第3栏第18-30行）还公开了通过在绝缘环226和靶材212之间插入间隔物240即压垫使绝缘环226和靶材212之间形成间隔G，在此基础上，本领域技术人员很容易想到为了提高固定性能使紧固件的头设置在垫的埋头孔凹槽内且在支承表面之下，并且以上垫片的安装方式也是机械领域通过螺母螺栓固定而常采用的方式。此外，本领域技术人员可以根据实际需要选择垫的几何形状，并且选择垫为矩形也是本领域技术人员的常用技术手段。
因此，在对比文件1的基础上结合本领域的公知常识得出该权利要求所要求保护的技术方案，对本领域的技术人员来说是显而易见的，该权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，因而不具备创造性。
3、对复审请求人相关意见的评述
复审请求人认为：对比文件1和2没有公开本申请的特定垫结构，并且对比文件1也没有提供通过紧固件将垫固定至背板的技术启示。
对此，合议组认为：（1）对比文件1公开了（参见说明书第3栏第31-56行，附图2B）：多个埋头孔241设置在靶材212的外周附近，压垫240被紧密地装配在埋头孔241内。在基板处理腔室中，为了提高垫片的安装性能，通过穿过垫片的紧固件将垫片固定到背板的支撑部分，这是本领域的常用技术手段，例如通过螺母螺栓固定垫片的安装方式是本领域中常采用的方式。（2）对比文件1附图2B公开了多个压垫240，部分设置于多个埋头孔241中，压垫240被紧密地装配在埋头孔241内，其中每个压垫240高约0.130英寸（3.30 mm），埋头孔241深约0.115英寸（2.92 mm），这给压垫240提供了约0.015英寸（0.381 mm）的空隙，即公开了埋头孔凹槽部分地延伸进入垫的主体。并且本领域技术人员公知，为了防止紧固件损伤背板，在垫片中开设凹孔时使其不穿透垫片以及在凹孔中设有比凹孔直径小的穿孔这是本领域的常用技术手段。（3）对比文件1（参见说明书第3栏第18-30行）还公开了通过在绝缘环226和靶材212之间插入间隔物240即压垫使绝缘环226和靶材212之间形成间隔G，在此基础上，本领域技术人员很容易想到为了提高固定性能使紧固件的头设置在垫的埋头孔凹槽内且在支承表面之下，并且以上垫片的安装方式也是机械领域通过螺母螺栓固定而常采用的方式。（4）对比文件2如图20、图23所示，公开了通过设置于深孔174中的紧固件202将靶支托板的盖板197固定在靶支托板171上，此外还公开了通过销钉或螺丝的销钉身或螺丝杆被设置成穿过穿孔以将盖板固定至靶支托板，虽然对比文件2与本申请固定的对象不同，但都是用于固定溅射腔室中的组件，在此启示下，本领域技术人员容易想到使紧固件202的柄穿透穿孔将垫片固定到板，且也未产生预料不到的技术效果。
综上所述，复审请求人的意见陈述不成立，合议组不予支持。
基于上述事实和理由，合议组依法作出以下决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年12月24日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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