发明创造名称：一种显示基板及显示装置
外观设计名称：
决定号：191485
决定日：2019-09-28
委内编号：1F262963
优先权日：
申请（专利）号：201510106985.0
申请日：2015-03-11
复审请求人：京东方科技集团股份有限公司 北京京东方光电科技有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：刘燕梅
合议组组长：刘章鹏
参审员：崔双魁
国际分类号：G02F1/1339,G02F1/1337
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求的技术方案与作为最接近现有技术的对比文件相比存在区别技术特征，而该区别技术特征属于本领域的常用技术手段，且该权利要求的技术方案并没有由于该区别技术特征而具有预料不到的技术效果，则该权利要求不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201510106985.0，名称为“一种显示基板及显示装置”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为京东方科技集团股份有限公司、北京京东方光电科技有限公司。本申请的申请日为2015年03月11日，公开日为2015年05月27日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年07月03日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求第1-10项不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为申请日2015年03月11日提交的说明书第1-52段、说明书附图1-5、说明书摘要、摘要附图以及2018年04月02日提交的权利要求第1-10项。驳回决定中引用了如下1篇对比文件：
对比文件1：CN104216163A，公开日期为2014年12月17日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种显示基板，包括亚像素、设在各所述亚像素周围的黑矩阵和设在所述黑矩阵上的隔垫物，其特征在于，所述黑矩阵的全部或部分区域包括主区域和辅区域，位于取向摩擦方向上的相邻两个所述亚像素之间设有所述主区域或者所述辅区域，所述隔垫物位于所述主区域上，所述主区域能够遮挡取向摩擦阴影；
其中，所述主区域和所述辅区域的形状为矩形；所述主区域在取向摩擦方向上的宽度大于所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度。
2. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，在取向摩擦方向上，所述主区域和所述辅区域交替间隔设置。
3. 根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，任意一个所述主区域和与之相邻的一个所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度之和保持一致。
4. 根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，沿与取向摩擦方向垂直的方向排列的相邻两排所述亚像素之间仅设置有所述主区域或者所述辅区域。
5. 根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，在与取向摩擦方向垂直的方向上，在相邻两排所述亚像素之间所述主区域和所述辅区域交替间隔设置。
6. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度大于等于10μm。
7. 根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述主区域在取向摩擦方向上的宽度为30μm，所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度为10μm。
8. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物位于所述主区域的与取向摩擦方向垂直的中心线上。
9. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物位于所述主区域的与取向摩擦方向垂直的中心线相偏离的位置处，并向与取向摩擦方向相 反的方向偏离。
10. 一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的显示基板。”
驳回决定中指出：权利要求1与对比文件1的区别为：所述黑矩阵的全部或部分区域包括主区域和辅区域，位于取向摩擦方向上的相邻两个所述亚像素之间设有所述主区域或者所述辅区域，所述隔垫物位于所述主区域上，其中，所述主区域或辅区域的形状为矩形；所述主区域在取向摩擦方向上的宽度大于所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度。然而上述区别特征部分属于本领域的常用技术手段，部分是在对比文件1公开的内容的基础上容易做出的改进。因此权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-9的附加技术特征或是本领域的常用的技术手段，或是被对比文件1所公开，因此权利要求2-9不具备专利法第22条第3款规定的创造性。权利要求10包括了权利要求1-9任一项所述的显示基板，对比文件1也公开了一种显示用基板及显示装置，在引用的权利要求1-9不具备创造性的基础上，权利要求10也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人京东方科技集团股份有限公司、北京京东方光电科技有限公司（下称复审请求人）对上述驳回决定不服,于2018年10月16日向国家知识产权局提出了复审请求，同时提交了权利要求书的全文修改替换页，其中将特征“所述主区域和所述辅区域分别设置在任意相邻的两个所述亚像素之间；所述主区域设置有所述隔垫物，所述辅区域未设置所述隔垫物”、“沿所述亚像素排列的行方向和列方向，相邻所述主区域之间均间隔一个所述辅区域设置”增加到独立权利要求1中，并将权利要求1中“位于取向摩擦方向上的相邻两个所述亚像素之间设有所述主区域或者所述辅区域，所述隔垫物位于所述主区域上”删除，并删除从属权利要求2、4-5，同时还对权利要求的编号和引用关系作了适应性的修改。
复审请求人认为：（1）本申请中的黑矩阵分为主区域和辅区域，其形状为矩形，并且在同一行或同一列的黑矩阵有突出的部分和凹进去的部分，辅区域可对主区域进行补偿，显示基板的开口率几乎不变，亚像素透光区域的形状也不变。而对比文件1中的第一黑矩阵为梯形或两个邻接的梯形，为了保证矩形状的像素区域需要牺牲开口率，若为了保证开口率需要特制工艺设备。（2）本申请中每间隔一个亚像素设置一个隔垫物，整个阵列上，隔垫物的个数为像素个数的1/2，而对比文件1中每个亚像素对应设置一个隔垫物，并且还包括主隔垫物和副隔垫物，两者高度尺寸不同，因此有着不同宽度的黑矩阵补偿，进而亚像素的面积不同，从而导致开口率不同，影响显示效果。
复审请求时新修改的权利要求书如下：
“1. 一种显示基板，包括亚像素、设在各所述亚像素周围的黑矩阵和设在所述黑矩阵上的隔垫物，其特征在于，所述黑矩阵的全部或部分区域包括主区域和辅区域，所述主区域和所述辅区域分别设置在任意相邻的两个所述亚像素之间；所述主区域设置有所述隔垫物，所述辅区域未设置所述隔垫物，所述主区域能够遮挡取向摩擦阴影；
其中，所述主区域和所述辅区域的形状为矩形；所述主区域在取向摩擦方向上的宽度大于所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度；沿所述亚像素排列的行方向和列方向，相邻所述主区域之间均间隔一个所述辅区域设置。
2. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，任意一个所述主区域和与之相邻的一个所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度之和保持一致。
3. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度大于等于10μm。
4. 根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述主区域在取向摩擦方向上的宽度为30μm，所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度为10μm。
5. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物位于所述主区域的与取向摩擦方向垂直的中心线上。
6. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物位于所述主区域的与取向摩擦方向垂直的中心线相偏离的位置处，并向与取向摩擦方向相反的方向偏离。
7. 一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的显示基板。”
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年10月23日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年05月29日向复审请求人发出复审通知书，指出：（1）权利要求1中“所述主区域和所述辅区域分别设置在任意相邻的两个所述亚像素之间”超出了原说明书和权利要求书记载的范围；（2）若复审请求人根据说明书的记载进行修改，以克服权利要求1超范围的问题，则修改后的权利要求仍然存在不符合专利法第22条第3款规定的创造性的问题。权利要求1与对比文件1的区别为：黑矩阵的全部或部分区域包括主区域和辅区域，所述主区域和所述辅区域分别设置在沿取向摩擦方向上的相邻的两个亚像素之间，所述主区域设置有所述隔垫物，所述辅区域未设置所述隔垫物，所述主区域能够遮挡取向摩擦阴影；所述主区域和所述辅区域的形状为矩形；所述主区域在取向摩擦方向上的宽度大于所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度；沿所述亚像素排列的行方向和列方向，相邻所述主区域之间均间隔一个所述辅区域设置。然而上述区别技术特征是本领域的技术人员容易做出的改进，因此权利要求1不具备专利法第22条第3款规定创造性。从属权利要求2-6的附加技术特征或被对比文件1公开，或是本领域的公知常识，因此权利要求2-6不具备专利法第22条第3款规定的创造性。权利要求7的显示装置包括了权利要求1-6任一项所述的显示基板，对比文件1也公开了一种显示用基板及显示装置，在引用的权利要求1-6不具备创造性的基础上，权利要求7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
复审请求人于2019年07月04日提交了意见陈述书，并提交了权利要求书的全文修改替换页。其中将权利要求1中的特征“所述主区域和所述辅区域分别设置在任意相邻的两个所述亚像素之间”修改为“所述主区域和所述辅区域分别设置在沿取向摩擦方向上的任意相邻的两个所述亚像素之间”。
修改后的权利要求书如下：
“1. 一种显示基板，包括亚像素、设在各所述亚像素周围的黑矩阵和设在所述黑矩阵上的隔垫物，其特征在于，所述黑矩阵的全部或部分区域包括主区域和辅区域，所述主区域和所述辅区域分别设置在沿取向摩擦方向上的任意相邻的两个所述亚像素之间；所述主区域设置有所述隔垫物，所述辅区域未设置所述隔垫物，所述主区域能够遮挡取向摩擦阴影；
其中，所述主区域和所述辅区域的形状为矩形；所述主区域在取向摩擦方向上的宽度大于所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度；沿所述亚像素排列的行方向和列方向，相邻所述主区域之间均间隔一个所述辅区域设置。
2. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，任意一个所述主区域和与之相邻的一个所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度之和保持一致。
3. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度大于等于10μm。
4. 根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述主区域在取向摩擦方向上的宽度为30μm，所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度为10μm。
5. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物位于所述主区域的与取向摩擦方向垂直的中心线上。
6. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物位于所述主区域的与取向摩擦方向垂直的中心线相偏离的位置处，并向与取向摩擦方向相反的方向偏离。
7. 一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的显示基板。”
复审请求人认为：（1）复审通知书中指出对比文件1中记载，因为取向摩擦方向与第二方向有一定夹角，所以沿取向方向增加了黑矩阵的宽度，以使得隔垫物完全投影在黑矩阵上，同理，若如对比文件1记载，使摩擦方向与第二方向平行，进一步使隔垫物的阴影完全投射在相邻的两个显示单元之间的位置处，更有利于减小黑矩阵的宽度，增大开口率。但若摩擦方向与第二方向平行，隔垫物完全投射在相邻的两个显示单元之间的位置处，则对比文件1的方案无需增大黑矩阵的宽度。而本申请中的摩擦方向与第二方向平行，仍需要增加主区域的宽度。因此对比文件1并不需要如本申请一样，在避免摩擦投影的问题的基础上，考虑如何增大开口率的问题。（2）本申请中的黑矩阵分为主区域和辅区域，其形状为矩形，并且在同一行或同一列的黑矩阵有突出的部分和凹进去的部分，辅区域可对主区域进行补偿，显示基板的开口率几乎不变，亚像素透光区域的形状也不变。而对比文件1中的第一黑矩阵为梯形或两个邻接的梯形，为了保证矩形状的像素区域需要牺牲开口率，若为了保证开口率需要特制工艺设备。本申请中每间隔一个亚像素设置一个隔垫物，整个阵列上，隔垫物的个数为像素个数的1/2，而对比文件1中每个亚像素对应设置一个隔垫物，并且还包括主隔垫物和副隔垫物，两者高度尺寸不同，因此有着不同宽度的黑矩阵补偿，进而亚像素的面积不同，从而导致开口率不同，影响显示效果。（3）本申请中还考虑了如何避免显示污渍不良的问题，因此合理设置了隔垫物的位置、主区域和辅区域的位置关系、以及主区域和辅区域的尺寸关系。而对比文件1并没有给出“在不影响开口率的情况下，避免应用所述显示基板的显示装置所显示的画面存在污渍”的启示，也不属于本领域的惯用手段和公知常识。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
在复审程序中，复审请求人于2019年07月04日提交了权利要求书全文修改替换页，经合议组审查，所作的修改符合专利法第33条和专利法实施细则第61条第1款的规定。因此本复审决定是以申请日2015年05月27日提交的说明书第1-52段、说明书附图1-5、说明书摘要、摘要附图以及2019年07月04日提交的权利要求第1-7项为基础作出的。
（二）关于专利法第22条第3款
创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求的技术方案与作为最接近现有技术的对比文件相比存在区别技术特征，而该区别技术特征属于本领域的常用技术手段，且该权利要求的技术方案并没有由于该区别技术特征而具有预料不到的技术效果，则该权利要求不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备创造性。
具体到本案：
1.独立权利要求1请求保护一种显示基板，对比文件1公开了一种显示用基板（参见说明书第18-32段，附图3-4），包括衬底、形成在衬底上的黑矩阵2、隔垫物5以及摩擦膜层，黑矩阵2包括多条沿第一方向101排列的第一黑矩阵21和多条沿第二方向102排列的第二黑矩阵22，第一黑矩阵21和第二黑矩阵22交叉形成多个显示单元（参见说明书第18段，附图3、4）。隔垫物5位于对应黑矩阵2的位置处，且隔垫物5沿摩擦方向103的阴影投射在第一黑矩阵21上（说明书第19段）。隔垫物的阴影投射在黑矩阵上，则在形成摩擦沟槽的过程中，显示单元处均可以形成方向一致的摩擦沟槽，保证液晶初始方向的一致而不会漏光；阈值为沿第二方向102相邻的两条第二黑矩阵22的间距b与第一黑矩阵21在相邻的两条第二黑矩阵21之间最大宽度a的乘积，即阈值=b*a。而显示用基板上在黑矩阵交叉形成显示单元，黑矩阵的面积减小则对应显示单元的开口率就增大。相邻的两条第二黑矩阵之间的第一黑矩阵的面积小于相邻的两条第二黑矩阵的间距与第一黑矩阵在相邻的两条第二黑矩阵之间最大宽度的乘积。这样在保证隔垫物的阴影投射在第二黑矩阵的基础上，使得黑矩阵的面积较小，从而使得像素的开口率较大（说明书第22段）。隔垫物5位于第一黑矩阵21和第二黑矩阵22的交叉位置处，当然，隔垫物也可以是位于第一黑矩阵的其他位置处（说明书第23段）。黑矩阵包括多条沿第一方向排列的第一黑矩阵和多条沿第二方向排列的第二黑矩阵，隔垫物沿摩擦方向的阴影投射在第一黑矩阵上，其中，第一黑矩阵和第二黑矩阵的具体形状可以有多种不同的形式。位于相邻的两条第二黑矩阵之间的第一黑矩阵还可以是沿摩擦方向偏折从而使得隔垫物的膜层阴影投射在第一黑矩阵上（说明书第25段）。进一步优选的，所述第一黑矩阵的最大宽度等于所述隔垫物沿第一方向的最大底宽，所述第二黑矩阵的最大宽度等于所述隔垫物沿第二方向的最大底宽（说明书第26段）。可选的，如图3、图4所示，沿第一方向101相邻的两条第一黑矩阵21之间的第二黑矩阵22呈矩形。隔垫物5沿摩擦方向103的阴影投射在第一黑矩阵21上，则第二黑矩阵22在对应隔垫物之外的其他位置处的宽度越小越有利于增大像素开口率。沿第一方向101相邻的两条第一黑矩阵21之间的第二黑矩阵22也可以是其他形状（说明书第31段）。
经过分析对比可知，对比文件1中的隔垫物5位于对应黑矩阵2的位置处，即对应于权利要求1中的设在黑矩阵上的隔垫物；黑矩阵2包括多条沿第一方向101排列的第一黑矩阵21和多条沿第二方向102排列的第二黑矩阵22，第一黑矩阵21和第二黑矩阵22交叉形成多个显示单元，其中显示单元对应于权利要求1中的亚像素，并且黑矩阵设置在亚像素周围。
因此，权利要求1与对比文件1的区别为：黑矩阵的全部或部分区域包括主区域和辅区域，所述主区域和所述辅区域分别设置在沿取向摩擦方向上的相邻的两个亚像素之间，所述主区域设置有所述隔垫物，所述辅区域未设置所述隔垫物，所述主区域能够遮挡取向摩擦阴影；所述主区域和所述辅区域的形状为矩形；所述主区域在取向摩擦方向上的宽度大于所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度；沿所述亚像素排列的行方向和列方向，相邻所述主区域之间均间隔一个所述辅区域设置。基于上述区别技术特征可以确定，权利要求1实际解决的技术问题是如何设置黑矩阵的主区域和辅区域以及隔垫物从而能够遮挡取向摩擦阴影以及提高开口率。
对于上述区别技术特征，合议组认为：本申请中仅将沿一个方向设置的黑矩阵划分为主区域和辅区域，其中隔垫物设置于主区域中，由于靠近隔垫物的位置处存在摩擦阴影，因此通过将主区域的宽度增大以能够遮盖摩擦阴影，防止产生漏光现象。即本申请中通过调整隔垫物沿摩擦方向对应的位置处的黑矩阵的宽度，使隔垫物沿摩擦方向的阴影投射在黑矩阵上来遮蔽取向摩擦阴影，从而防止漏光产生。而在液晶显示面板中，通常在对应于扫描线和数据线的位置处均设置有用于遮光的黑矩阵，即沿水平方向和垂直方向的黑矩阵，并且用于支撑的隔垫物设置于相邻的像素区域对角的位置也是常见的，对于这样的结构，对比文件1中为了解决靠近隔垫物位置处存在摩擦阴影而导致漏光，采取了将隔垫物沿摩擦取向的方向的投影处的黑矩阵加宽的方式，防止该位置产生漏光。也就是说，对比文件1与本申请都是通过增大黑矩阵的面积对隔垫物沿摩擦方向的阴影进行遮蔽来防止产生漏光，因此属于同样的发明构思。不同的是，对比文件1中的隔垫物设置的位置、摩擦方向与本申请中的略有不同，相应地遮蔽隔垫物的摩擦阴影的黑矩阵的形状也不同。然而，在液晶显示领域中，为了不影响显示效果以及提高开口率，用于支撑的隔垫物通常设置在像素区域的外侧即形成有黑矩阵的区域，例如在水平或垂直方向上相邻的像素区域之间或是相邻的像素区域的相对角的位置处，因此对应于隔垫物设置不同位置的情况，以及摩擦方向的不同其相对应遮蔽的黑矩阵位置也不同。此外，对应于不同位置处的隔垫物，本领域的技术人员容易想到，根据隔垫物具体位置的设置以及摩擦方向来对黑矩阵形状的做出相应的调整。对于设置于相邻两像素之间的隔垫物，由于其摩擦方向与数据线方向相同，因此摩擦阴影也相应地形成于该方向上，此时只需要增加在该方向上靠近隔垫物的黑矩阵的宽度从而能够将摩擦阴影完全遮蔽，这种对黑矩阵结构的改进对本领域的技术人员来说是显而易见的。在此基础上，进一步对隔垫物和对具有不同宽度的黑矩阵的排列方式的调整也是容易实现的。
因此权利要求1请求保护的技术方案相对于对比文件1和本领域的常用技术手段的结合不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
针对复审请求人在答复复审通知书时提交的意见，合议组认为：（1）如前述对权利要求1的评述，对比文件1与本申请的发明构思相同，虽然隔垫物设置的位置不同、对应遮光的黑矩阵的区域以及黑矩阵的宽度也不相同，但是在本领域中如何提高像素区域的开口率是普遍存在的问题，因此本领域的技术人员在对基板上的元件或结构做出改进时，必然会考虑到对整体面板开口率的影响。如对比文件1中记载了：摩擦方向与第二方向102平行，进一步有理由使得隔垫物的阴影完全投射在相邻的两个显示单元中间的位置处，更有利于减小黑矩阵的宽度，增大像素的开口率（说明书第32段）。也就是说，对比文件1中对黑矩阵的形状的设置是在完全考虑到其宽度能够遮蔽摩擦阴影并且尽量保证像素的开口率的情况下，所做出的改进。另外，在液晶显示领域中，为了不影响显示效果以及提高开口率，用于支撑的隔垫物通常设置在像素区域的外侧即形成有黑矩阵的区域，例如在水平或垂直方向上相邻的像素区域之间或是相邻的像素区域的相对角的位置处，因此对应于隔垫物设置不同位置的情况，以及摩擦方向的不同其相对应遮蔽的黑矩阵位置也不同。当隔垫物设置于沿垂直方向相邻的两像素区域之间位置时，在对比文件1给出的启示下，由于摩擦方向与黑矩阵的延伸方向不相同，此时需要在设置有隔垫物位置处沿摩擦方向增大黑矩阵的宽度以使隔垫物的投影落入黑矩阵的区域内，考虑到整体的开口率对于未设置有隔垫物的位置处的黑矩阵的宽度，则可以不改变其形状或相应地减小宽度以满足能够遮蔽信号线的宽度即可。因此对应于不同位置处的隔垫物，其具有不同对应形状的黑矩阵，这种根据隔垫物位置的设置来对黑矩阵形状的调整对本领域的技术人员来说，是容易想到并实现的，其技术效果也是能够预料得到的。
（2）在液晶显示领域中，如前所述，在考虑到遮光效果以及像素的开口率的基础上，根据不同的需求可以在不同的位置设置不同的隔垫物，对本领域技术人员来说，根据具体隔垫物的位置以及摩擦方向来相应的调整黑矩阵的宽度，是容易做出的改进。
（3）首先，本申请的原始申请文件中并没有描述其要解决避免污渍不良的技术问题。其次，即使如复审请求人在意见陈述中指出的，本申请是在考虑了避免污渍不良的问题后对间隔体的位置进行合理的设置，然而在液晶显示领域中，液晶面板中的结构元件的设置都需要充分考虑到显示效果以及像素的开口率，对于间隔物的设置也是根据不同的需求和效果从而对其在大小、数量以及具体位置上进行选择和设置的，因此对于复审请求人声称的可能产生污渍不良的显示效果，本领域的技术人员能够依据现有技术中常用的技术手段以及光学基本原理对不同间隔物设置方式及其所产生的效果进行相应的调整或改进，这也是本领域的公知常识。
因此合议组对复审请求人的意见不予接受。
2.从属权利要求2-4分别对辅区域和主区域的宽度作了进一步的限定，然而对于主区域和辅区域的具体尺寸的选择是本领域的技术人员能够依据基板的结构以及摩擦区域等参数容易做出的，因此当引用的权利要求不具备创造时，权利要求2-4也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3.权利要求5-6引用权利要求1，并分别对隔垫物的位置做了具体的限定。为了使黑矩阵能够遮蔽取向膜对应隔垫物附近未能摩擦取向的部分，将隔垫物在摩擦取向的方向的投影完全落在黑矩阵主区域的位置处，因此将隔垫物设置于主区域与取向摩擦方向相垂直的中心线上，或是设置于与该中心线相偏离的位置处，并向与取向摩擦方向相反的方向偏离，从而使黑矩阵能够遮蔽取向摩擦阴影区域，这样的设置对本领域的技术人员来说，都是能够根据具体的情况容易做出的调整。因此当引用的权利要求不具备创造性时，权利要求5-6也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
4.独立权利要求7请求保护一种显示装置，包括权利要求1-6任一项所述的显示基板，对比文件1公开了一种显示装置，包括显示基板如前所述（参见说明书第18-32段，附图3-4）。基于前述对权利要求1-6的评述，权利要求7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
综上所述，权利要求1-7均不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年07月03日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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