发明创造名称：粗糙化的基板支撑件
外观设计名称：
决定号：191526
决定日：2019-09-27
委内编号：1F255577
优先权日：2012-07-27
申请（专利）号：201380037798.0
申请日：2013-07-12
复审请求人：应用材料公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：李家刚
合议组组长：倪永乐
参审员：王子瑜
国际分类号：C23C16/458，B24C1/00
外观设计分类号：
法律依据：专利法第26条第4款
决定要点
：权利要求的保护范围应当根据其所用词语的含义来理解，如果权利要求中存在本领域技术人员难以理解的表述，导致无法准确地理解和确定权利要求请求保护的技术方案，则该权利要求未能清楚地限定要求专利保护的范围。
全文：
本复审请求审查决定涉及申请号为201380037798.0，名称为“粗糙化的基板支撑件”的发明专利申请。申请人为应用材料公司。本申请的申请日为2013年7月12日，优先权日为2012年7月27日，公开日为2015年4月8日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门审查员于2018年4月25日发出驳回决定，驳回了本发明专利申请，其理由是：权利要求1-6相对于对比文件3（CN101312225 A,公开日为2008年11月26日）和常规技术手段的结合不具备创造性，权利要求7-14相对于对比文件3、对比文件1（CN101353786 A,公开日为2009年1月28日）、对比文件2（US5423713 A，公开日为1995年6月13日）和常规技术手段的结合不具备创造性，权利要求1-14不符合专利法第22条第3款的规定。驳回决定所依据的文本为：2015年1月15日提交的说明书第1-44段、说明书附图、说明书摘要、摘要附图；2018年1月11日提交的权利要求第1-14项。驳回决定所针对的权利要求书如下：
1. 一种基板支撑件，包括：
基板支撑件主体，具有表面粗糙度，所述表面粗糙度介于约707微英寸及约834微英寸之间；以及
阳极处理涂布层，位于所述基板支撑件上，其中所述基板支撑件主体的具有所述表面粗糙度的表面转变成所述阳极处理涂布层的一部分。
2. 如权利要求1所述的基板支撑件，其特征在于，所述基板支撑件主体包括铝。
3. 如权利要求1所述的基板支撑件，其特征在于，该阳极处理涂布层的厚度介于约23μm至约27μm之间。
4. 如权利要求1所述的基板支撑件，其特征在于，所述基板支撑件主体具有内表面，其中所述内表面具有表面粗糙度，其中所述表面粗糙度转变成所述阳极处理涂布层。
5. 如权利要求1所述的基板支撑件，其特征在于，进一步包括一基板，其中所述阳极处理涂布层具有外表面，所述外表面具有被配置成促进沉积于基板上的膜厚的均匀度的表面抛光。
6. 如权利要求5所述的基板支撑件，其特征在于，所述表面抛光具有约707微英寸至约847微英寸的粗糙度。
7. 一种基板支撑件，包括粗糙化基板支撑件主体，其中所述粗糙化基板支撑件主体具有表面粗糙度，所述表面粗糙度介于约707微英寸及约834微英寸之间，并且所述粗糙化基板支撑件主体由喷珠工艺形成，所述喷珠工艺包括：
于第一工艺中对所述基板支撑件主体的表面进行喷珠，其中所述珠体具有第一磨粒尺寸；以及
于第二工艺中对所述基板支撑件主体的所述表面进行喷珠，其中所述珠体具有第二磨粒尺寸，所述第二磨粒尺寸小于所述第一磨粒尺寸，其中所述第二工艺进一步包括：
使所述喷嘴于第一方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；沿着所述基板支撑件的所述表面转换所述喷嘴于第二方向中；
使所述喷嘴于第三方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；
转动所述基板支撑件约90度；
使所述喷嘴于所述第一方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；
沿着所述基板支撑件的所述表面转换所述喷嘴于所述第二方向中；以及
使所述喷嘴于所述第三方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面，其中所述第二方向是垂直于所述第一方向，且所述第三方向相反于所述第一方向；以及
对所述基板支撑件主体进行阳极处理以形成阳极处理涂布层，其中所述粗糙化基板支撑件主体的所述经喷珠处理的表面转变成所述阳极处理涂布层的一部分。
8. 如权利要求7所述的基板支撑件，其特征在于，所述粗糙化基板支撑件主体包括铝。
9. 如权利要求7所述的基板支撑件，其特征在于，进一步包括阳极处理涂布层。
10. 如权利要求9所述的基板支撑件，其特征在于，所述阳极处理涂布层的厚度介于约23μm至约27μm之间。
11. 如权利要求9所述的基板支撑件，其特征在于，所述粗糙化基板支撑件主体具有内表面，其中所述内表面具有表面粗糙度，其中所述表面粗糙度转变成所述阳极处理涂布层。
12. 如权利要求9所述的基板支撑件，其特征在于，进一步包括一基板，其中所述阳极处理涂布层具有外表面，所述外表面具有被配置成促进沉积于基板 上的膜厚的均匀度的表面抛光。
13. 如权利要求12所述的基板支撑件，其特征在于，所述表面抛光具有约707微英寸至约847微英寸的粗糙度。
14. 如权利要求7所述的基板支撑件，其特征在于，所述第二工艺进一步包括重复执行：
逆时针转动所述基板支撑件90度；
使所述喷嘴于所述第一方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；
沿着所述基板支撑件的所述表面转换所述喷嘴于所述第二方向中；以及
使所述喷嘴于所述第三方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面。
驳回决定认为：权利要求1请求保护的技术方案与对比文件3的区别技术特征为：表面粗糙度介于约707微英寸及约834微英寸之间。对于上述区别技术特征，根据实际工艺需要，本领域技术人员通过有限的试验即可获得所需的表面粗糙度；权利要求7请求保护的技术方案与对比文件3的区别技术特征为：①表面粗糙度介于约707微英寸及约834微英寸之间；②具体的喷珠工艺。对于区别技术特征①，根据实际工艺需要，本领域技术人员通过有限的试验即可获得所需的表面粗糙度，对于区别技术特征②，对比文件1和对比文件2中给出了相应的技术启示。因此，权利要求1和7不具备创造性，在此基础上，从属权利要求2-6和8-14也不具备创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服,于2018年7月9日向国家知识产权局提出了复审请求，未提交修改文件。复审请求人认为：（1）对于权利要求1中的范围，可能需要上万次的试验，2800次甚至高达上万次的试验也被认为是有限试验是不合逻辑的；（2）关于权利要求1，对比文件3倾向于通过粗糙化来产生更多的锋锐尖端或高点来改进电接触，而本申请倾向于通过获得具有特定粗糙度的粗糙化表面来减少锋锐尖端或高点；（3）对比文件3中阳极化层206的粗糙度是通过额外且单独的工艺处理的，而不是从基板支架组件的粗糙表面的粗糙度转变的，且对比文件3没有公开阳极化层的粗糙度并且阳极化层的粗糙度可能完全不同于基板支架组件表面的粗糙度，本申请则是“阳极处理涂布层210的表面抛光可通过处理在基板140下的外部的基板支撑表面204的至少一部分220来达成”；（4）对比文件2公开的是一种加强蚀刻深度均匀性的蚀刻方法，而不是粗糙化方法；（5）本领域技术人员不会将对比文件1应用于对比文件3，因为这样的话，对比文件3中的锋锐尖端或高点会减少从而接触程度会增加，背离对比文件3的原理，对比文件3倾向于产生更多的锋锐尖端或高点以减少接触程度。同时，对比文件1中所用喷珠的直径远远小于对比文件3中喷珠的直径。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年7月16日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为，权利要求1仅仅限定了粗糙度，未记载两次粗化工艺，且对比文件1公开了两次细珠喷射以减低电弧放电和玻璃基板表面损坏；对比文件3和本申请所要解决的技术问题均是降低基板支撑件与基板之间放电，因而坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年6月5日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1、4、7和11不清楚，不符合专利法第26条第4款的规定。
复审请求人于2019年7月17日提交了意见陈述书，并修改了权利要求书，其中修改了权利要求1以记载“其中所述基板支撑件主体的所述表面粗糙度转变成所述阳极处理涂布层”，修改了权利要求7以记载“其中所述粗糙化基板支撑件主体的所述经喷珠处理的表面转变成所述阳极处理涂布层”。然而，复审请求人并未针对复审通知书中指出的不清楚缺陷进行意见陈述，仅仅认为对比文件3没有提供为何需要其所公开的宽的粗糙度范围的任何特定原因或重要性，本申请所要求保护的粗糙度范围实现了意想不到的技术效果。复审请求人于2019年7月17日提交的权利要求书如下：
1. 一种基板支撑件，包括：
基板支撑件主体，具有表面粗糙度，所述表面粗糙度介于约707微英寸及约834微英寸之间；以及
阳极处理涂布层，位于所述基板支撑件上，其中所述基板支撑件主体的所述表面粗糙度转变成所述阳极处理涂布层。
2. 如权利要求1所述的基板支撑件，其特征在于，所述基板支撑件主体包括铝。
3. 如权利要求1所述的基板支撑件，其特征在于，该阳极处理涂布层的厚度介于约23μm至约27μm之间。
4. 如权利要求1所述的基板支撑件，其特征在于，所述基板支撑件主体具有内表面，其中所述内表面具有表面粗糙度，其中所述表面粗糙度转变成所述阳极处理涂布层。
5. 如权利要求1所述的基板支撑件，其特征在于，进一步包括一基板，其中所述阳极处理涂布层具有外表面，所述外表面具有被配置成促进沉积于基板上的膜厚的均匀度的表面抛光。
6. 如权利要求5所述的基板支撑件，其特征在于，所述表面抛光具有约707微英寸至约847微英寸的粗糙度。
7. 一种基板支撑件，包括粗糙化基板支撑件主体，所述粗糙化基板支撑件主体由喷珠工艺形成，所述喷珠工艺包括：
于第一工艺中对所述基板支撑件主体的表面进行喷珠，其中所述珠体具有第一磨粒尺寸；以及
于第二工艺中对所述基板支撑件主体的所述表面进行喷珠，其中所述珠体具 有第二磨粒尺寸，所述第二磨粒尺寸小于所述第一磨粒尺寸，其中所述第二工艺进一步包括：
使所述喷嘴于第一方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；沿着所述基板支撑件的所述表面转换所述喷嘴于第二方向中；
使所述喷嘴于第三方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；
转动所述基板支撑件约90度；
使所述喷嘴于所述第一方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；
沿着所述基板支撑件的所述表面转换所述喷嘴于所述第二方向中；以及
使所述喷嘴于所述第三方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面，其中所述第二方向是垂直于所述第一方向，且所述第三方向相反于所述第一方向；以及
对所述基板支撑件主体进行阳极处理以形成阳极处理涂布层，其中所述粗糙化基板支撑件主体的所述经喷珠处理的表面转变成所述阳极处理涂布层，其中所述粗糙化基板支撑件主体具有表面粗糙度，所述表面粗糙度介于约707微英寸及约834微英寸之间。
8. 如权利要求7所述的基板支撑件，其特征在于，所述粗糙化基板支撑件主体包括铝。
9. 如权利要求7所述的基板支撑件，其特征在于，进一步包括阳极处理涂布层。
10. 如权利要求9所述的基板支撑件，其特征在于，所述阳极处理涂布层的厚度介于约23μm至约27μm之间。
11. 如权利要求9所述的基板支撑件，其特征在于，所述粗糙化基板支撑件主体具有内表面，其中所述内表面具有表面粗糙度，其中所述表面粗糙度转变成所述阳极处理涂布层。
12. 如权利要求9所述的基板支撑件，其特征在于，进一步包括一基板，其中所述阳极处理涂布层具有外表面，所述外表面具有被配置成促进沉积于基板上的膜厚的均匀度的表面抛光。
13. 如权利要求12所述的基板支撑件，其特征在于，所述表面抛光具有约707微英寸至约847微英寸的粗糙度。
14. 如权利要求7所述的基板支撑件，其特征在于，所述第二工艺进一步包括重复执行：
逆时针转动所述基板支撑件90度；
使所述喷嘴于所述第一方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；
沿着所述基板支撑件的所述表面转换所述喷嘴于所述第二方向中；以及
使所述喷嘴于所述第三方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本
复审请求人于2019年7月17日答复复审通知书时提交了权利要求书的替换页，本复审决定针对的审查文本为：2019年7月17日提交的权利要求第1-14项，2015年1月15日提交的原始国际申请中文译文的说明书第1-44段、说明书附图、说明书摘要、摘要附图。
关于专利法第26条第4款
专利法第26条第4款规定，权利要求书应当以说明书为依据，清楚、简要地限定要求专利保护的范围。
权利要求的保护范围应当根据其所用词语的含义来理解，如果权利要求中存在本领域技术人员难以理解的表述，导致无法准确地理解和确定权利要求请求保护的技术方案，则该权利要求未能清楚地限定要求专利保护的范围。
就本申请而言，权利要求1中的“其中所述基板支撑件主体的所述表面粗糙度转变成所述阳极处理涂布层”、权利要求4中的“所述基板支撑件主体具有内表面，其中所述内表面具有表面粗糙度，其中所述表面粗糙度转变成所述阳极处理涂布层”、权利要求7中的“其中所述粗糙化基板支撑件主体的所述经喷珠处理的表面转变成所述阳极处理涂布层”和权利要求11中的“所述粗糙化基板支撑件主体具有内表面，其中所述内表面具有表面粗糙度，其中所述表面粗糙度转变成所述阳极处理涂布层”不清楚，权利要求1、4、7和11不符合专利法第26条第4款的规定，理由如下：
对于权利要求1、4和11，“表面粗糙度”作为表征表面特性的参数，显然不可能“转变成”阳极处理涂布层；对于权利要求7，基板支撑件主体的“所述经喷珠处理的表面”显然还是基板支撑件主体的表面，不可能“转变”成阳极处理涂布层，事实上，根据本申请说明书第[0028]-[0030]段和附图2（原始说明书第4页15-28行）的描述，阳极处理涂布层210覆盖至少主体202的支撑表面204，涂布层包括一外表面212及一内表面214，内表面一般直接设置于主体202上，由图2可知，内表面214和支撑表面204接触，并不存在“所述经喷珠处理的表面转变成所述阳极处理涂布层”，仅仅是主体的支撑表面和阳极处理涂布层的内表面接触。
对复审请求人相关意见的评述
复审请求人未就权利要求1、4、7和11不清楚的缺陷进行意见陈述。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年4月25日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,复审请求人可自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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