发明创造名称：高功率内腔倍频单频激光器
外观设计名称：
决定号：190601
决定日：2019-09-20
委内编号：1F266888
优先权日：
申请（专利）号：201510154899.7
申请日：2015-04-02
复审请求人：山西大学
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：刘时雄
合议组组长：马镯
参审员：李鹏飞
国际分类号：H01S3/109；H01S3/10；H01S3/16；H01S3/091
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求所请求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征，其中该区别技术特征的一部分被另一对比文件公开，且给出结合的技术启示，其余部分是所属领域的公知常识，则该权利要求的技术方案是显而易见的，该权利要求不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201510154899.7，名称为“高功率内腔倍频单频激光器”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为山西大学。本申请的申请日为2015年04月02日 ，公开日为2015年06月24日。
经实质审查，国家知识产权局专利实质审查部门于2018年10月09日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-4不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为：2018年07月26日提交的权利要求第1-4项；申请日2015年04月02日提交的说明书第1-5页、说明书附图第1-2页、说明书摘要及摘要附图。
驳回决定中引用的对比文件为：
对比文件1：CN101355224A，公开日为2009年01月28日；
对比文件2：WO2014/034567A1，公开日为2014年03月06日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种高功率内腔倍频单频激光器，包括泵浦源(1)、增益晶体(2)、环形谐振腔、由置于永磁体内的磁光介质(3)和半波片(4)组成的单向器，倍频晶体(6)以及热透镜效应补偿片(5)，其特征在于在紧靠磁光介质(3)处放置有热透镜效应补偿片(5)，用于动态补偿磁光介质(3)的热透镜效应；所述的热透镜效应补偿片(5)为具有负热光系数且两通光面相互平行的光学晶体薄片；
所述的热透镜效应补偿片(5)和磁光介质(3)均放置在有基频光通过，无倍频光通过的光路中；
所述磁光介质(3)是TGG晶体，长度为8mm，对基频光吸收系数为0.003/cm，所述光学晶体为DKDP晶体，厚度为0.49mm；
所述增益晶体(2)的后端面有一个1.5°的楔角作为偏振分束器；
所述泵浦源(1)的中心波长为888nm，光纤芯径为400μm，数值孔径为0.22，最大输出功率为90W。
2. 根据权利要求1所述的高功率内腔倍频单频激光器，其特征在于所述的泵浦源(1)的泵浦方式为端面泵浦或侧面泵浦。
3. 根据权利要求1所述的高功率内腔倍频单频激光器，其特征在于所述的泵浦源(1)的数量为1个或1个以上。
4. 根据权利要求1所述的高功率内腔倍频单频激光器，其特征在于所述的泵浦源(1)的泵浦功率大于30W。”
驳回决定具体指出：（1）权利要求1请求保护一种高功率内腔倍频单频激光器器，对比文件1公开了一种高功率单频内腔倍频激光器，权利要求1与对比文件1相比的区别技术特征在于：还包含热透镜效应补偿片，在紧靠磁光介质处放置，用于动态补偿磁光介质的热透镜效应，热透镜效应补偿片为具有负热光系数且两通光面相互平行的光学晶体薄片；热透镜效应补偿片放置在有基频光通过，无倍频光通过的光路中；磁光介质是TGG晶体，长度为8mm，对基频光吸收系数为0.003/cm，光学晶体为DKDP晶体，厚度为0.49mm；增益晶体的后端面的楔角为1.5°；泵浦源的中心波长为888nm，光纤芯径为400μm，数值孔径为0.22，最大输出功率为90W。上述区别技术特征的一部分被对比文件2公开，其余部分属于本领域的常用技术手段。所以，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域公知常识得到权利要求1所要求保护的技术方案，对本领域技术人员而言是显而易见的，因此权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）从属权利要求2-4的附加技术特征被对比文件1公开。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，权利要求2-4也不具备创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年11月22日向国家知识产权局提出了复审请求，同时提交了权利要求书的全文修改替换页，其中修改涉及：（1）在独立权利要求1中增加技术特征“所述的热透镜效应补偿片的厚度由以下公式确定： ，其中，l1、Kc1、dn1/dt、α1分别为磁光介质的长度、导热系数、热光系数以及对腔内基频光的吸收系数；Kc2、dn2/dt、α2分别为具有负热光系数的透镜效应补偿片的导热系数、热光系数以及对腔内基频光的吸收系数；采用四镜环形谐振腔结构，由第一腔镜、第二腔镜、第三腔镜、第四腔镜组成，第一腔镜为凹凸镜，凹面镀有泵浦光高透膜，凸面镀有泵浦光高透和基频光高反膜；第二腔镜为平凸镜，凸面镀有基频光高反膜；第三腔镜为平凹镜，凹面镀有基频光高反膜；第四腔镜为平凹镜，凹面镀有基频光高反和倍频光高透膜，平面镀有倍频光高透膜”。
提出复审请求时提交的权利要求1如下：
“1. 一种高功率内腔倍频单频激光器，包括泵浦源(1)、增益晶体(2)、环形谐振腔、由置于永磁体内的磁光介质(3)和半波片(4)组成的单向器，倍频晶体(6)以及热透镜效应补偿片(5)，其特征在于在紧靠磁光介质(3)处放置有热透镜效应补偿片(5)，用于动态补偿磁光介质(3)的热透镜效应；所述的热透镜效应补偿片(5)为具有负热光系数且两通光面相互平行的光学晶体薄片；
所述的热透镜效应补偿片(5)和磁光介质(3)均放置在有基频光通过，无倍频光通过的光路中；
所述磁光介质(3)是TGG晶体，长度为8mm，对基频光吸收系数为0.003/cm，所述光学晶体为DKDP晶体，厚度为0.49mm；
所述增益晶体(2)的后端面有一个1.5°的楔角作为偏振分束器；
所述泵浦源(1)的中心波长为888nm，光纤芯径为400μm，数值孔径为0.22，最大输出功率为90W；
所述的热透镜效应补偿片的厚度由以下公式确定：
；
其中，l1、Kc1、dn1/dt、α1分别为磁光介质的长度、导热系数、热光系数以及对腔内基频光的吸收系数；Kc2、dn2/dt、α2分别为具有负热光系数的透镜效应补偿片的导热系数、热光系数以及对腔内基频光的吸收系数；
采用四镜环形谐振腔结构，由第一腔镜、第二腔镜、第三腔镜、第四腔镜组成，第一腔镜为凹凸镜，凹面镀有泵浦光高透膜，凸面镀有泵浦光高透和基频光高反膜；第二腔镜为平凸镜，凸面镀有基频光高反膜；第三腔镜为平凹镜，凹面镀有基频光高反膜；第四腔镜为平凹镜，凹面镀有基频光高反和倍频光高透膜，平面镀有倍频光高透膜。”
复审请求人认为：（1）对比文件1中并未公开在基频光的光路上设置热透镜效应补偿片以动态补偿磁光介质产生的热透镜效应的技术方案，更未公开通过公式计算基频光的光路上热透镜效应补偿片厚度的技术方案；对比文件2中虽然公开了通过负热光学定数的DKV晶体补偿TGG结晶或TSON结晶的热透镜效应的技术方案，但是对比文件2并未公开在内腔倍频单频激光器设置热效应补偿片的技术方案，更未公开将热效应补偿片设置基频光光路中，并且也没有公开计算热效应补偿片的厚度的方法；并且对比文件2中也未给出将热效应补偿片设置在谐振腔的基频光光路中的技术启示。（2）对比文件1中的腔镜12和腔镜13与新修改的权利要求1中的第一腔镜10和第二腔镜11是不同的，而在高功率激光器中，采用凸面腔镜可以补偿增益晶体的热透镜效应，进而提升激光器的输出功率。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年11月28日依法受理了该复审请求，并将其转送至原专利实质审查部门进行前置审查。
原专利实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本申请进行审理。
合议组于2019年07月31日向复审请求人发出复审通知书，指出：1）权利要求1请求保护一种高功率内腔倍频单频激光器，对比文件1公开了一种高功率单频内腔倍频激光器，权利要求1与对比文件1的区别技术特征在于：（1）热透镜效应补偿片，紧靠磁光介质处放置，用于动态补偿磁光介质的热透镜效应；所述的热透镜效应补偿片为具有负热光系数且两通光面相互平行的光学晶体薄片，所述光学晶体为DKDP晶体，厚度为0.49mm；所述的热透镜效应补偿片和磁光介质均放置在有基频光通过，无倍频光通过的光路中；所述的热透镜效应补偿片的厚度由以下公式确定： ，其中，l1、Kc1、dn1/dt、α1分别为磁光介质的长度、导热系数、热光系数以及对腔内基频光的吸收系数；Kc2、dn2/dt、α2分别为具有负热光系数的透镜效应补偿片的导热系数、热光系数以及对腔内基频光的吸收系数；（2）所述磁光介质是TGG晶体，长度为8mm，对基频光吸收系数为0.003/cm；（3）所述泵浦源的中心波长为888nm，光纤芯径为400μm，数值孔径为0.22，最大输出功率为90W；（4）增益晶体的楔角为1.5°，（5）第一腔镜为凹凸镜、第二腔镜为平凸镜。关于区别技术特征（1），对比文件2公开了准直透镜55和隔离器60之间放置DKDP晶体70，可以补偿隔离器60的TGG晶体产生的热透镜效应，DKDP晶体具有负热光系数；即其给出了“抵消热效应”的技术启示，本领域技术人员熟知：当TGG晶体和DKDP晶体补偿片紧挨时，为了二者的热透镜效应可以相互补偿，它们的有效焦距应当相等，即fTGG＝-fDKDP时，二者的热透镜效应可以相互抵消，本领域技术人员在对比文件1和2的基础上结合本领域的公知常识能够推导得出热透镜效应补偿片的厚度公式并根据相应参数计算得到合适的厚度，无需付出创造性的劳动；上述区别技术特征（2）-（5）均是本领域技术人员在对比文件1基础上容易做出的常规选择。所以，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域的公知常识得出权利要求1的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，因此权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。2）从属权利要求2-4的附加特征已被对比文件1公开，因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，从属权利要求2-4也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。3）合议组针对复审请求人的意见陈述进行了答复。
针对上述复审通知书，复审请求人于2019年08月20日提交了意见陈述书和权利要求书的全文修改替换页，其中修改涉及：在权利要求1中增加技术特征“增益晶体为a轴切割的YVO4 Nd：YVO4复合晶体，尺寸为3mm×3mm×(3 20)mm，前端3mm为非掺杂的YVO4晶体，后面20mm为掺杂浓度为0.8％的 Nd：YVO4晶体”。
答复复审通知书时提交的权利要求书如下：
“1. 一种高功率内腔倍频单频激光器，包括泵浦源(1)、增益晶体(2)、环形谐振腔、由置于永磁体内的磁光介质(3)和半波片(4)组成的单向器，倍频晶体(6)以及热透镜效应补偿片(5)，其特征在于在紧靠磁光介质(3)处放置有热透镜效应补偿片(5)，用于动态补偿磁光介质(3)的热透镜效应；所述的热透镜效应补偿片(5)为具有负热光系数且两通光面相互平行的光学晶体薄片；
所述的热透镜效应补偿片(5)和磁光介质(3)均放置在有基频光通过，无倍频光通过的光路中；
所述磁光介质(3)是TGG晶体，长度为8mm，对基频光吸收系数为0.003/cm，所述光学晶体为DKDP晶体，厚度为0.49mm；
所述增益晶体(2)的后端面有一个1.5°的楔角作为偏振分束器；
所述泵浦源(1)的中心波长为888nm，光纤芯径为400μm，数值孔径为0.22，最大输出功率为90W；
所述的热透镜效应补偿片的厚度由以下公式确定：
；
其中，l1、Kc1、dn1/dt、α1分别为磁光介质的长度、导热系数、热光系数以及对腔内基频 光的吸收系数；Kc2、dn2/dt、α2分别为具有负热光系数的透镜效应补偿片的导热系数、热光系数以及对腔内基频光的吸收系数；
采用四镜环形谐振腔结构，由第一腔镜、第二腔镜、第三腔镜、第四腔镜组成，第一腔镜为凹凸镜，凹面镀有泵浦光高透膜，凸面镀有泵浦光高透和基频光高反膜；第二腔镜为平凸镜，凸面镀有基频光高反膜；第三腔镜为平凹镜，凹面镀有基频光高反膜；第四腔镜为平凹镜，凹面镀有基频光高反和倍频光高透膜，平面镀有倍频光高透膜；
增益晶体为a轴切割的YVO4 Nd：YVO4复合晶体，尺寸为3mm×3mm×(3 20)mm，前端3mm为非掺杂的YVO4晶体，后面20mm为掺杂浓度为0.8％的 Nd：YVO4晶体。
2. 根据权利要求1所述的高功率内腔倍频单频激光器，其特征在于所述的泵浦源(1)的泵浦方式为端面泵浦或侧面泵浦。
3. 根据权利要求1所述的高功率内腔倍频单频激光器，其特征在于所述的泵浦源(1)的数量为1个或1个以上。
4. 根据权利要求1所述的高功率内腔倍频单频激光器，其特征在于所述的泵浦源(1)的泵浦功率大于30W。”
复审请求人认为：根据说明书第29段的记载，上述修改符合专利法第33条的规定。修改后的权利要求1与对比文件1存在区别特征：（1）增益晶体为a轴切割的YVO4 Nd：YVO4复合晶体，尺寸为3mm×3mm×(3 20)mm，前端3mm为非掺杂的YVO4晶体，后面20mm为掺杂浓度为0.8％的Nd：YVO4晶体；（2）采用四镜环形谐振腔结构，由第一腔镜、第二腔镜、第三腔镜、第四腔镜组成，第一腔镜为凹凸镜，第二腔镜为平凸镜。当Nd 3 离子的掺杂浓度为0.8%时，吸收系数会发生极大的倍增避免了光束畸变，前端非掺杂部分可以缓解端面形变引起的热效应。
对比文件1和对比文件2都未公开将增益晶体的前端和后端设置成非掺杂部分和掺杂部分，通过非掺杂部分更好的降低晶体内部的温度梯度，也没公开掺杂部分的掺杂浓度为0.8％的Nd以倍增增益晶体对泵浦光的吸收系数。
本申请采用四镜环形谐振腔结构，第一腔镜为凹凸镜，第二腔镜为平凸镜，并非是本领域的常规选择，而是经过研究发现增益晶体的端面受热会膨胀凸起，会产生一定的热透镜效应的问题，本申请使用凸面腔镜以缓解增益晶体热透镜效应从而提升激光器输出功率。要作出这种选择，首先需要发现增益晶体的端面受热会膨胀凸起的技术问题，并以此才能选择凸面镜作为腔镜。对比文件1没有发现上述问题，也没有给出相应的技术方案。
因此，权利要求1具备专利法第22条第3款规定的创造性，其从属权利要求2-4也具备创造性。
在上述程序的基础上，合议组认为本申请事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
复审请求人在答复复审通知书时提交了权利要求书的全文修改替换页，经核实，修改符合专利法第33条的规定，本复审请求审查决定所针对的文本为：2019年08月20日提交的权利要求第1-4项，申请日2015年04月02日提交的说明书第1-5页、说明书附图第1-2页、说明书摘要和摘要附图。
（二）关于专利法第22条第3款
创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求所请求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征，其中该区别技术特征的一部分被另一对比文件公开，且给出结合的技术启示，其余部分是所属领域的公知常识，则该权利要求的技术方案是显而易见的，该权利要求不具备创造性。
具体到本申请：
1、权利要求1请求保护一种高功率内腔倍频单频激光器，对比文件1公开了一种高功率单频内腔倍频激光器，具体公开了以下特征（参见说明书第2页第3段-第4页第9段、附图3-5）：图3所示一种激光二极管端面泵浦的“8”字环形连续单频内腔倍频激光器，包括激光晶体2、由腔镜（10、11、12、13）组成的激光谐振腔（即对应于环形谐振腔）、泵浦源1（即对应于泵浦源）、倍频晶体5（即对应于倍频晶体）、法拉第旋转器3、二分之一波片4和标准具6，所述的激光晶体2采用a轴切割Nd:YVO4晶体（即对应于增益晶体），Nd:YVO4晶体的一个通光面与晶体c轴成2度角切割形成单面楔子状（即对应于所述增益晶体的后端面有一个2°的楔角作为偏振分束器，参见附图3），泵浦源1发出的泵浦光经整形聚焦系统入射到放置在“8”字环形谐振腔中的Nd:YVO4晶体2上；泵浦源1采用光纤耦合输出的激光二极管，最大输出功率为32W，中心波长为808nm与Nd:YVO4晶体2的吸收带重合；激光谐振腔由固定在殷钢板基底上的第一平面镜12、第二平面镜13、第一平凹镜10和第二平凹镜11构成（即对应于采用四镜环形谐振腔结构，由第一腔镜、第二腔镜、第三腔镜、第四腔镜组成），第一平面镜12向着泵浦源1的表面镀有对泵浦光的减反膜，第一平面镜12向着激光晶体2的表面镀对泵浦光高透、基频光高反膜（即对应于第一腔镜的入光面镀有泵浦光的减反膜，出光面镀有泵浦光高透和基频光高反膜）；第二平面镜13向着激光晶体2的表面镀对基频光高反膜（即对应于第二腔镜的反射光面镀有基频光高反膜）；第一平凹镜10的凹面镀对基频光高反膜（即对应于第三腔镜为平凹镜，凹面镀有基频光高反膜）；第二平凹镜11的凹面镀对基频光高反、对倍频光高透膜，平面镀对倍频光高透膜（即对应于第四腔镜为平凹镜，凹面镀有基频光高反和倍频光高透膜，平面镀有倍频光高透膜）；激光谐振腔内的法拉第旋转器3和二分之一波片4构成光学单向器使激光器单频运转（即隐含公开法拉第旋转器由永磁体和置于其通光孔径内的磁光介质组成，相当于由置于永磁体内的磁光介质和半波片组成单向器）；倍频晶体5选用I类非临界位相匹配的LBO晶体；本领域技术人员根据上述文字表述和附图3能够确定出：法拉第旋转器3中的磁光介质放置在有基频光通过，无倍频光通过的光路中（参见附图3）。
可见，权利要求1的技术方案与对比文件1的区别技术特征在于：（1）热透镜效应补偿片，紧靠磁光介质处放置，用于动态补偿磁光介质的热透镜效应；所述的热透镜效应补偿片为具有负热光系数且两通光面相互平行的光学晶体薄片，所述光学晶体为DKDP晶体，厚度为0.49mm；所述的热透镜效应补偿片和磁光介质均放置在有基频光通过，无倍频光通过的光路中；所述的热透镜效应补偿片的厚度由以下公式确定：
，
其中，l1、Kc1、dn1/dt、α1分别为磁光介质的长度、导热系数、热光系数以及对腔内基频光的吸收系数；Kc2、dn2/dt、α2分别为具有负热光系数的透镜效应补偿片的导热系数、热光系数以及对腔内基频光的吸收系数；（2）所述磁光介质是TGG晶体，长度为8mm，对基频光吸收系数为0.003/cm；（3）所述泵浦源的中心波长为888nm，光纤芯径为400μm，数值孔径为0.22，最大输出功率为90W；（4）增益晶体的楔角为1.5°；（5）第一腔镜为凹凸镜、第二腔镜为平凸镜；（6）增益晶体为a轴切割的YVO4 Nd：YVO4复合晶体，尺寸为3mm×3mm×(3 20)mm，前端3mm为非掺杂的YVO4晶体，后面20mm为掺杂浓度为0.8％的Nd：YVO4晶体。
基于上述区别技术特征（1），本申请实际要解决的技术问题是：如何补偿磁光介质的热透镜效应，以提高倍频单频激光器的稳定性。对比文件2公开了一种激光光源，并具体公开了如下技术特征（参见说明书第[0018]-[0021]段、附图2-3B）：准直透镜55和隔离器60之间放置DKDP晶体70，可以补偿隔离器60的TGG晶体产生的热透镜效应，DKDP晶体具有负热光系数；本领域技术人员知晓由于DKDP晶体具有负热光系数，其热透镜效应等效为一个凹透镜，随着泵浦功率的变化，其等效透镜的焦距随腔内光功率变化而变化，因此可以实现动态补偿，通过对TGG晶体热透镜效应的补偿，能够实现高功率的输出。其在对比文件2中所起作用与在本申请中所起作用相同，都是提供一种具有负热光系数的晶体补偿磁光介质的热透镜效应，即其给出了“抵消热效应”的相关技术启示，本领域技术人员在面对磁光介质所产生的热透镜效应时，有动机对对比文件1的技术方案进行改进，使用具有负热光系数的DKDP晶体补偿法拉第旋转器中磁光介质的热透镜效应，即在对比文件1的磁光介质前增设具有负热光系数的DKDP晶体。本领域技术人员根据对比文件2的附图3A-3B也能够确定出：该DKDP晶体70在紧靠磁光介质（隔离器60的TGG晶体）处放置，其两通光面为相互平行设置，至于设置为晶体薄片，这是本领域技术人员在对比文件2的基础上容易选取的常用技术手段。相应地，为了动态补偿磁光介质的热透镜效应，即为了相应抵消其热效应，具有负热光系数的DKDP晶体（热透镜效应补偿片）自然应与磁光介质保持相应同样的光路设置，即在紧靠磁光介质处放置有热透镜效应补偿片，所述的热透镜效应补偿片和磁光介质均放置在有基频光通过，无倍频光通过的光路中，用于动态补偿磁光介质的热透镜效应；至于DKDP晶体的厚度为0.49mm以及其补偿片的厚度计算公式是本领域技术人员通过分析便可得出的：本领域技术人员熟知，当TGG晶体和DKDP晶体补偿片紧挨时，为了二者的热透镜效应可以相互补偿，它们的有效焦距应当相等，即fTGG＝-fDKDP时，二者的热透镜效应可以相互抵消；且本领域技术人员知晓TGG晶体和DKDP晶体的等效焦距公式。因此，本领域技术人员在对比文件1和2的基础上结合本领域的公知常识能够推导得出热透镜效应补偿片的厚度公式并根据相应参数计算得到合适的厚度，无需付出创造性劳动。
基于上述区别技术特征（2）-（4），本申请实际要解决的技术问题是：如何选取合适的磁光介质、泵浦源和楔角，以及它们的参数，以提高激光器的功率。然而，这是本领域技术人员根据实际需要容易做出的常规选择，本领域技术人员在对比文件1和2的基础上容易选择出具体的相应参数，例如，TGG晶体长度为8mm，对基频光吸收系数为0.003/cm，DKDP晶体厚度为0.49mm，激光晶体的楔角为1.5°，泵浦源中心波长888nm，光纤芯径400μm，数值孔径0.22，最大输出功率90W。
基于上述区别技术特征（5），本申请实际要解决的技术问题是：如何选取合适的镜面以提高补偿效果，对比文件1已公开：激光谐振腔由第一平面镜12、第二平面镜13、第一平凹镜10和第二平凹镜11构成，且第一平面镜和第二平面镜各自两侧面的膜层在本质上与本申请的相同；在此基础上，为了提高谐振腔的谐振效果，本领域技术人员通过合理分析容易选择出：第一腔镜为凹凸镜、第二腔镜为平凸镜，无需付出创造性劳动。
基于上述区别技术特征（6），本申请实际要解决的技术问题是：如何缓解端面热效应。然而该区别技术特征是本领域的公知常识。对比文件1已公开：激光晶体2采用a轴切割Nd:YVO4晶体，Nd:YVO4晶体的一个通光面与晶体c轴成2度角切割形成单面楔子状，泵浦源1中心波长为808nm与Nd:YVO4晶体2的吸收带重合；并且，本领域技术人员知晓：掺杂的Nd3 离子的增益晶体端面在光波808nm附近有较大的受激吸收截面，即Nd:YVO4晶体对808nm泵浦光的吸收系数会增加，会导致增益晶体高的热效应，而非掺杂的YVO4晶体的散热效果更好，为了减少本应克服的热透镜效应、提高散热效果，本领域技术人员往往在掺杂Nd3 离子的Nd:YVO4晶体的一端或两端部分中不掺杂Nd3 离子，即端部包含非掺杂的YVO4晶体以形成YVO4 Nd:YVO4的复合晶体，至于该非掺杂的YVO4晶体端部的长度、掺杂Nd:YVO4晶体部分的长度乃至整个复合晶体的尺寸、以及掺杂Nd3 离子的浓度，这些均是本领域技术人员通过合理分析容易得出的。
由此可知，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域的公知常识以获得权利要求1所要求保护的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，该权利要求1不具有突出的实质性特点和显著的进步，因此权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2、从属权利要求2对其引用的权利要求作了进一步限定，而其附加技术特征已被对比文件1公开：泵浦源的泵浦方式为端面泵浦或侧面泵浦（参见权利要求10）。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的情况下，该从属权利要求2也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、从属权利要求3对其引用的权利要求作了进一步限定，而其附加技术特征已被对比文件1公开：泵浦源的数量为1个或1个以上（参见权利要求10）。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的情况下，该从属权利要求3也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
4、从属权利要求4对其引用的权利要求作了进一步限定，而其附加技术特征已被对比文件1公开了：泵浦源1采用光纤耦合输出激光二极管，最大输出功率为32W（即对应于泵浦源功率大于30W，参见说明书第4页倒数第1段的实施方式一）。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的情况下，该从属权利要求4也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（三）关于复审请求人的意见陈述
针对复审请求人的意见陈述，合议组认为：
1、对比文件1公开了：激光晶体2采用a轴切割Nd:YVO4晶体，泵浦源1中心波长为808nm与Nd:YVO4晶体2的吸收带重合。本领域技术人员知晓：掺杂的Nd3 离子的增益晶体端面在光波808nm附近有较大的受激吸收截面，即Nd:YVO4晶体对光波808nm的吸收系数比不掺杂Nd3 离子的YVO4晶体的吸收系数较大，其将会导致增益晶体更高的热效应，而为了减少本应克服的热透镜效应，本领域技术人员往往想到减少整个掺杂Nd3 离子的YVO4晶体的有效组成部分，其自然容易想到用一部分不掺杂Nd3 离子的YVO4晶体取代掺杂Nd3 离子的Nd:YVO4晶体的一端或两端中的部分，从而形成散热效果更高热效应更小的组合晶体，即端部包含非掺杂的YVO4晶体以形成YVO4 Nd:YVO4的复合晶体，至于该非掺杂的YVO4晶体端部的长度、掺杂Nd:YVO4晶体部分的长度乃至整个复合晶体的尺寸、以及掺杂Nd3 离子的浓度，例如掺杂0.8%，这些均是本领域技术人员通过合理分析容易得出的，无需付出创造性劳动。
2、对比文件1已公开了：激光谐振腔由第一平面镜12、第二平面镜13、第一平凹镜10和第二平凹镜11构成，第一平面镜12向着泵浦源1的表面镀有对泵浦光的减反膜，第一平面镜12向着激光晶体2的表面镀对泵浦光高透、基频光高反膜；第二平面镜13向着激光晶体2的表面镀对基频光高反膜；可见，第一平面镜和第二平面镜各自两侧面的膜层在本质上与本申请的膜层相同，解决了相同的谐振问题，也达到了相同的技术效果；在此基础上，为了提高谐振腔的谐振效果，本领域技术人员容易选择出：第一腔镜为凹凸镜、第二腔镜为平凸镜，无需付出创造性劳动。至于复审请求人提及：凹凸镜与平凸镜的选取是因为发现了增益晶体端面受热膨胀凸起的技术问题才做出的选择，首先，本领域技术人员熟知一般物体，例如增益晶体，受热往往会膨胀（热胀冷缩的基本常识），即增益晶体端面受热膨胀凸起是本领域的公知常识，本领域技术人员在进行谐振腔的腔镜镜面设计时必然要考虑到该常识问题，即使对比文件1中选取平面镜，其也需要考虑该常识问题，且其带来的效果也是本领域技术人员可以合理预期的。其次，本申请的第一实施例选取了凸面镜（参见附图3），而其它的第二、第三实施例并不是选取凸面镜（参见附图4-5），这从侧面也表明本申请中的“凸面镜”与“平面镜”属于两种不同的常规选择，是本领域的常规技术手段。
因此，复审请求人的意见陈述不具有说服力。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年10月09日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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