发明创造名称：采用准直器的光学传感器
外观设计名称：
决定号：191595
决定日：2019-09-20
委内编号：1F269717
优先权日：2015-02-02，2015-09-30
申请（专利）号：201610069038.3
申请日：2016-02-01
复审请求人：辛纳普蒂克斯公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：苏丹
合议组组长：刘浩然
参审员：郑嘉青
国际分类号：G06K9/00
外观设计分类号：
法律依据：专利法第33条
决定要点
：如果修改后的权利要求请求保护的技术方案没有记载在原申请文件中，并且也不能由原申请文件直接、毫无疑义地确定，则该项权利要求的修改超出了原申请文件记载的范围，所述修改不符合专利法第33条的规定。
全文：
本复审请求涉及申请号为201610069038.3，名称为“采用准直器的光学传感器”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为辛纳普蒂克斯公司。本申请的申请日为2016年02月01日，优先权日为2015年02月02日、2015年09月30日，公开日为2016年08月10日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年09月07日发出驳回决定，以权利要求1-20不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由驳回了本申请。具体理由为：权利要求1和12与对比文件1（US5726443A，公开日为1998年03月10日）的区别特征在于“光照层包括显示器，所述显示器是用于指纹成像的光源”，权利要求18与对比文件1的区别在于“光照区从显示器传输光”；然而，对比文件2（CN1451205A，公开日为2003年10月22日）公开了上述区别特征，因此，独立权利要求1,12,18不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-11、13-17、19、20的附加技术特征或者被对比文件1公开、或者为本领域的常用技术手段，因此，上述从属权利要求也不具备创造性。驳回决定所依据的文本为：申请日2016年02月01日提交的说明书第1-66段、说明书摘要、说明书附图图1-图6、摘要附图；2018年02月01日提交的权利要求第1-20项。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种光学指纹传感器，包括：
图像传感器阵列；
准直器滤光层，其设置在所述图像传感器阵列上方，所述准直器滤光层具有开孔阵列，其中所述开孔的高度与所述开孔的直径之比在3:1到100:1之间；以及
光照层，其设置在所述准直器层上方，其中所述光照层包括显示器，所述显示器是用于指纹成像的光源。
2. 根据权利要求1所述的光学指纹传感器，其中，以半导体晶圆形成所述图像传感器阵列。
3. 根据权利要求1所述的光学指纹传感器，其中，所述图像传感器阵列包括多个光学传感元件，并且所述多个光学传感元件接收从传感区反射并且透过所述开孔阵列中的开孔的光。
4. 根据权利要求1所述的光学指纹传感器，其中，所述开孔的所述高度与所述开孔的所述直径之比在5:1到20:1之间。
5. 根据权利要求1所述的光学指纹传感器，还包括：阻挡层，其设置在所述准直器滤光层上方，所述阻挡层配置为允许来自所述光照层的非可见光透过并且阻挡可见光的透过。
6. 根据权利要求1所述的光学指纹传感器，其中，所述准直器滤光层包括具有反射层的顶面。
7. 根据权利要求6所述的光学指纹传感器，其中，所述反射层包括多面化的表面。
8. 根据权利要求7所述的光学指纹传感器，其中，所述多面化的表面被金属化。
9. 根据权利要求1所述的光学指纹传感器，其中，所述准直器滤光层包括固化的聚合物。
10. 根据权利要求1所述的光学指纹传感器，其中，所述开孔阵列具有小于指纹中凸脊节距的节距。
11. 根据权利要求1所述的光学指纹传感器，其中，所述开孔阵列包括有凹槽的表面。
12. 一种光学指纹传感器，包括：
光照层，其中所述光照层包括显示器，所述显示器是配置为将光直射到传感区以用于指纹成像的光源；
准直层，其设置在所述光照层下方，并且包括多个开孔，其中所述开孔配置为阻挡来自所述光照层的一部分光，并且其中所述开孔的高度与所述开孔的直径之比在3:1到100:1之间；以及
图像传感器层，其设置在所述准直层下方，并且包括光学传感器元件阵列，所述光学传感器元件阵列布置成使得多个所述传感器元件接收透过所述多个开孔中的一个开孔的光。
13. 根据权利要求12所述的光学指纹传感器，其中，所述多个开孔具有小于指纹中凸脊节距的节距。
14. 根据权利要求12所述的光学指纹传感器，其中，所述开孔的所述高度与所述开孔的所述直径之比在5:1到20:1之间。
15. 根据权利要求12所述的光学指纹传感器，还包括：阻挡层，其设置在所述准直层上方，所述阻挡层配置为至少部分地允许来自所述光照层的光透过并且至少部分地阻挡其他光的透过。
16. 根据权利要求15所述的光学指纹传感器，其中，所述阻挡层是不透明的。
17. 根据权利要求15所述的光学指纹传感器，其中，所述阻挡层是半透明的。
18. 一种使用设备对指纹成像的方法，包括：
在光照区从显示器传输光使得至少一部分光从传感区反射；
在准直层的表面阻挡从所述传感区反射的光的至少第一部分，其中所述准直层在所述显示器下方；
在所述准直层的多个开孔内阻挡从所述传感区反射的光的至少第二部分，其中所述开孔的高度与所述开孔的直径之比在3:1到100:1之间；以及
在传感器阵列的多个光学传感器元件处感测从所述传感区反射的光的第三部分，所述第三部分的光穿过所述准直层中的多个开孔的至少之一。
19. 根据权利要求18所述的方法，其中，从所述多个传感器元件接收的数据被组合成单个像素值。
20. 根据权利要求18所述的方法，还包括：去除来自未使用的光学传感元件的数据。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服,于2018年12月20日向国家知识产权局提出了复审请求，同时修改了权利要求书。主要修改内容为：在独立权利要求1和12中增加了技术特征“其中，所述开孔配置成防止散射光到达所述图像传感器阵列”。复审请求人认为：对比文件1和2都没有确定与散射光有关的技术问题，对比文件1甚至提供了反向教导，其公开的另一个实施例中鱼眼类型的遮罩具有一系列光通路，它们是渐进的、从中央通路逐渐增加角度，允许从侧边来检测对象；并且对比文件1的图18-19涉及多层遮罩结构也将潜在地引起光的散射。此外，对比文件1和对比文件2均未教导或暗示在光通路的侧壁设置任何凹槽或其他结构以避免散射光被侧壁反射并进而到达光学传感元件。提交复审请求时新修改的独立权利要求1和12如下：
“1. 一种光学指纹传感器，包括：
图像传感器阵列；
准直器滤光层，其设置在所述图像传感器阵列上方，所述准直器滤光层具有开孔阵列，其中所述开孔的高度与所述开孔的直径之比在3:1到100:1之间；以及
光照层，其设置在所述准直器层上方，其中所述光照层包括显示器，所述显示器是用于指纹成像的光源；
其中，所述开孔配置成防止散射光到达所述图像传感器阵列。”
“12. 一种光学指纹传感器，包括：
光照层，其中所述光照层包括显示器，所述显示器是配置为将光直射到传感区以用于指纹成像的光源；
准直层，其设置在所述光照层下方，并且包括多个开孔，其中所述开孔配置为阻挡来自所述光照层的一部分光，并且其中所述开孔的高度与所述开孔的直径之比在3:1到100:1之间；以及
图像传感器层，其设置在所述准直层下方，并且包括光学传感器元件阵列，所述光学传感器元件阵列布置成使得多个所述传感器元件接收透过所述多个开孔中的一个开孔的光；
其中，所述开孔配置成防止散射光到达所述图像传感器阵列。”
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年12月28日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为：对比文件1公开了与本申请同样的用于阻挡光线的遮罩，且遮罩的垂直开孔阵列的深宽比都是一样的，那么其必然具有同样的防止散射光到达图像传感器阵列的效果。另外，复审请求人所认为的对比文件1的反向教导仅是其用于设计通过开孔阵列的光路方向所能达到的效果，不能改变遮罩本身表面不具有开孔阵列部分及开孔阵列内侧边具有防止散射光通过的固有特性，因而坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年05月14日向复审请求人发出复审通知书，该复审通知书指出：2018年02月01日提交的修改文本中，独立权利要求1、12、18的修改超出了原申请文件记载的范围，不符合专利法第33条的规定。即使复审请求人对权利要求1、12、18进行修改使之符合专利法第33条的规定，权利要求1-20相对于对比文件1不具备专利法第22条第2款规定的新颖性和/或相对于对比文件1（和对比文件2）和本领域常用技术手段的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
复审请求人于2019年08月26日提交了意见陈述书，并对权利要求进行了修改，主要修改包括：将独立权利要求1中的“其中所述光照层包括显示器，所述显示器是用于指纹成像的光源”修改为“其中所述光照层包括用于指纹成像的光源，并且其中所述光源是由显示器提供”以及“所述开孔配置为防止散射光到达所述图像传感器阵列”修改为“所述开孔的侧壁配置成包括用于防止散射光到达所述图像传感器阵列的结构”；在从属权利要求11中增加了技术特征“所述有凹槽的表面形成用于防止散射光到达所述图像传感器阵列的所述结构”；将独立权利要求12中的技术特征“光照层，其中所述光照层包括显示器，所述显示器配置为将光直射到传感器区以用于指纹成像的光源”修改为“光照层，其中所述光照层包括光源，所述光源配置为将光直射到传感区以用于指纹成像，并且其中所述光源是由显示器提供”以及“所述开孔配置为防止散射光到达所述图像传感器阵列”修改为“所述开孔的侧壁配置成包括用于防止散射光到达所述图像传感器阵列的结构”；将独立权利要求18中的“在光照区从显示器传输光使得至少一部分光从传感区反射”修改为“在光照区从光源传输光使得至少一部分光从传感区反射，其中所述光源是由显示器提供”、“其中所述准直层在所述显示器下方”修改为“其中所述准直层在所述光源下方”、“在所述准直层的多个开孔内阻挡”修改为“由所述准直层的多个开孔的侧壁阻挡”以及“所述第三部分的光穿过所述准直层”修改为“所述光的第三部分穿过所述准直层”。复审请求人认为：原申请文件记载光照层位于准直器滤光层上方，还描述了光照层包括光源208（说明书第[0036]段）；尽管附图3示出208为离散的光源，但是说明书也记载了光源可以是由显示器提供。例如，说明书第[0037]段记载：也不需要离散的光源。例如，该方法和系统考虑利用由显示器提供的光或来自LCD的背光作为合适的光源。因此，复审请求人认为，新修改的各权利要求均没有超出原始记载的范围，符合专利法第33条规定。此外，复审请求人认为修改后的权利要求具备专利法第22条第3款规定的创造性。
复审请求人答复复审通知书时所修改的权利要求1、11、12和18如下：
“1. 一种光学指纹传感器，包括：
图像传感器阵列；
准直器滤光层，其设置在所述图像传感器阵列上方，所述准直器滤光层具有开孔阵列，其中所述开孔的高度与所述开孔的直径之比在3:1到100:1之间；以及
光照层，其设置在所述准直器滤光层上方，其中所述光照层包括用于指纹成像的光源，并且其中所述光源是由显示器提供；
其中，所述开孔的侧壁配置成包括用于防止散射光到达所述图像传感器阵列的结构。”
“11. 根据权利要求1所述的光学指纹传感器，其中，所述开孔阵列包括有凹槽的表面，所述有凹槽的表面形成用于防止散射光到达所述图像传感器阵列的所述结构。”
“12. 一种光学指纹传感器，包括：
光照层，其中所述光照层包括光源，所述光源配置为将光直射到传感区以用于指纹成像，并且其中所述光源是由显示器提供；
准直层，其设置在所述光照层下方，并且包括多个开孔，其中所述开孔配置为阻挡来自所述光照层的一部分光，并且其中所述开孔的高度与所述开孔的直径之比在3:1到100:1之间；以及
图像传感器层，其设置在所述准直层下方，并且包括光学传感器元件阵列，所述光学传感器元件阵列布置成使得多个传感器元件接收透过所述多个开孔中的一个开孔的光；
其中，所述开孔的侧壁配置成包括用于防止散射光到达所述图像传感器层的结构。”
“18. 一种使用设备对指纹成像的方法，包括：
在光照区从光源传输光使得至少一部分光从传感区反射，其中所述光源是由显示器提供；
在准直层的表面阻挡从所述传感区反射的光的至少第一部分，其中所述准直层在所述光源下方；
由所述准直层的多个开孔的侧壁阻挡从所述传感区反射的光的至少第二部分，其中所述开孔的高度与所述开孔的直径之比在3:1到100:1之间；以及
在传感器阵列的多个光学传感器元件处感测从所述传感区反射的光的第三部分，所述光的第三部分穿过所述准直层中的多个开孔的至少之一。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
复审请求人在答复复审通知书时提交了修改后的权利要求书，上述修改符合专利法实施细则第61条第1款的规定。因此，本复审审查决定针对的审查文本为：2019年08月26日提交的权利要求第1-20项，申请日2016年02月01日提交的说明书第1-66段、说明书摘要、说明书附图图1-图6、摘要附图。
（二）关于专利法第33条
专利法第33条规定：申请人可以对其专利申请文件进行修改，但是，对发明和实用新型专利申请文件的修改不得超出原说明书和权利要求书记载的范围。
如果修改后的权利要求请求保护的技术方案没有记载在原申请文件中，并且也不能由原申请文件直接、毫无疑义地确定，则该项权利要求的修改超出了原申请文件记载的范围，所述修改不符合专利法第33条的规定。
权利要求1、12、18的修改不符合专利法第33条的规定。
（1）修改后的权利要求1记载了以下技术特征：“准直器滤光层，其设置在所述图像传感器阵列上方”，“光照层，其设置在所述准直器滤光层上方，其中所述光照层包括用于指纹成像的光源，并且其中所述光源是由显示器提供”。然而，修改后的权利要求1请求保护的技术方案不能由原申请文件的记载直接地、毫无疑义地确定。
由原说明书第[0036]-[0037]段以及图3、图4的记载可知：光照层207包括光源208和／或光导元件206（其中光导元件206不是必须的）。光源208既可以采用独立光源，设置为相邻于光导元件206、位于准直器滤光层的上方；也可以不采用离散的光源，而是直接利用显示器提供的光或者来自LCD的背光作为合适的光源。如果采用后一种方式（即，显示器是用于指纹成像的光源），由于原申请文件并未明确记载显示器位置位于准直器滤光层的上方的技术方案，而根据常规设置方式，如果使用显示器作为指纹成像的光源，显示器通常应当位于准直器滤光层的下方，否则整体装置将无法正常工作。由于修改后的权利要求1请求保护的技术方案既未记载在原申请文件中，也不能由原申请文件中直接地、毫无疑义地确定，因此，权利要求1的修改超出了原申请文件记载的范围，上述修改不符合专利法第33条的规定。
（2）与权利要求1的情形类似，修改后的独立权利要求12中记载了“光照层，其中所述光照层包括光源，所述光源配置为将光直射到传感区以用于指纹成像，并且其中所述光源是由显示器提供”以及“准直层，其配置在所述光照层的下方”；修改后的独立权利要求18中限定了“在光照区从光源传输光使得至少一部分光从传感区反射，其中所述光源是由显示器提供；在准直层的表面阻挡从所述传感区反射的光的至少第一部分，其中所述准直层在所述光源下方”。
由于原申请文件并未明确记载将显示器作为光照层的光源、并使其位于准直器滤光层的上方的技术方案，而根据常规设置方式，如果使用显示器作为指纹成像的光源，显示器通常应当位于准直器滤光层的下方，否则整体装置将无法正常工作。因此，上述修改后的技术方案不能从原申请文件中直接地、毫无疑义地确定，权利要求12和18的修改也不符合专利法第33条的规定。
针对复审请求人陈述的意见，合议组认为：
尽管根据说明书第[0036]和[0037]段的记载，光照层的光源既可以利用单独的离散光源、也可以直接利用显示器提供光作为光源，然而，原申请文件并未给出后一种实施方式（即修改后的权利要求1、12、18限定的方案）的具体装置结构。而根据本领域技术人员知晓的技术常识，如果利用显示器所发出的光作为指纹传感器的光源，显示器通常应当设置在整个装置的底层，然后将图像传感器层设置于其上方，否则图像传感器将无法对用户手指反射的光线进行检测和处理。由于修改后的权利要求1、12、18限定的技术方案并未记载在原申请文件中，也无法由原申请文件直接地、毫无疑义地确定，因此上述权利要求的修改不符合专利法第33条的规定。
综上，合议组对复审请求人所陈述的意见不予支持。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年09月07日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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