发明创造名称：一种离子源束流诊断用张角测量仪
外观设计名称：
决定号：189738
决定日：2019-09-11
委内编号：1F259547
优先权日：
申请（专利）号：201610906241.1
申请日：2016-10-18
复审请求人：中国原子能科学研究院
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：刘时雄
合议组组长：李鹏飞
参审员：李丽娜
国际分类号：G01T1/29
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求所请求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征，其中该区别技术特征的一部分被另一对比文件公开且其给出结合的技术启示，另一部分是所属领域的公知常识，则该权利要求的技术方案是显而易见的，不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201610906241.1，名称为“一种离子源束流诊断用张角测量仪”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为中国原子能科学研究院。本申请的申请日为2016年10月18日，公开日为2017年03月29日。
经实质审查，国家知识产权局专利实质审查部门于2018年05月30日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-9不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为：2018年02月07日提交的权利要求第1-9项；申请日2016年10月18日提交的说明书第1-7页、说明书附图第1-4页、说明书摘要和摘要附图。
驳回决定中引用的对比文件为：
对比文件1：“同位素电磁分离器离子束成形的试验研究”，李公攀等，《原子能科学技术》，1981年第01期，公开日为1981年01月31日；
对比文件2：CN102819033A，公开日为2012年12月12日；
对比文件3：“微型法拉第筒阵列束流均匀性测量”，胡杨等，《强激光与粒子束》，第27卷第5期，公开日为2015年05月31日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种离子源束流诊断用张角测量仪，设置在同位素电磁分离器上，所述同位素电磁分离器包括设置在真空室(11)内、设有引出电极的离子源，所述离子源从所述引出电极的引出缝(10)中射出离子束(9)，所述离子束(9)在Y轴方向上收拢，在X轴方向上发散，所述Y轴方向为所述离子束(9)的发射方向，其特征是：所述离子源束流诊断用张角测量仪包括设置在所述真空室(11)内的第一探头(6)、第二探头(5)，所述第二探头(5)包括探头面板(12)及设置在所述探头面板(12)上的若干个开口朝向一致的小法拉第筒(17)，通过所述小法拉第筒(17)能够在线测量束流密度分布；通过所述第一探头(6)测量得到的电流信号能够获得所述离子束(9)的束流流强，通过所述第二探头(5)测量得到的电流信号能够获得所述离子束(9)的束流的空间密度分布，通过所述空间密度分布能够得到所述离子束(9)的束流张角，能够测量的所述束流张角达到±14.5°；还包括能够采集、记录所述探头的空间位置信号和所述离子束(9)的电流信号的PLC模块。
2. 如权利要求1所述的张角测量仪，其特征是：所述第二探头(5)通过探头运动装置设置在所述真空室(11)内，靠近所述引出缝(10)，所述探头运动装置能够带动所述第二探头(5)运动，所述第二探头(5)的二维运动范围包括沿所述X轴方向运动±115mm，沿垂直于所述X轴、Y轴的Z轴方向运动±100mm。
3. 如权利要求1所述的张角测量仪，其特征是：所述第一探头(6)通过探头运动装置设置在所述真空室(11)内，远离所述引出缝(10)；所述探头运动装置能够使所述第一探头(6)翻转到偏离所述离子束(9)的位置。
4. 如权利要求2或3所述的张角测量仪，其特征是：所述探头运动装置贯穿设置在所述真空室(11)上，采用旋转动密封实现所述探头运动装置在真空环境与非真空环境之间的运动贯穿。
5. 如权利要求1或3所述的张角测量仪，其特征是：所述第一探头(6)由一个大法拉第筒构成，所述大法拉第筒能够测量的所述束流流强达到50mA。
6. 如权利要求5所述的张角测量仪，其特征是：所述大法拉第筒采用水冷冷却。
7. 如权利要求1所述的张角测量仪，其特征是：所述小法拉第筒(17)的直径小于1mm。
8. 如权利要求7所述的张角测量仪，其特征是：所述小法拉第筒(17)外围设有屏蔽罩(15)。
9. 如权利要求8所述的张角测量仪，其特征是：所述小法拉第筒(17)与所述屏蔽罩(15)之间设有探头绝缘子(16)。”
驳回决定具体指出：（1）权利要求1请求保护一种离子源束流诊断用张角测量仪，对比文件1公开了一种同位素电磁分离器离子束成形试验中设置的小法拉第筒，权利要求1相对于对比文件1的区别技术特征在于：A）离子束在Y轴方向上收拢，在X轴方向上发散，Y轴方向为离子束的发射方向；B）权利要求1中的离子源束流诊断用张角测量仪包括设置在真空室内的第一探头和第二探头，通过第一探头测量到的电流信号能够获得离子束的束流流强，通过第二探头测量得到的电流信号能够获得离子束的束流的空间密度分布，通过空间密度分布能够得到离子束的束流张角，能够测量的束流张角达到±14.5°；C）还包括能够采集、记录探头的空间位置信号和离子束的电流信号的PLC模块；D）第二探头包括探头面板及设置在探头面板上的若干个开口朝向一致的小法拉第筒，通过小法拉第筒能够在线测量束流密度分布。其中，区别特征A）是本领域的常规选择；区别特征B）是本领域技术人员在对比文件2公开内容的基础上容易想到的；区别特征C）是本领域的惯用手段；区别特征D）是本领域技术人员在对比文件3公开内容的基础上容易想到的。因此权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）从属权利要求2-9的附加特征或者对比文件2-3公开或者是本领域的公知常识。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，权利要求2-9也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年08月29日向国家知识产权局提出了复审请求，同时提交了权利要求书的全文修改替换页，其中修改涉及：将权利要求2和3的附加技术特征补入权利要求1中，相应地删除上述权利要求2和3，并适应性调整部分权利要求的编号及引用关系。提出复审请求时提交的权利要求1如下：
“1. 一种离子源束流诊断用张角测量仪，设置在同位素电磁分离器上，所述同位素电磁分离器包括设置在真空室(11)内、设有引出电极的离子源，所述离子源从所述引出电极的引出缝(10)中射出离子束(9)，所述离子束(9)在Y轴方向上收拢，在X轴方向上发散，所述Y轴方向为所述离子束(9)的发射方向，其特征是：所述离子源束流诊断用张角测量仪包括设置在所述真空室(11)内的第一探头(6)、第二探头(5)，所述第二探头(5)包括探头面板(12)及设置在所述探头面板(12)上的若干个开口朝向一致的小法拉第筒(17)，通过所述小法拉第筒(17)能够在线测量束流密度分布；所述第一探头(6)通过探头运动装置设置在所述真空室(11)内，远离所述引出缝(10)，所述探头运动装置能够使所述第一探头(6)翻转到偏离所述离子束(9)的位置；所述第二探头(5)通过探头运动装置设置在所述真空室(11)内，靠近所述引出缝(10)，所述探头运动装置能够带动所述第二探头(5)运动，所述第二探头(5)的二维运动范围包括沿所述X轴方向运动±115mm，沿垂直于所述X轴、Y轴的Z轴方向运动±100mm；通过所述第一探头(6)测量得到的电流信号能够获得所述离子束(9)的束流流强，通过所述第二探头(5)测量得到的电流信号能够获得所述离子束(9)的束流的空间密度分布，通过所述空间密度分布能够得到所述离子束(9)的束流张角，能够测量的所述束流张角达到±14.5°；还包括能够采集、记录所述探头的空间位置信号和所述离子束(9)的电流信号的PLC模块。”
复审请求人认为：（1）本申请提供的一种离子源束流诊断用张角测量仪，是设置在同位素电磁分离器上，能够进行离子束参数在线测量的装置，其张角测量仪能够在电磁分离器正常运行生产的前提下开展束流检测。（2）对比文件1主要是对离子束张角与引出离子流变化的关系进行的研究，没有涉及离子束检测装置的结构方面内容，也没有提出束流在线检测的技术思路。对比文件2虽然提到可以在离子源稳定运行不停机的状态下完成对离子束流参数的测量，但其与本申请的离子束参数在线测量是完全不同的概念，实质上是一种离线测量，离线测量与在线测量有非常大的区别，应用环境不同，考虑的问题不同，所以设计上也很不同；另外，对比文件2的离子束流自动测量系统根本不涉及测量离子束的束流空间密度分布，进而得到束流张角的内容。因此修改后的权利要求1具备创造性。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年09月13日依法受理了该复审请求，并将其转送至原专利实质审查部门进行前置审查。
原专利实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本申请进行审理。
合议组于2019年07月08日向复审请求人发出复审通知书，指出：（1）权利要求1请求保护一种离子源束流诊断用张角测量仪，对比文件1公开了一种同位素电磁分离器离子束成形试验中设置的小法拉第筒，权利要求1与对比文件1的区别特征在于：A）离子束在Y轴方向上收拢，在X轴方向上发散，Y轴方向为离子束的发射方向；B）包括设置在真空室内的第一探头和第二探头，所述第二探头包括探头面板及设置在所述探头面板上的若干个开口朝向一致的小法拉第筒，通过所述小法拉第筒能够在线测量束流密度分布；所述第一探头通过探头运动装置设置在所述真空室内，远离所述引出缝，所述探头运动装置能够使所述第一探头翻转到偏离所述离子束的位置；所述第二探头通过探头运动装置设置在所述真空室内，靠近所述引出缝，所述探头运动装置能够带动所述第二探头运动，所述第二探头的二维运动范围包括沿所述X轴方向运动±115mm，沿垂直于所述X轴、Y轴的Z轴方向运动±100mm；通过所述第一探头测量得到的电流信号能够获得所述离子束的束流流强，通过所述第二探头测量得到的电流信号能够获得所述离子束的束流的空间密度分布，通过所述空间密度分布能够得到所述离子束的束流张角，能够测量的所述束流张角达到±14.5°；C）还包括能够采集、记录探头的空间位置信号和离子束的电流信号的PLC模块；其中，区别特征（A）是本领域的常规技术手段；对于区别特征B）和C），对比文件2公开了一种离子束流自动测量系统，多个探头位于真空室内，并给出了将束流强度测量探头与其它类型的束流检测探头联合使用以获得离子束流多个参数的技术启示；对比文件3公开了由5个法拉第筒组成的阵列结构，可进行束流密度分布的测量、在线实验等，也可得到靶面束流密度二维分布情况；其它特征是本领域技术人员在对比文件1-3的基础上容易想到的常用技术手段。所以，在对比文件1的基础上结合对比文件2-3及本领域的公知常识得出权利要求1要求保护的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，因此权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）从属权利要求2-7的附加特征或者被对比文件2-3公开或者是本领域的公知常识，因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，从属权利要求2-7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（3）合议组针对复审请求人的意见陈述进行了答复。
针对上述复审通知书，复审请求人于2019年08月07日提交了意见陈述书和权利要求书的全文修改替换页，其中修改涉及：在权利要求1中增加特征“从而不影响离子源的正常出束，不遮挡离子束(9)的束流”。答复复审通知书时提交的权利要求书如下：
“1. 一种离子源束流诊断用张角测量仪，设置在同位素电磁分离器上，所述同位素电磁分离器包括设置在真空室(11)内、设有引出电极的离子源，所述离子源从所述引出电极的引出缝(10)中射出离子束(9)，所述离子束(9)在Y轴方向上收拢，在X轴方向上发散，所述Y轴方向为所述离子束(9)的发射方向，其特征是：所述离子源束流诊断用张角测量仪包括设置在所述真空室(11)内的第一探头(6)、第二探头(5)，所述第二探头(5)包括探头面板(12)及设置在所述探头面板(12)上的若干个开口朝向一致的小法拉第筒(17)，通过所述小法拉第筒(17)能够在线测量束流密度分布；所述第一探头(6)通过探头运动装置设置在所述真空室(11)内，远离所述引出缝(10)，所述探头运动装置能够使所述第一探头(6)翻转到偏离所述离子束(9)的位置，从而不影响离子源的正常出束，不遮挡离子束(9)的束流；所述第二探头(5)通过探头运动装置设置在所述真空室(11)内，靠近所述引出缝(10)，所述探头运动装置能够带动所述第二探头(5)运动，所述第二探头(5)的二维运动范围包括沿所述X轴方向运动±115mm，沿垂直于所述X轴、Y轴的Z轴方向运动±100mm；通过所述第一探头(6)测量得到的电流信号能够获得所述离子束(9)的束流流强，通过所述第二探头(5)测量得到的电流信号能够获得所述离子束(9)的束流的空间密度分布，通过所述空间密度分布能够得到所述离子束(9)的束流张角，能够测量的所述束流张角达到±14.5°；还包括能够采集、记录所述探头的空间位置信号和所述离子束(9)的电流信号的PLC模块。
2. 如权利要求1所述的张角测量仪，其特征是：所述探头运动装置贯穿设置在所述真空室(11)上，采用旋转动密封实现所述探头运动装置在真空环境与非真空环境之间的运动贯穿。
3. 如权利要求1所述的张角测量仪，其特征是：所述第一探头(6)由一个大法拉第筒构成，所述大法拉第筒能够测量的所述束流流强达到50mA。
4. 如权利要求3所述的张角测量仪，其特征是：所述大法拉第筒采用水冷冷却。
5. 如权利要求1所述的张角测量仪，其特征是：所述小法拉第筒(17)的直径小于1mm。
6. 如权利要求5所述的张角测量仪，其特征是：所述小法拉第筒(17)外围设有屏蔽罩(15)。
7. 如权利要求6所述的张角测量仪，其特征是：所述小法拉第筒(17)与所述屏蔽罩(15)之间设有探头绝缘子(16)。”
复审请求人认为：（1）以上修改的依据为说明书第[0035]段，该修改未超出原始申请文件的记载范围，符合专利法第33条的规定。（2）本申请的离子源束流诊断用张角测量仪，是设置在同位素电磁分离器上，张角测量仪能够在电磁分离器正常运行生产的前提下开展束流检测，电磁分离器安装了张角测量仪也能正常工作、两者相互兼容，这在设备改造之前的同位素电磁分离器上是无法实现的。本申请提供的张角测量仪在实施束流检测时，电磁分离器无需做其他操作，因此张角测量仪可随时开展测量；而且使用张角测量仪时，无需破坏电磁分离器的真空，大大降低使用张角测量仪对同位素生产的影响，这也是本申请的一个非常显著的技术效果。（3）另外，对比文件2的离子束流自动测量系统根本不涉及测量离子束的束流空间密度分布，进而得到束流张角的内容。因此权利要求1具备创造性，同时其从属权利要求2-7也具有创造性。
在上述程序的基础上，合议组认为本申请事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
复审请求人在答复复审通知书时提交了权利要求书的全文修改替换页，经审查，修改后的权利要求1-7符合专利法第33条的规定，本复审请求审查决定所针对的文本为：2019年08月07日提交的权利要求第1-7项，申请日2016年10月18日提交的说明书第1-7页、说明书附图第1-4页、说明书摘要和摘要附图。
（二）关于专利法第22条第3款
创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求所请求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征，其中该区别技术特征的一部分被另一对比文件公开且其给出结合的技术启示，另一部分是所属领域的公知常识，则该权利要求的技术方案是显而易见的，不具备创造性。
1、权利要求1请求保护一种离子源束流诊断用张角测量仪，对比文件1公开了一种同位素电磁分离器离子束成形试验中设置的小法拉第筒（参见第47页第1-10行，图4），其可获得离子束束流的密度分布，进而获得相应的张角，即小法拉第筒对应于权利要求1中的离子源束流诊断用张角测量仪；小法拉第筒设置在同位素电磁分离器上，同位素电磁分离器包括设置在弧放电室（对应于权利要求中的真空室）内、设有引出电极的离子源，离子源从引出电极的引出缝中射出离子束。
可见，权利要求1的技术方案与对比文件1的区别技术特征在于：（1）离子束在Y轴方向上收拢，在X轴方向上发散，Y轴方向为离子束的发射方向；（2）包括设置在真空室内的第一探头和第二探头，所述第二探头包括探头面板以及设置在所述探头面板上的若干个开口朝向一致的小法拉第筒，通过所述小法拉第筒能够在线测量束流密度分布；所述第一探头通过探头运动装置设置在所述真空室内，远离所述引出缝，所述探头运动装置能够使所述第一探头翻转到偏离所述离子束的位置，从而不影响离子源的正常出束，不遮挡离子束的束流；所述第二探头通过探头运动装置设置在所述真空室内，靠近所述引出缝，所述探头运动装置能够带动所述第二探头运动，所述第二探头的二维运动范围包括沿所述X轴方向运动±115mm，沿垂直于所述X轴、Y轴的Z轴方向运动±100mm；通过所述第一探头测量得到的电流信号能够获得所述离子束的束流流强，通过所述第二探头测量得到的电流信号能够获得所述离子束的束流的空间密度分布，通过所述空间密度分布能够得到所述离子束的束流张角，能够测量的所述束流张角达到±14.5°；（3）还包括能够采集、记录探头的空间位置信号和离子束的电流信号的PLC模块。
基于上述区别技术特征，本申请权利要求1实际要解决的技术问题是：如何实现离子源束流的多参数测量和信号记录、确定张角测量仪的束流张角测量范围，以提高测量效果。
对于区别技术特征（1），这是本领域的常规技术手段，本领域技术人员熟知，离子束一般均为纵向会聚束、横向发散束，有利于纵向聚焦，也就是说离子束采用上述形式是本领域的常规选择，无需付出创造性劳动；
对于区别技术特征（2），对比文件1已公开了小法拉第筒可以获得离子束束流的空间密度分布，进而获得相应的张角；即其公开了以相应的探头实现束流张角的检测。而对比文件2公开了一种离子束流自动测量系统（参见说明书第[0027]-[0057]段），其具有束流强度测量探头4、发射度测量探头5、能散度测量探头6和单原子离子比测量探头7，在真空室3中分别单独完成对离子束流的束流强度、发射度、能散度、单原子离子比的自动测量（即可以获得离子束流的四个方面参数的测量），计算机26通过第一步进电机驱动装置9和第一步进电机10控制束流强度测量探头4进入和撤离束流线、通过第一步进电机驱动装置9和第二步进电机12控制发散度测量探头5进入和撤离束流线、通过第二步进电机驱动装置16和第三步进电机17控制能散度测量探头6进入和撤离束流线、通过第二步进电机驱动装置16和第四步进电机21控制单原子离子比测量探头7进入和撤离束流线（即对应于所述探头运动装置能够使所述探头撤离所述离子束的束流线位置，其自然不影响离子源的正常出束，不遮挡离子束的束流）；由此可见，对比文件2给出了将束流强度测量探头与其它类型的束流检测探头联合使用，可以获得离子束流多个参数的技术启示；在此启示下，当本领域技术人员为了使张角测量仪能够检测其它束流参数时，有动机将对比文件1的测量装置进行改造，在原有的可以检测束流空间密度分布的探头基础上，增设一个或多个用于获得离子束束流流强的探头，从而在获得束流张角的同时，得到束流流强的参数，即实现离子束流多个参数的检测；且对比文件2也公开了多个探头位于真空室内，本领域技术人员由此容易想到第一探头和第二探头均位于真空室内；至于第二探头的具体结构，对比文件3公开了5个法拉第筒组成的阵列结构，可进行束流密度分布的测量，每个法拉第筒都具有屏蔽层，收集体与屏蔽层间具有绝缘层（参见第1节法拉第筒阵列设计，图4）；本领域技术人员在对比文件3的启示下容易想到采用探头面板和若干个开口朝向一致的小法拉第筒结构组合而成的第二探头；对比文件3还公开了通过仿真分析、测量回路标定以及在线实验等对设计进行了验证，得到了靶面束流密度二维分布情况（参见第3节结论），本领域技术人员由此也容易想到小法拉第筒能够用于在线测量束流的密度分布。
至于张角测量仪对束流张角的测量范围、各探头的设置位置及其沿各个轴的运动范围、能翻转达到的位置范围等，主要是根据电磁分离器分析磁场对离子束实现方向聚焦能力进行设计的，其具体的数值参数与张角测量仪物理结构设计以及扫描距离有关；且对比文件2已公开了：对于束流强度测量探头4，具有第一步进电机10可推动束流强度进入到束流线上，对于发射度测量探头5，具有第二步进电机12可控制该探头的运动；为了束流测量装置的灵活性需求，本领域技术人员在此基础上根据电磁分离器分析磁场和离子束的实际情况，能够确定出张角测量仪的物理结构、探头位置及其沿各个轴运动、翻转情况，以及扫描距离等，从而达到相应需求的技术效果，也能够分析得出各探头的设置位置及其运动范围及翻转所到达的位置范围、沿各个轴所需要的移动范围，从而也能确定出束流张角测量的范围，因此该区别技术特征（2）中的相关参数均是本领域技术人员根据实际需要容易分析得出的常规选择，无需付出创造性劳动。
对于区别技术特征（3），对比文件2还公开了计算机通过步进电机控制探头至特定的位置进行束流参数测量，以及可以对各探头获得的电流信号、束流位置信号等经A/D卡将模拟信号转变为数字信号传递到计算机，由计算机进行滤波与成形处理并予以显示；而利用PLC模块实现信号的采集和记录也是本领域的常规手段。因此，本领域技术人员容易想到还包括能够采集、记录探头的空间位置信号和离子束的电流信号的PLC模块，无需付出创造性的劳动。
由此可知，在对比文件1的基础上结合对比文件2-3以及本领域的公知常识即可得出权利要求1所要求保护的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，不具有突出的实质性特点和显著的进步，因此权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2、从属权利要求2作了进一步限定，而其附加技术特征是本领域的常规技术手段。探头运动装置的位置是本领域技术人员基于探头运动方式可以灵活设置的，其技术效果也是预料得到的。在其引用的权利要求1不具备创造性的情况下，该从属权利要求2也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、从属权利要求3作了进一步限定，而对比文件2公开了束流强度测量探头4为法拉第筒，离子束流强度应低于180mA（参见说明书第[0028]段），根据实际需要，本领域技术人员通过进一步分析容易选取法拉第筒能够测量的束流流强达到50mA，无需付出创造性的劳动。在其引用的权利要求1不具备创造性的情况下，该从属权利要求3也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
4、从属权利要求4作了进一步限定，而其附加技术特征已被对比文件2公开了：法拉第筒的筒体31采取水冷冷却措施（参见说明书第[0029]段、附图2）。在其引用的权利要求3不具备创造性的情况下，该从属权利要求4也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
5、从属权利要求5作了进一步限定，本领域技术人员通过合理分析容易选取出小法拉第筒的直径小于1mm，无需付出创造性的劳动。在其引用的权利要求1不具备创造性的情况下，该从属权利要求5也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
6、从属权利要求6-7分别作了进一步限定，而对比文件3公开了5个法拉第筒组成的阵列结构（参见第1节法拉第筒阵列设计），可进行束流密度分布的测量，每个法拉第筒都具有屏蔽层（对应于小法拉第筒外围设有屏蔽罩）以及收集体（其本质上为法拉第筒部分）与屏蔽层间具有绝缘层（对应于小法拉第筒与屏蔽罩之间设有探头绝缘子，其本质上为法拉第筒的外围部分）。在其引用的权利要求不具备创造性的情况下，该从属权利要求6和7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（三）关于复审请求人的意见陈述
针对复审请求人的意见陈述，合议组认为：
对比文件2公开了束流强度测量探头4、发射度测量探头5、能散度测量探头6和单原子离子比测量探头7，在真空室3中分别单独完成对离子束流的束流强度、发射度、能散度、单原子离子比的自动测量，分别通过不同的步进电机驱动装置和步进电机控制束流强度测量探头4、发散度测量探头5、能散度测量探头6和单原子离子比测量探头7进入和撤离束流线，即公开了探头运动装置能够使探头撤离离子束流线的位置，从而实现了“不影响离子源的正常出束，不遮挡离子束的束流”，与本申请“设置在同位素电磁分离器上、通过小法拉第筒（探头）能够在线测量束流密度分布”的设计本质上相同，其并不要求拆卸下来，也可以随时开展测量，也就是说，对比文件2公开了复审请求人所陈述的“在线测量”方式，且其达到的效果也相同：探头撤离束流线、不影响离子源的正常出束，不遮挡离子束的束流。而且，对比文件2公开了自动测量离子束流的束流强度、发射度、能散度、单原子离子比等四个参数，在此基础上，本领域技术人员容易选取相应的探头测量离子束的束流空间密度分布，这属于本领域的公知常识。
因此，复审请求人的意见陈述不具有说服力。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年05月30日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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