发明创造名称：一种适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器
外观设计名称：
决定号：189504
决定日：2019-09-11
委内编号：1F268212
优先权日：
申请（专利）号：201710906289.7
申请日：2017-09-29
复审请求人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：彭予泓
合议组组长：李鹏飞
参审员：史敏峰
国际分类号：G02B27/10
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求与作为最接近现有技术的对比文件之间存在区别技术特征，该区别技术特征中的一部分属于本领域的公知常识，其余部分未被其它对比文件公开，也没有证据表明其属于本领域的公知常识，且为该权利要求请求保护的技术方案带来了有益技术效果，则该权利要求具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201710906289.7，名称为“一种适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为中国科学院长春光学精密机械与物理研究所。本申请的申请日为2017年09月29日，公开日为2018年02月16日。
国家知识产权局专利实质审查部门依法对本申请进行了实质审查，并以本申请的权利要求1-6不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由于2018年08月29日驳回了本申请。驳回决定所依据的文本为：2018年07月26日提交的权利要求第1-6项，申请日2017年09月29日提交的说明书第1-7页、说明书附图第1-2页、说明书摘要以及摘要附图。
在驳回决定中，引用了如下对比文件：
对比文件1：CN 103217731A，公开日为2013年07月24日；
对比文件2：CN 2382134Y，公告日为2000年06月07日。
第一次审查意见通知书中还引用了另一篇对比文件：
对比文件3：CN 1737613A，公开日为2006年02月22日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器，其特征在于，包括：至少两个干涉带通滤光片，所述干涉带通滤光片相互结合在一起，且所述干涉带通滤光片的谱段不同；
所述干涉带通滤光片为窄条干涉带通滤光片，所述窄条干涉带通滤光片的形状为细长条状的长方体；
所述干涉带通滤光片的谱段半峰值宽度小于±5nm；
所述干涉带通滤光片上设置有镀膜层；
所述镀膜层是通过激光镀膜的方式得到，采用真空镀膜或磁控反应溅射镀制所述镀膜层，镀膜时各处沉积速率均相同，通过镀膜时间来得到不同谱段的干涉带通滤光片，所述适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器的干涉带通滤光片可以单个分别进行镀膜；
所述干涉带通滤光片采用组合加工的加工方法，来保证的一致性，将多片窄条滤光片分别通过特制夹具固定在同一基底上，对所述窄条滤光片的工作表面以及集成粘接用表面采用同种加工工艺进行统一连续的加工。
2. 根据权利要求1所述的适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器，其特征在于，所述干涉带通滤光片之间通过粘接结合在一起。
3. 根据权利要求2所述的适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器，其特征在于，所述干涉带通滤光片之间通过环氧树脂胶进行粘接结合在一起。
4. 根据权利要求2所述的适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器，其特征在于，所述干涉带通滤光片的材料为融石英材料。
5. 根据权利要求1所述的适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器，其特征在于，所述干涉带通滤光片的谱段通过范围为400nm～1000nm。
6. 根据权利要求1所述的适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器，其特征在于，所述干涉带通滤光片的数量为至少8个。”
驳回决定认为，权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征在于：（1）滤波片类型是干涉滤波片，其上形成有镀膜层，所述镀膜层是通过激光镀膜的方式得到，干涉带通滤光片可以单个分别进行镀膜，采用真空镀膜或磁控反应溅射镀制所述镀膜层，镀膜时各处沉积速率均相同，通过镀膜时间来得到不同谱段的干涉带通滤光片；（2）所述干涉带通滤光片采用组合加工的加工方法，来保证的一致性，将多片窄条滤光片分别通过特制夹具固定在同一基底上，对所述窄条滤光片的工作表面以及集成粘接用表面采用同种加工工艺进行统一连续的加工。而上述区别技术特征（1）属于本领域的常规技术手段，上述区别技术特征（2）是本领域技术人员在对比文件1公开内容的基础上容易想到的技术手段。因此，权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-3、5的附加技术特征均被对比文件1公开，从属权利要求4的附加技术特征属于本领域的常规技术手段，从属权利要求6的附加技术特征被对比文件2所公开，并给出了结合启示。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，从属权利要求2-6不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年12月10日向国家知识产权局提出复审请求，提交了权利要求书的全文修改替换页，修改涉及：将从属权利要求3和6的附加技术特征加入权利要求1，删除从属权利要求3和6，并相应修改了权利要求的序号。同时还陈述了本申请具备创造性的理由：（1）权利要求１与对比文件1的区别在于：干涉带通滤光片的谱段半峰值宽度小于±5nm；干涉带通滤光片上设置有镀膜层；镀膜层是通过激光镀膜的方式得到，采用真空镀膜或磁控反应溅射镀制镀膜层，镀膜时各处沉积速率均相同，通过镀膜时间来得到不同谱段的干涉带通滤光片，适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器的干涉带通滤光片可以单个分别进行镀膜；干涉带通滤光片采用组合加工的加工方法，来保证一致性，将多片窄条滤光片分别通过特制夹具固定在同一基底上，对窄条滤光片的工作表面以及集成粘接用表面采用同种加工工艺进行统一连续的加工；所述干涉带通滤光片之间通过环氧树脂胶进行粘接结合在一起；干涉带通滤光片的数量为至少8个。（2）权利要求1与对比文件1解决的技术问题不同。对比文件1要解决的技术问题是：提供一种具有良好的光学性能及机械性能的光谱组合滤光片制备方法。而本申请则是提供一种适用精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器。（3）分谱器的制备可分为两种方式，方式1：在同一基底上镀膜或者刻蚀多光谱滤光片，对基底上某一区域镀膜谱段1，之后在其相邻区域镀谱段2，……，重复上述步骤，可制备多光谱分谱器；方式2：对单个窄带基底进行镀膜或刻蚀某一谱段，再将这些窄带滤光片胶接在一起。业内时下采用方式1，而且最高只能集成到４谱，权利要求1采用方式2，对比文件2采用单个窄带滤光片贴合到每个传感器像元上，与超高集成度多光谱分谱器本质思想不同，对比文件3采用方式1。对比文件1虽然也采用了方式2，但只是一些流程化的过程，其中没有提及如何实现单片滤光片的一致性，对比文件1中滤光片的拼接方法为碰运气的方式，导致良品率极低，无法真实应用在工程实践当中。本申请采用组合加工的方式从源头上控制了单片滤光片基底的尺寸和平面度，提升了集成度和良品率。（4）修改后的权利要求1，具有以下有益效果：适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器采用至少两个谱段不同的干涉带通滤光片相互结合在一起来实现适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器的集成，集成后的适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器，谱段精细度高，良品率高，可低成本实现多光谱。适用于精细多光谱成像仪光学系统，特别适合应用在航空航天、军事侦查、气象研究、精准农业、森林防火以及海岸巡航等领域。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年12月21日依法受理了该复审请求，并将其转送至原专利实质审查部门进行前置审查。
原专利实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年07月15日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征在于：干涉带通滤光片数量为至少8个，干涉带通滤光片的谱段半峰值宽度小于±5nm；干涉带通滤光片上设置有镀膜层；镀膜层是通过激光镀膜的方式得到，采用真空镀膜或磁控反应溅射镀制镀膜层，镀膜时各处沉积速率均相同，通过镀膜时间来得到不同谱段的干涉带通滤光片，适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器的干涉带通滤光片可以单个分别进行镀膜；干涉带通滤光片采用组合加工的加工方法，来保证一致性，将多片窄条滤光片分别通过特制夹具固定在同一基底上，对窄条滤光片的工作表面以及集成粘接用表面采用同种加工工艺进行统一连续的加工。基于上述区别技术特征可以确定，权利要求1实际要解决的技术问题是如何实现精细多光谱分光，如何提高分辨率，如何形成带通滤光片，如何保证多个滤光片的一致性。然而上述区别技术特征是本领域技术人员在对比文件1的基础上结合本领域的常规技术手段容易得到的。因此，权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-4的附加技术特征，或被对比文件1公开，或属于本领域的常规技术手段。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，从属权利要求2-4不具备专利法第22条第3款规定的创造性。同时，针对复审请求人的意见陈述，合议组给予了详细回应。
针对上述复审通知书，复审请求人于2019年08月23日提交了复审无效宣告程序意见陈述书，以及权利要求书的全文修改替换页。修改涉及：将权利要求1中的技术特征“所述干涉带通滤光片之间通过环氧树脂胶进行粘接结合在一起”修改为“具体步骤为：采用特制靠面作为基准实现高精度拼接，所述靠面平面度小于3μm，首先将筛选后的第一干涉带通滤光片擦拭干净，将其工作表面朝向靠面，以靠面作为基准进行靠实，并沿竖直方向在保证与基准贴合的同时滑入底部预定位置，之后通过涂胶装置将航空环氧树脂胶按照一定剂量均匀的涂在第一干涉带通上表面，然后将第二干涉带通滤光片擦拭干净，以靠面作为基准进行靠实，并沿竖直方向在保证与基准贴合的同时滑入，直至第二干涉带通滤光片下表面与第一干涉带通滤光片的上表面涂胶部分紧密贴合，之后通过涂胶装置将航空环氧树脂胶按照一定剂量均匀的涂在第二干涉带通滤光片，重复上述过程，直至所有滤光片粘接完毕； 在各干涉带通滤光片的粘接表面两侧加工十字型对准标记，每个干涉带通滤光片上的镀膜区域都与其十字标记保证固定位置关系，在干涉带通滤光片依据靠面基准的同时，在显微镜下将第一干涉带通滤光片上两侧的十字标记与第一干涉带通滤光片两侧的十字标记进行对准，再涂胶落下，集成牢固后，再将第三干涉带通滤光片上两侧的十字标记与第二干涉带通滤光片上两侧的十字标记进行对准，重复上述过程，直至所有滤光片粘接完毕；采用特制的镂空薄片，通过其上镂空的尺寸控制窄条滤光片胶接面上的涂胶量，将镂空薄片放置在第一干涉带通滤光片粘接面上，使镂空缝隙与粘接面对准并紧密贴合，通过注胶头将胶涂在薄片缝隙上，然后将镂空薄片取下，将第二干涉带通滤光片集成在粘接位置，重复此过程直至所有滤光片粘接完毕”，并将从属权利要求3-4的附加技术特征加入到权利要求1中，删除从属权利要求2-4。复审请求人认为：对比文件1的技术方案无法制造精细超高谱段分谱器，因为其中有太多关键技术细节被略过。本申请由于有靠面作为基准，实现集成后光学元件工作面无台阶状偏差，平面度小于5?m；由于有十字标记作为基准，实现在长度方向上滤光片集成一致性高；本申请采用特制的镂空薄片，通过其上镂空的尺寸控制窄条滤光片胶接面上的涂胶量，保证粘胶过程无溢胶。综上，本申请使得滤光片在粘接集成的过程中无溢胶，基准一致，无废片，大大提升了集成度和良品率，这些详实的过程控制的实施方案，以及集成滤光片的细节处理，是本申请相对于对比文件1最大的不同和创新点。
修改后的权利要求书如下：
“1. 一种适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器，其特征在于，包括：至少两个干涉带通滤光片，所述干涉带通滤光片相互结合在一起，且所述干涉带通滤光片的谱段不同；
所述干涉带通滤光片为窄条干涉带通滤光片，所述窄条干涉带通滤光片的形状为细长条状的长方体；
所述干涉带通滤光片的谱段半峰值宽度小于±5nm；
所述干涉带通滤光片上设置有镀膜层；
所述镀膜层是通过激光镀膜的方式得到，采用真空镀膜或磁控反应溅射镀制所述镀膜层，镀膜时各处沉积速率均相同，通过镀膜时间来得到不同谱段的干涉带通滤光片，所述适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器的干涉带通滤光片可以单个分别进行镀膜；
所述干涉带通滤光片采用组合加工的加工方法，来保证的一致性，将多片窄条滤光片分别通过特制夹具固定在同一基底上，对所述窄条滤光片的工作表面以及集成粘接用表面采用同种加工工艺进行统一连续的加工，具体步骤为：
采用特制靠面作为基准实现高精度拼接，所述靠面平面度小于3μm，首先将筛选后的第一干涉带通滤光片擦拭干净，将其工作表面朝向靠面，以靠面作为基准进行靠实，并沿竖直方向在保证与基准贴合的同时滑入底部预定位置，之后通过涂胶装置将航空环氧树脂胶按照一定剂量均匀的涂在第一干涉带通上表面，然后将第二干涉带通滤光片擦拭干净，以靠面作为基准进行靠实，并沿竖直方向在保证与基准贴合的同时滑入，直至第二干涉带通滤光片下表面与第一干涉带通滤光片的上表面涂胶部分紧密贴合，之后通过涂胶装置将航空环氧树脂胶按照一定剂量均匀的涂在第二干涉带通滤光片，重复上述过程，直至所有滤光片粘接完毕；
在各干涉带通滤光片的粘接表面两侧加工十字型对准标记，每个干涉带通滤光片上的镀膜区域都与其十字标记保证固定位置关系，在干涉带通滤光片依据靠面基准的同时，在显微镜下将第一干涉带通滤光片上两侧的十字标记与第一干涉带通滤光片两侧的十字标记进行对准，再涂胶落下，集成牢固后，再将第三干涉带通滤光片上两侧的十字标记与第二干涉带通滤光片上两侧的十字标记进行对准，重复上述过程，直至所有滤光片粘接完毕；
采用特制的镂空薄片，通过其上镂空的尺寸控制窄条滤光片胶接面上的涂胶量，将镂空薄片放置在第一干涉带通滤光片粘接面上，使镂空缝隙与粘接面对准并紧密贴合，通过注胶头将胶涂在薄片缝隙上，然后将镂空薄片取下，将第二干涉带通滤光片集成在粘接位置，重复此过程直至所有滤光片粘接完毕；
所述干涉带通滤光片的数量为至少8个，
所述干涉带通滤光片的材料为融石英材料，
所述干涉带通滤光片的谱段通过范围为400nm～1000nm。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
1. 审查文本的认定
复审请求人在2019年08月23日答复复审通知书时提交了权利要求书的全文修改替换页，其修改符合专利法第33条的规定。本复审请求审查决定针对的审查文本为：2019年08月23日提交的权利要求第1项，申请日2017年09月29日提交的说明书第1-7页、说明书附图第1-2页、说明书摘要以及摘要附图。
2. 关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求与作为最接近现有技术的对比文件之间存在区别技术特征，该区别技术特征中的一部分属于本领域的公知常识，其余部分未被其它对比文件公开，也没有证据表明其属于本领域的公知常识，且为该权利要求请求保护的技术方案带来了有益技术效果，则该权利要求具备创造性。
具体到本案：
权利要求1请求保护一种适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器，对比文件1公开了一种多光谱组合滤光片的制备方法，并具体公开了如下技术特征（参见说明书第[0002]-[0025]段）：高分辨率卫星的多光谱成像仪光学系统需要实现从可见到长波红外的全光谱多通道分光，要求将多个窄带/超窄带滤光片（即干涉带通滤光片）集成，形成微型组合滤光片，该微型组合滤光片的制备方法如下：（1）粘接胶配制：环氧树脂胶分为黑色主胶和白色辅助胶，黑色主胶和白色辅助胶以5:1质量比例混合，顺时针充分搅拌15分钟，并在50℃下真空出气5分钟；（2）滤光片清洗：按照组合滤光片通道顺序依次标记各通道滤光片编号，分别为第1通道、第2通道……，第n通道，每个通道滤光片尺寸为35mm×1.6mm×1.2mm（即单个滤光片形态为窄条，是细长条状的长方体），对各通道滤光片侧面粘胶面进行清洗；（3）第1通道滤光片与第2通道滤光片涂胶：在第1通道滤光片的一个侧面均匀涂上步骤（1）配制的粘接胶，然后将第2通道滤光片与第1通道滤光片的涂胶面相对应的一个侧面均匀涂上步骤（1）配制的粘接胶，将两片滤光片粘接在一起，得到拼接滤光片；（4）粘接胶固化；（5）拼接滤光片检测：在显微镜下检测粘接缝宽度、出胶情况，均满足要求；（6）重复步骤（3）~（5）的方法，依次将下一个通道的滤光片并排粘接到步骤（5）中经检测满足要求的上一个通道的滤光片上，直至完成所有滤光片的粘接。
权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征为：（1）干涉带通滤光片数量为至少8个，干涉带通滤光片的材料为融石英材料，干涉带通滤光片的谱段通过范围为400nm～1000nm，干涉带通滤光片的谱段半峰值宽度小于±5nm；干涉带通滤光片上设置有镀膜层；镀膜层是通过激光镀膜的方式得到，采用真空镀膜或磁控反应溅射镀制镀膜层，镀膜时各处沉积速率均相同，通过镀膜时间来得到不同谱段的干涉带通滤光片，适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器的干涉带通滤光片可以单个分别进行镀膜；干涉带通滤光片采用组合加工的加工方法，来保证一致性，将多片窄条滤光片分别通过特制夹具固定在同一基底上，对窄条滤光片的工作表面以及集成粘接用表面采用同种加工工艺进行统一连续的加工。（2）采用特制靠面作为基准实现高精度拼接，所述靠面平面度小于3μm，首先将筛选后的第一干涉带通滤光片擦拭干净，将其工作表面朝向靠面，以靠面作为基准进行靠实，并沿竖直方向在保证与基准贴合的同时滑入底部预定位置，之后通过涂胶装置将航空环氧树脂胶按照一定剂量均匀的涂在第一干涉带通上表面，然后将第二干涉带通滤光片擦拭干净，以靠面作为基准进行靠实，并沿竖直方向在保证与基准贴合的同时滑入，直至第二干涉带通滤光片下表面与第一干涉带通滤光片的上表面涂胶部分紧密贴合，之后通过涂胶装置将航空环氧树脂胶按照一定剂量均匀的涂在第二干涉带通滤光片，重复上述过程，直至所有滤光片粘接完毕；在各干涉带通滤光片的粘接表面两侧加工十字型对准标记，每个干涉带通滤光片上的镀膜区域都与其十字标记保证固定位置关系，在干涉带通 滤光片依据靠面基准的同时，在显微镜下将第一干涉带通滤光片上两侧的十字标记与第一干涉带通滤光片两侧的十字标记进行对准，再涂胶落下，集成牢固后，再将第三干涉带通滤光片上两侧的十字标记与第二干涉带通滤光片上两侧的十字标记进行对准，重复上述过程，直至所有滤光片粘接完毕；采用特制的镂空薄片，通过其上镂空的尺寸控制窄条滤光片胶接面上的涂胶量，将镂空薄片放置在第一干涉带通滤光片粘接面上，使镂空缝隙与粘接面对准并紧密贴合，通过注胶头将胶涂在薄片缝隙上，然后将镂空薄片取下，将第二干涉带通滤光片集成在粘接位置，重复此过程直至所有滤光片粘接完毕。
基于上述区别技术特征可以确定，权利要求1实际要解决的技术问题是：（1）如何实现精细多光谱分光，如何提高分辨率，如何形成带通滤光片，如何保证多个滤光片的一致性；（2）如何对单个已加工完成的干涉带通滤光片进行粘接集成以提升集成度和良品率。
关于区别技术特征（1），如上所述，对比文件1中已经公开了：高分辨率卫星的多光谱成像仪光学系统需要实现从可见到长波红外的全光谱多通道分光，本领域技术人员明了，为实现全光谱精细分光，理论上讲，对比文件1中的干涉带通滤光片越多越好，在此基础上，根据实际需要，将具体数量设置为至少8个，属于本领域的常规技术手段。
具体采用透光度较高的融石英材料制备干涉带通滤光片，为本领域的常规技术手段。
在对比文件1中已经公开了（参见说明书第[0015]段）“微型组合滤光片可以实现从可见到长波红外的全光谱多通道分光”的基础上，设置干涉带通滤光片的谱段通过范围为400nm~1000nm，也属于本领域的常规技术手段。
为提高光谱分辨率，设置干涉带通滤光片的谱段半峰值宽度小于±5nm，属于本领域的常规选择。
将对比文件1中的n个通道的滤光片逐个分别加工在本领域十分常见，单个干涉带通滤光片制作时，于其上设置有镀膜层；镀膜层是通过激光镀膜的方式得到，采用真空镀膜或磁控反应溅射镀制镀膜层，镀膜时各处沉积速率均相同，通过镀膜时间来得到n个不同谱段的干涉带通滤光片，为干涉带通滤光片的常规制作方法。
如上所述，对比文件1中公开了在显微镜下将n个窄带/超窄带滤光片粘接在一起以形成微型组合滤光片，本领域技术人员知悉，对于一个由n个滤光片粘接而成的组合滤光片而言，其整体面形受到每个单独滤光片面形尺寸、形位精度的影响，从而需要n个滤光片具有一致的面形尺寸以保证组合整体的面形精度。具体将多片窄条滤光片分别通过特制夹具固定在同一基底上，对窄条滤光片的工作表面以及集成粘接用表面采用同种加工工艺进行统一连续的加工，即采用组合加工的加工方法，来保证n个滤光片的一致性，对本领域技术人员而言是很容易想到的，且技术效果能够预期。
关于区别技术特征（2），对比文件1中对于多个窄带/超窄带滤光片的集成方法为（参见说明书第[0002]-[0025]段）：先对第1通道滤光片与第2通道滤光片涂胶，将两片滤光片粘接在一起，得到拼接滤光片；之后粘接胶固化；在将固化好的拼接滤光片于显微镜下检测，对于满足要求的拼接滤光片，依次将下一个通道的滤光片并排粘接到满足检测要求的通道滤光片上，直至完成所有滤光片的粘接。将不满足要求的拼接滤光片废弃，再使用与废弃通道相同的备用滤光片重复粘接。对比文件1的集成方法，采用显微镜观察无法做到100%无疏漏，当有残存溢胶留在分谱器上时，后续应用中，挡光、腐蚀等隐患巨大，极有可能导致分谱器在后续应用环节失效。根据对比文件1的教导，本领域技术人员没有动机采用特制靠面、十字型对准标记进行拼接，利用镂空薄片实现胶量控制等，从而整体提升集成度和良品率。
对比文件2公开了一种光谱阵列传感器，并具体公开了（参见说明书第1页第3-6段、图1-2）：其由一个窄带滤光片簇和阵列传感器构成，窄带滤光片簇由一系列不同中心波长的窄带滤光片顺序排列而成，并与阵列传感器的传感元紧密结合，每一种中心波长的滤光片对应一个传感元，窄带滤光片可以是由10至100个不同中心波长的窄带滤光片顺序排列而成，通常使用的窄带滤光片的通带宽度可为10nm，而滤光片中心波长从紫外到红外都有。可见，对比文件2不涉及多个窄带滤光片的集成和拼接方法，从而无法给出技术启示采用上述区别技术特征（2）以提升集成度和良品率。
由此可见，对比文件1和对比文件2都没有给出技术启示采用上述区别技术特征（2）以获得本申请的技术方案，目前也无足够证据证明上述区别技术特征（2）属于本领域的公知常识，且通过上述区别技术特征（2），权利要求1的技术方案采用特制靠面、十字型对准标记进行拼接，利用镂空薄片实现胶量控制能够提升整体结构的集成度和良品率。
因此，对于本领域技术人员而言，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域的公知常识不能显而易见地得到权利要求1的技术方案，权利要求1具备专利法第22条第3款规定的创造性。
基于上述事实和理由，合议组依法作出以下决定。
三、决定
撤销国家知识产权局于2018年08月29日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局原专利实质审查部门在本复审请求审查决定针对的文本基础上对本申请继续进行审查。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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