发明创造名称：具有表面改性层的有机发光二极管
外观设计名称：
决定号：189648
决定日：2019-09-10
委内编号：1F278633
优先权日：2014-04-24, 2015-04-16
申请（专利）号：201580020963.0
申请日：2015-04-17
复审请求人：维特罗平板玻璃有限责任公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：程凯芳
合议组组长：陈冬冰
参审员：周文娟
国际分类号：H01L51/52,H01L51/56
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求请求保护的技术方案与一篇作为最接近的现有技术的对比文件相比存在多个区别技术特征，其中部分区别技术特征被其他对比文件公开且具有技术启示，其余区别技术特征是本领域技术人员结合本领域的公知常识容易得到的，则该权利要求的技术方案不具有突出的实质性特点，不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201580020963.0，发明名称为“具有表面改性层的有机发光二极管”的PCT发明专利申请(下称本申请)。本申请的申请人原为PPG工业俄亥俄公司，后于2017年03月10日变更为VITRO可变资本股份有限公司，后于2019年11月13日变更为维特罗平板玻璃有限责任公司，申请日为2015年04月17日，优先权日为2014年04月24日、2015年04月16日，进入中国国家阶段日为2016年10月21日，公开日为2016年12月14日。
经实质审查，国家知识产权局实质审查部门于2019年02月19日发出驳回决定，以权利要求1-14不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由驳回了本申请。驳回决定所依据的文本为：于2016年10月21日进入中国国家阶段时提交的国际申请文件的中文译文的说明书第1-25页、说明书附图第1-3页、说明书摘要、摘要附图，于2018年10月22日提交的权利要求第1-14项。
驳回决定所针对的权利要求书内容如下：
“1. 有机发光二极管(10)，包含:
具有第一表面(14)和第二表面(16)的基板(12)；
第一电极(32)；
第二电极(38)；
位于第一电极(32)和第二电极(38)之间的发射层(36),和
位于第一电极(32)和基板(12)之间的包括不平坦表面(30，52)的表面改性层(18),其中表面改性层(18)包括多层结构，该多层结构包括基板(12)的至少一部分上的包含含有机硅的涂料材料的第一膜(20)和第一膜(20)的至少一部分上的第二膜(26)，
其中该第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物，和其中该第二膜是在氧气气氛中通过MSVD形成的。
2. 权利要求1的有机发光二极管(10)，其中该含有机硅的涂料材料是聚烷基硅氧烷。
3. 权利要求1的有机发光二极管(10)，特征在于第一膜(20)具有第一膨胀系数，第二膜(26)具有第二膨胀系数，且第一膨胀系数大于第二膨胀系数。
4. 权利要求1至3中任一项的有机发光二极管(10)，特征在于第一膜(20)包括聚二甲基硅氧烷。
5. 权利要求1至3中任一项的有机发光二极管(10)，特征在于第二膜(26)比第一膜(20)薄。
6. 权利要求1至3中任一项的有机发光二极管(10)，特征在于第二膜(26)由MSVD形成。
7. 权利要求1至3中任一项的有机发光二极管(10)，特征在于第一膜(20)由湿式沉积法形成。
8. 权利要求7的有机发光二极管(10)，其中湿式沉积法选自旋涂、喷涂、流涂、狭缝型挤压式涂布和/或幕涂。
9. 权利要求1至3中任一项的有机发光二极管(10)，特征在于表面改性层(18)包括并入其中的纳米颗粒(42)。
10. 制造有机发光二极管(10)的方法，特征在于:
在基板(12)的至少一部分上形成表面改性层(18)，其中表面改性层(18)包括多层结构，该多层结构包括基板(12)的至少一部分上的包含含有机硅的涂料材料的第一膜(20)和第一膜(20)的至少一部分上的第二膜(26)；
导致表面改性层(18)膨胀和收缩以提供具有不平坦表面(30)的表面改性层(18)；和
在表面改性层(18)上形成包括第一电极(32)、发射层(36)和第二电极(38)的额外层，使得至少一个额外层包括不平坦表面，
其中该第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物，和其中该第二膜是在氧气气氛中通过MSVD形成的。
11. 权利要求10的方法，特征在于含有机硅的涂料材料是聚烷基硅氧烷，其中第一膜(20)具有比第二膜(26)大的膨胀系数，和该方法包括:
在基板(12)的至少一部分上形成第一膜(20)；
使第一膜(20)的表面积从第一表面积增加至第二表面积；
在第一膜(20)具有大于第一表面积的表面积时，在第一膜(20)上形成第二膜(26)；和
使第一膜(20)收缩，使得第二膜(26)具有不平坦表面(30)。
12. 权利要求10的方法，特征在于第一膜(20)由湿式沉积法形成，第二膜(26)由MSVD形成，增加步骤通过加热第一膜(20)实现，和导致步骤通过冷却第一膜(20)实现。
13. 权利要求1至9中任一项的有机发光二极管(10)在电子器件中的用途。
14. 根据权利要求13的有机发光二极管(10)的用途，其中电子器件选自计算机监视器、计算机屏幕、移动电话、电视屏幕、个人数字助理、手表和照明器件。”
驳回决定引用了如下对比文件：
对比文件1：TW201407824A，公开日：2014年02月16日；
对比文件2：CN102449801A，公开日：2012年05月09日。
驳回决定中指出：1）独立权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征为：（1）第一膜包含含有机硅的涂料材料；（2）第二膜选自氧化铝与二氧化硅的混合物，其中该第二膜是在氧气气氛中通过MSVD形成的。上述区别技术特征（1）、（2）是本领域技术人员在对比文件1的基础上结合本领域的公知常识容易得到的。因此，权利要求1不具备创造性。2）独立权利要求10与对比文件1相比，区别技术特征为：（1）第一膜包含含有机硅的涂料材料；（2）第二膜选自氧化铝与二氧化硅的混合物。上述区别技术特征（1）、（2）是本领域技术人员在对比文件1的基础上结合本领域的公知常识容易得到的。因此，权利要求10不具备创造性。3）从属权利要求2-9、11-12的附加技术特征或被对比文件1公开，或被对比文件2公开且具有技术启示，或属于本领域的公知常识，因此，从属权利要求2-9、11-12也不具备创造性。4）独立权利要求13请求保护一种权利要求1至9中任一项的有机发光二极管在电子器件中的用途，对比文件1公开了有机发光二极管在发光面板（即电子器件）中的应用。因此，在其引用的权利要求1-9任一项不具备创造性的情况下，权利要求13不具备创造性。5）从属权利要求14的部分附加技术特征被对比文件1公开，其余附加技术特征属于本领域的公知常识，因此，从属权利要求14也不具备创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年04月09日向国家知识产权局提出了复审请求，同时提交了权利要求书的全文修改替换页，共包括12项权利要求。其中，基于驳回决定所针对的权利要求书作了如下修改：将独立权利要求1中的技术特征“位于第一电极和基板之间的包括不平坦表面的表面改性层”修改为“包括不平坦表面的表面改性层位于第一电极和基板之间”，删除独立权利要求1中的技术特征“包含有机硅的涂料材料的”、“和其中该第二膜是在氧气气氛中通过MSVD形成的”，在独立权利要求1中加入技术特征“和其中第一膜具有第一膨胀系数，第二膜具有第二膨胀系数，且第一膨胀系数大于第二膨胀系数”，将权利要求2的附加技术特征修改为“第一膜包含聚合物型材料”，将权利要求3的附加技术特征修改为“第一膜包含聚烷基硅氧烷”，删除权利要求8、11，将权利要求10中的技术特征“在基板的至少一部分上形成表面改性层，其中表面改性层包括多层结构，该多层结构包括基板的至少一部分上的包含含有机硅的涂料材料的第一膜和第一膜的至少一部分上的第二膜；和其中该第二膜是在氧气气氛中通过MSCVD形成的”修改为“在基板的至少一部分上形成第一膜；使第一膜的表面积从第一表面积增加至第二表面积；在第一膜具有大于第一表面积的表面积时，在第一膜上形成第二膜；导致第一膜收缩，使得第二膜具有不平坦表面”，并适应性地修改了权利要求的编号和引用关系。
提出复审请求时新修改的权利要求1-3、9内容如下：
“1. 有机发光二极管(10)，包含:
具有第一表面(14)和第二表面(16)的基板(12)；
第一电极(32)；
第二电极(38)；
位于第一电极(32)和第二电极(38)之间的发射层(36),和
包括不平坦表面(30，52)的表面改性层(18)位于第一电极(32)和基板(12)之间,其中表面改性层(18)包括多层结构，该多层结构包括基板(12)的至少一部分上的第一膜(20)和第一膜(20)的至少一部分上的第二膜(26)，和其中第一膜(20)具有第一膨胀系数，第二膜(26)具有第二膨胀系数，且第一膨胀系数大于第二膨胀系数，其中该第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物。
2. 权利要求1的有机发光二极管(10)，特征在于第一膜(20)包含聚合物型材料。
3. 权利要求1的有机发光二极管(10)，特征在于第一膜(20)包含聚烷基硅氧烷。”
“9. 制造有机发光二极管(10)的方法，特征在于:
在基板(12)的至少一部分上形成第一膜(20)；
使第一膜(20)的表面积从第一表面积增加至第二表面积；
在第一膜(20)具有大于第一表面积的表面积时，在第一膜(20)上形成第二膜(26)，其中该第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物；和
导致第一膜(20)收缩，使得第二膜(26)具有不平坦表面(30)；
导致表面改性层(18)膨胀和收缩以提供具有不平坦表面(30)的表面改性层(18)；和
在表面改性层(18)上形成包括第一电极(32)、发射层(36)和第二电极(38)的额外层，使得至少一个额外层包括不平坦表面。”
复审请求人认为：对比文件1教导了无机膜是导电金属氧化物，对比文件1没有教导无机膜可以是氧化铝和二氧化硅的混合物，这是因为氧化铝-二氧化硅层不用作太阳能电池中的导电金属氧化物，相反，掺杂铟的氧化锡、掺杂镓的氧化锌或掺杂铝的氧化锌通常用于导电金属氧化物，没有理由用氧化铝-二氧化硅层代替对比文件1的导电氧化物层。
经形式审查合格，国家知识产权局受理了该复审请求，于2019年04月17日向复审请求人发出了复审请求受理通知书，并将其转送至国家知识产权局实质审查部门进行前置审查。
实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
针对该复审请求，国家知识产权局依法成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年07月09日向复审请求人发出复审通知书，指出权利要求1-12相对于对比文件1、2和本领域公知常识的结合不具备创造性。具体为：1）权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征为：（1）第一膨胀系数大于第二膨胀系数；（2）该第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物。上述区别技术特征（1）被对比文件2公开且作用相同，上述区别技术特征（2）是本领域技术人员在对比文件1的基础上结合本领域的公知常识容易得到的。因此，权利要求1不具备创造性。2）权利要求9与对比文件1相比，区别技术特征为：（1）使第一膜的表面积从第一表面积增加至第二表面积；在第一膜具有大于第一表面积的表面积时，在第一膜上形成第二膜；导致第一膜收缩，使得第二膜具有不平坦表面；（2）该第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物。上述区别技术特征（1）被对比文件2公开且作用相同，上述区别技术特征（2）是本领域技术人员在对比文件1的基础上结合本领域的公知常识容易得到的。因此，权利要求9不具备创造性。3）从属权利要求2-8、10的附加技术特征或被对比文件1、对比文件2公开，或属于本领域的公知常识，因此，权利要求2-8、10不具备创造性。4）独立权利要求11请求保护一种权利要求1至8中任一项的有机发光二极管在电子器件中的用途。对比文件1公开了（参见说明书第[0007]段）背景技术中所述的有机EL元件不适合显示装置和照明等用途，可见对比文件1是为了解决现有技术中有机EL元件不适合显示装置和照明等用途而进行的改进，即对比文件1中所述的有机EL元件适合显示装置和照明（即电子器件）等用途。因此，在权利要求1-8任一项不具备创造性的情况下，权利要求11也不具备创造性。5）从属权利要求12的附加技术特征或被对比文件1公开，或属于本领域的常用技术手段，因此，从属权利要求12也不具备创造性。
针对复审请求人的意见陈述，合议组指出：虽然对比文件1中没有公开无机膜13的材料是氧化铝与二氧化硅的混合物，对比文件1中公开了无机膜13的材料为导电性的金属氧化物以及金属氮化物的至少1种材料（参见说明书第[0042]段），然而这是因为对比文件1的一个实施例使得无机膜13可以直接用作电极（参见说明书第[0077]段、附图2所示的第一电极23）；当不需要将无机膜用作电极时，如对比文件1的说明书附图3所示的有机EL器件明确记载具有第一电极23和第二电极22，在该实施例中无机膜13并不用作为电极，那么此时无机膜13的材料也无需具备导电性；在创造性评述中引用的对比文件1的技术方案是附图3所示的有机EL器件，并非复审请求人所述的“太阳能电池”；在对比文件1已经给出了利用上下两层膜间热膨胀系数的差异制备具有不平坦表面的技术启示的基础上，本领域的技术人员根据实际需要可以灵活选择符合热膨胀系数条件的材料，对比文件1中列举的无机膜材料的选择范围中明确记载有二氧化硅，而氧化铝是常见的金属氧化物材料，设置第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物是本领域技术人员根据实际需要可通过有限常规试验获得的组合，其带来的技术效果是可以预料得到的。
复审请求人于2019年08月23日提交了意见陈述书和权利要求书的全文修改替换页，共包括10项权利要求。其中，基于复审通知书所针对的权利要求书作了如下修改：在独立权利要求1、9中加入技术特征“特征在于第一膜包含聚烷聚硅氧烷”，删除权利要求2、3，并适应性地修改了权利要求的编号和引用关系。
答复复审通知书时新修改的权利要求1、7内容如下：
“1. 有机发光二极管(10)，包含:
具有第一表面(14)和第二表面(16)的基板(12)；
第一电极(32)；
第二电极(38)；
位于第一电极(32)和第二电极(38)之间的发射层(36),和
包括不平坦表面(30，52)的表面改性层(18)位于第一电极(32)和基板(12)之间,其中表面改性层(18)包括多层结构，该多层结构包括基板(12)的至少一部分上的第一膜(20)和第一膜(20)的至少一部分上的第二膜(26)，和其中第一膜(20)具有第一膨胀系数，第二膜(26)具有第二膨胀系数，且第一膨胀系数大于第二膨胀系数，其中该第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物，特征在于第一膜(20)包含聚烷基硅氧烷。”
“7. 制造有机发光二极管(10)的方法，特征在于:
在基板(12)的至少一部分上形成第一膜(20)；
使第一膜(20)的表面积从第一表面积增加至第二表面积；
在第一膜(20)具有大于第一表面积的表面积时，在第一膜(20)上形成第二膜(26)，其中该第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物；和
导致第一膜(20)收缩，使得第二膜(26)具有不平坦表面(30)；
导致表面改性层(18)膨胀和收缩以提供具有不平坦表面(30)的表面改性层(18)；和
在表面改性层(18)上形成包括第一电极(32)、发射层(36)和第二电极(38)的额外层，使得至少一个额外层包括不平坦表面，特征在于第一膜(20)包含聚烷基硅氧烷。”
复审请求人认为：（1）对比文件1在其整个说明书中教导对于无机膜13的材料应该是导电的，这与合议组认为无机膜13的材料不必具有导电性的观点是相反的；本领域技术人员知道氧化铝和二氧化硅都具有差的导电性，在面对对比文件1的相反教导（其要求无机膜含有导电金属氧化物）时，将不会有动机将氧化铝和二氧化硅的混合物代替对比文件1所需的导电的金属氧化物和金属氮化物；本申请权利要求3记载了第一膜包含聚二甲基硅氧烷，对比文件1完全没有提到该特定的组分，相比之下，对比文件1所列出的众多组分在化学性质方面与聚二甲基硅氧烷是完全不同的，对此申请人将权利要求3中的该特征并入到权利要求1中以进一步与D1区分开来。（2）对比文件2中的涂膜11仅被定义为可选的，表明它不是对比文件2技术方案中的必要组成，与对比文件2不同，本申请权利要求中的第二膜是必不可少的，因此，在对比文件2的教导下，本领域技术人员不会有动机引用对比文件2来补救对比文件1中的缺陷。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以依法作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人于2019年08月23日提交了权利要求书的全文修改替换页，共包括10项权利要求，经审查，所作的修改符合专利法实施细则第61条第1款和专利法第33条的规定。本复审请求审查决定针对的审查文本为：复审请求人于2016年10月21日进入中国国家阶段时提交的国际申请文件的中文译文的说明书第1-25页、说明书附图第1-3页、说明书摘要、摘要附图，于2019年08月23日提交的权利要求第1-10项。
2、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案与一篇作为最接近的现有技术的对比文件相比存在多个区别技术特征，其中部分区别技术特征被其他对比文件公开且具有技术启示，其余区别技术特征是本领域技术人员结合本领域的公知常识容易得到的，则该权利要求的技术方案不具有突出的实质性特点，不具备创造性。
本复审请求审查决定在评价创造性时引用的对比文件与驳回决定以及复审通知书引用的对比文件相同，即：
对比文件1：TW201407824A，公开日：2014年02月16日；
对比文件2：CN102449801A，公开日：2012年05月09日。
2.1、关于权利要求1的创造性
权利要求1请求保护一种有机发光二极管。对比文件1公开了一种有机EL元件，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第[0024]-[0101]段，附图3）：包含: 具有第一表面和第二表面的基材11（即基板）；第一电极23；第二电极22；位于第一电极23和第二电极22之间的发光层21（即发射层），和位于第一电极23和基材11之间的包括皱纹状的凹凸结构表面（即不平坦表面）的底涂层12和无机膜13（二者共同相当于表面改性层）；基材上的底涂层12（即基板的至少一部分上的第一膜）和无机膜13（即第一膜的至少一部分上的第二膜）构成多层结构（即表面改性层包括多层结构）；皱折现象是指向底涂层12上层积无机膜13时发生的、由于底涂层12与无机膜13的热收缩率差和弹性模量差形成凹凸结构（参见说明书第[0039]段），由于底涂层12与无机膜13具有热收缩率差，即底涂层12（即第一膜）具有第一膨胀系数，无机膜13（即第二膜）具有第二膨胀系数，二者的热膨胀系数不同；无机膜13的材料为导电性的金属氧化物，选自ITO(铟锡氧化物)、IZO(铟锌氧化物)、FTO(氟掺杂锡氧化物)、GZO(镓掺杂锌氧化物)、AZO(铝掺杂锌氧化物)、ATO(锑掺杂锡氧化物)、氧化铟、氧化锌、氧化锡、氧化钛、氧化镁、氧化锆、二氧化硅等的金属氧化物中的至少一种材料。
权利要求1请求保护的技术方案与对比文件1的区别技术特征在于：（1）第一膨胀系数大于第二膨胀系数；（2）该第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物；第一膜包含聚烷基硅氧烷。
基于该区别技术特征，该权利要求的技术方案相比于对比文件1实际解决的技术问题是：（1）如何设置第一膜和第二膜的热膨胀系数以实现不平坦表面的制备；（2）提供另一种第二膜材料选择；提供另一种第一膜材料选择。
对于区别技术特征（1），对比文件2公开了一种具有纹理化表面的OLED结构及其制备方法，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第[0013]-[0222]段，附图1、3a-7）：利用基底玻璃10（即第一膜）的自由热收缩与涂覆薄膜11（即第二膜）的自由热收缩之差，通过加热后冷却的方法，制备具有纹理化褶皱的表面，其中基底玻璃的自由热收缩ε1和涂覆薄膜自由热收缩ε2之间的差值至少为0.1%，优选大于0.3%，或设置大于或等于0.55%（参见说明书第[0016]段），其中玻璃的平均线性热膨胀系数大于涂敷薄膜的平均线性热膨胀系数，例如基底在超过玻璃化转变温度的温度下的平均线性热膨胀系数约为30×10-6K-1，ZnO涂覆薄膜在超过基底玻璃化转变温度的温度下的平均线性热膨胀系数约为60×10-7K-1。由此可见，上述区别技术特征（1）已被对比文件2公开，而且该技术特征在对比文件2中所起的作用与其在本申请中为解决上述技术问题所起的作用相同，都是设置位于下部的膜的热膨胀系数大于位于上部的膜的热膨胀系数以制备不平坦表面，也就是说对比文件2给出了将对比文件1中的底涂层的第一膨胀系数设置为大于无机膜的第二膨胀系数以制备不平坦表面的技术启示。
对于区别技术特征（2），虽然对比文件1中没有公开无机膜13的材料是氧化铝与二氧化硅的混合物，对比文件1中公开了无机膜13的材料为导电性的金属氧化物以及金属氮化物的至少1种材料（参见说明书第[0042]段），然而这是因为对比文件1的一个实施例使得无机膜13可以直接用作电极（参见说明书第[0077]段、附图2所示的第一电极23）；当不需要将无机膜用作电极时，如对比文件1的说明书附图3所示的有机EL器件明确记载具有第一电极23和第二电极22，在该实施例中无机膜13并不用作为电极，那么此时无机膜13的材料也无需具备导电性；在对比文件1已经给出了利用上下两层膜间热膨胀系数的差异制备具有不平坦表面的技术启示的基础上，本领域的技术人员根据实际需要可以灵活选择符合热膨胀系数条件的材料，对比文件1中列举的无机膜材料的选择范围中明确记载有二氧化硅，而氧化铝是常见的金属氧化物材料，对比文件1公开了（参见说明书第[0027]-[0037]段）“底涂层12包括聚合物型材料”，而聚烷基硅氧烷是常见的聚合物型材料，设置第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物以及设置第一膜包含聚烷基硅氧烷是本领域技术人员根据实际需要可的常规选择，其带来的技术效果是可以预料得到的。
由此可知，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域公知常识，得出该权利要求所请求保护的技术方案，对本领域的技术人员来说是显而易见的。因此该权利要求所请求保护的技术方案不具有突出的实质性特点，不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
2.2、关于权利要求2-6的创造性
权利要求2引用了权利要求1，对比文件1公开了（参见说明书第[0027]-[0037]段）：底涂层12包括聚合物型材料。进一步地，设置第一膜包含聚二甲基硅氧烷，是本领域技术人员根据实际需要可作出的常规选择，其带来的技术效果是可以预料的。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性时，该从属权利要求2也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
权利要求3引用了权利要求1至2中任一项，对比文件1公开了（参见说明书第[0038]、[0044]、[0122]段，附图3）：底涂层12的的厚度优选0.1μm-100μm，进一步优选0.2μm-80μm，更进一步优选0.5μm-40μm；无机膜13的厚度优选0.1nm-1000nm，进一步优选1nm-800nm，更进一步优选5nm-500nm；实施例10-11的底涂层12（即第一膜）厚度为8μm，无机膜13（即第二膜）厚度分别为50nm和100nm（即第二膜比第一膜薄）。因此，在其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
权利要求4引用了权利要求1至2中任一项，采用磁控溅射真空沉积MSVD是本领域常见的无机膜制备方法，属于本领域公知常识。因此，在其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
权利要求5引用了权利要求1至2中任一项，对比文件1公开了（参见说明书第[0028]段）：作为活化能射线固化性组合物向基材11的涂布方法，可以列举公知的涂布方法，例如，可以列举刷涂、喷涂、浸涂、旋涂和流涂等（即第一膜由湿式沉积法形成）。因此，在其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
权利要求6引用了权利要求1至2中任一项，在光提取层中增加纳米颗粒以提高光提取效率是本领域惯用的技术手段，属于本领域公知常识；在对比文件1公开了利用包含皱纹状的凹凸结构表面的底涂层和无机膜构成的层积体作为光提取增强结构的基础上，本领域技术人员为了进一步提高光取出效果，有动机在例如底涂层中加入纳米颗粒，其带来的技术效果是可以预料的。因此，在其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
2.3、关于权利要求7的创造性
权利要求7请求保护一种制造有机发光二极管的方法。对比文件1公开了一种制造有机EL元件的方法，并具体公开了以下的技术特征（参见说明书第[0024]-[0101]段，附图3）：在基材11上（即公开了基板的至少一部分上）形成底涂层12（即第一膜）；在底涂层12上形成无机膜13（即第二膜）；皱折现象是指向底涂层12上层积无机膜13时发生的、由于底涂层12与无机膜13的热收缩率差和弹性模量差形成凹凸结构（即导致表面改性层膨胀和收缩以提供具有不平坦表面的表面改性层）；和在底涂层12和无机膜13（二者共同相当于表面改性层）上形成包括第一电极23、发光层21（即发射层）和第二电极22的额外层，如附图3所示，第一电极23、发光层21和第二电极22都具有皱纹状的凹凸结构表面（即使得至少一个额外层包括不平坦表面）；无机膜13的材料为导电性的金属氧化物，选自ITO(铟锡氧化物)、IZO(铟锌氧化物)、FTO(氟掺杂锡氧化物)、GZO(镓掺杂锌氧化物)、AZO(铝掺杂锌氧化物)、ATO(锑掺杂锡氧化物)、氧化铟、氧化锌、氧化锡、氧化钛、氧化镁、氧化锆、二氧化硅等的金属氧化物中的至少一种材料。
该权利要求请求保护的技术方案与对比文件1的区别技术特征在于：（1）使第一膜的表面积从第一表面积增加至第二表面积；在第一膜具有大于第一表面积的表面积时，在第一膜上形成第二膜；导致第一膜收缩，使得第二膜具有不平坦表面；（2）该第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物；第一膜包含聚烷基硅氧烷。
基于该区别技术特征，该权利要求的技术方案相比于对比文件1实际解决的技术问题是：（1）如何实现不平坦表面的制备；（2）提供另一种第二膜材料选择；提供另一种第一膜材料选择。
对于区别技术特征（1），对比文件2公开了一种具有纹理化表面的OLED结构及其制备方法，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第[0013]-[0222]段，附图1、3a-7）：利用基底玻璃10（即第一膜）的自由热收缩与涂覆薄膜11（即第二膜）的自由热收缩之差，通过加热后冷却的方法，制备具有纹理化褶皱的表面，其中基底玻璃的自由热收缩ε1和涂覆薄膜自由热收缩ε2之间的差值至少为0.1%，优选大于0.3%，或设置大于或等于0.55%（参见说明书第[0016]段），其中玻璃的平均线性热膨胀系数大于涂敷薄膜的平均线性热膨胀系数，例如基底在超过玻璃化转变温度的温度下的平均线性热膨胀系数约为30×10-6K-1，ZnO涂覆薄膜在超过基底玻璃化转变温度的温度下的平均线性热膨胀系数约为60×10-7K-1；该方法包括:在已经加热的基底上（即使第一膜的表面积从第一表面积增加至第二表面积）沉积薄膜11（即在第一膜具有大于第一表面积的表面积时，在第一膜上形成第二膜），在冷却基底后使表面产生褶皱（即导致第一膜收缩，使得第二膜具有不平坦表面）。由此可见，上述区别技术特征（1）已被对比文件2公开，而且该技术特征在对比文件2中所起的作用与其在本申请中为解决上述技术问题所起的作用相同，都是用于制备不平坦表面，也就是说对比文件2给出了设置对比文件1中底涂层具有大于第一表面积的表面积时，在底涂层上形成无机膜以制备不平坦表面的技术启示。
对于区别技术特征（2），虽然对比文件1中没有公开无机膜13的材料是氧化铝与二氧化硅的混合物，对比文件1中公开了无机膜13的材料为导电性的金属氧化物以及金属氮化物的至少1种材料（参见说明书第[0042]段），然而这是因为对比文件1的一个实施例使得无机膜13可以直接用作电极（参见说明书第[0077]段、附图2所示的第一电极23）；当不需要将无机膜用作电极时，如对比文件1的说明书附图3所示的有机EL器件明确记载具有第一电极23和第二电极22，在该实施例中无机膜13并不用作为电极，那么此时无机膜13的材料也无需具备导电性；在对比文件1已经给出了利用上下两层膜间热膨胀系数的差异制备具有不平坦表面的技术启示的基础上，本领域的技术人员根据实际需要可以灵活选择符合热膨胀系数条件的材料，对比文件1中列举的无机膜材料的选择范围中明确记载有二氧化硅，而氧化铝是常见的金属氧化物材料，对比文件1公开了（参见说明书第[0027]-[0037]段）“底涂层12包括聚合物型材料”，而聚烷基硅氧烷是常见的聚合物型材料，设置第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物以及设置第一膜包含聚烷基硅氧烷是本领域技术人员根据实际需要的常规选择，其带来的技术效果是可以预期的。
由此可知，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域公知常识，得出该权利要求所请求保护的技术方案，对本领域的技术人员来说是显而易见的。因此该权利要求所请求保护的技术方案不具有突出的实质性特点，不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
2.4、关于权利要求8的创造性
权利要求8引用了权利要求7，对比文件1公开了（参见说明书第[0028]段）：作为活化能射线固化性组合物向基材11的涂布方法，可以列举公知的涂布方法，例如，可以列举刷涂、喷涂、浸涂、旋涂和流涂等。（即第一膜由湿式沉积法形成）。对比文件2公开了（参见说明书第[0013]-[0222]段，附图1、3a-7）：在热的基底上沉积薄膜11（即增加步骤通过加热第一膜实现），在冷却后使表面产生褶皱（即导致步骤通过冷却第一膜实现）。然而，采用磁控溅射真空沉积MSVD是本领域常见的无机膜制备方法，属于本领域公知常识。因此，在其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
2.5、关于权利要求9-10的创造性
权利要求9请求保护一种权利要求1至6中任一项的有机发光二极管在电子器件中的用途。对比文件1公开了（参见说明书第[0007]段）背景技术中所述的有机EL元件不适合显示装置和照明等用途，可见对比文件1是为了解决现有技术中有机EL元件不适合显示装置和照明等用途而进行的改进，即对比文件1中所述的有机EL元件适合显示装置和照明（即电子器件）等用途。因此，在权利要求1-6任一项不具备创造性的情况下，权利要求9也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
权利要求10引用了权利要求9，对比文件1公开了（参见说明书第[0007]段）有机EL元件在显示装置和照明中的应用，而应用于计算机监视器、计算机屏幕、移动电话、电视屏幕、个人数字助理、手表是本领域惯用技术手段，属于本领域公知常识。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的情况下，权利要求10也不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
3、对复审请求人相关意见的答复
针对复审请求人答复复审通知书时的意见陈述，合议组认为：
（1）虽然对比文件1中没有公开无机膜13的材料是氧化铝与二氧化硅的混合物，对比文件1中公开了无机膜13的材料为导电性的金属氧化物以及金属氮化物的至少1种材料（参见说明书第[0042]段），然而这是因为对比文件1的一个实施例使得无机膜13可以直接用作电极（参见说明书第[0077]段、附图2所示的第一电极23）；当不需要将无机膜用作电极时，如对比文件1的说明书附图3所示的有机EL器件明确记载具有第一电极23和第二电极22，在该实施例中无机膜13并不用作为电极，那么此时无机膜13的材料也无需具备导电性；在对比文件1已经给出了利用上下两层膜间热膨胀系数的差异制备具有不平坦表面的技术启示的基础上，本领域的技术人员根据实际需要可以灵活选择符合热膨胀系数条件的材料，对比文件1中列举的无机膜材料的选择范围中明确记载有二氧化硅，而氧化铝是常见的金属氧化物材料，对比文件1公开了（参见说明书第[0027]-[0037]段）“底涂层12包括聚合物型材料”，而聚二甲基硅氧烷是常见的聚合物型材料，其性质为本领域公知，设置第二膜是氧化铝与二氧化硅的混合物以及设置第一膜包含聚二甲基硅氧烷是本领域技术人员根据实际需要的常规选择，其带来的技术效果是可以预料得到的。
（2）对比文件1为最接近的现有技术，其公开了无机膜13（即第二膜）是必不可少的，对比文件2给出了设置对比文件1中底涂层的第一膨胀系数大于无机膜的第二膨胀系数以制备不平坦表面的技术启示。
综上，复审请求人的意见陈述不足以作为权利要求具备创造性的理由，合议组不予支持。
根据以上事实和理由，本案合议组依法作出如下决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2019年02月19日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本复审请求审查决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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