发明创造名称：显示基板及其制造方法、显示面板和掩膜板
外观设计名称：
决定号：189224
决定日：2019-09-05
委内编号：1F268653
优先权日：
申请（专利）号：201410841697.5
申请日：2014-12-30
复审请求人：京东方科技集团股份有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：张月
合议组组长：徐颖
参审员：赵颖
国际分类号：H01L27/32,H01L51/52,H01L51/56,C23C14/04
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求所要求保护的技术方案与作为最接近现有技术的对比文件相比存在区别技术特征，但是上述区别技术特征已被其它对比文件公开或属于本领域的公知常识，即现有技术中给出了将上述区别技术特征应用到该对比文件以解决其存在的技术问题的启示，本领域技术人员在现有技术的基础上得到该权利要求的技术方案是显而易见的，那么该项权利要求所要保护的技术方案不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201410841697.5，名称为“显示基板及其制造方法、显示面板和掩膜板”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为京东方科技集团股份有限公司，申请日为2014年12月30日，公开日为2015年05月27日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年09月05日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-9不符合专利法第22条第3款的规定。驳回决定所依据的文本为：申请日2014年12月30日提交的说明书摘要、说明书第1-138段、说明书附图图1-7；2015年03月17日提交的摘要附图；2017年11月10日提交的权利要求第1-9项。
驳回引用的对比文件为：
对比文件1：US2006017375A1，公开日为2006年01月26日；
对比文件3：CN103066212A，公开日为2013年04月24日。
驳回理由具体为：对比文件3为最接近的现有技术。独立权利要求1与对比文件3的区别技术特征是：所述显示基板还包括将所述显示基板划分为多个像素单元的间隔件，所述间隔件的一部分贯穿所述阳极层，另一部分位于所述阳极层上方；多个辅助电极连接成网状。独立权利要求5和对比文件3的区别技术特征是：形成阳极材料层；在阳极材料层上形成多个贯穿所述阳极材料层的绝缘间隔，以将所述阳极材料层划分为多个像素单元。由此确定，权利要求1和5实际要解决的技术问题都是：如何利用间隔件作为像素界定构件。然而上述区别技术特征被对比文件1公开，权利要求1和5相对于对比文件3和1的结合不具备创造性。从属权利要求2和6的附加技术特征被对比文件1公开，从属权利要求3和8的附加技术特征基于对比文件1和3容易想到，从属权利要求7的附加技术特征被对比文件3公开，因而权利要求2-3和6-8也不具备创造性。独立权利要求4保护的显示面板引用权利要求1-3，显示面板被对比文件3公开，独立权利要求9保护的掩膜板引用权利要求5-8，掩膜板被对比文件1公开，因而权利要求4和9也不具备创造性。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种显示基板，所述显示基板包括阳极层、阴极层和设置在所述阳极层和所述阴极层之间的发光层，所述阳极层包括多个阳极，其特征在于，所述显示基板还包括至少一个辅助电极，所述辅助电极与所述阳极绝缘间隔，且所述辅助电极与所述阴极层并联接触，使得所述辅助电极与所述阴极层并联后的整体电阻小于所述阴极层自身的电阻；
所述显示基板还包括将所述显示基板划分为多个像素单元的间隔件，所述间隔件的一部分贯穿所述阳极层，另一部分位于所述阳极层上方；
每个所述辅助电极对应有一个所述间隔件，多个所述辅助电极连接成网状，每个所述辅助电极的两侧分别形成有一个绝缘间隔，与所述辅助电极相对应的所述间隔件包括分别设置在相对应的所述辅助电极两侧的所述绝缘间隔中的插入部和连接两个所述插入部的连接部，至少一个所述间隔件的所述连接部上形成由用于暴露所述辅助电极的过孔，所述阴极层通过所述过孔与所述辅助电极并联。
2. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述间隔件包括沿所述显示基板的横向延伸的行间隔件和沿所述显示基板的纵向延伸的列间隔件。
3. 根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，形成有所述过孔的所述间隔件围成多个区域，所述区域内沉积有用于形成发光层的材料，且相邻两个所述区域的形状不同。
4. 一种显示面板，所述显示面板包括显示基板，其特征在于，所述显示基板为权利要求1至3中任意一项所述的显示基板。
5. 一种显示基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：
形成发光件阵列，该形成发光件阵列的步骤包括：
形成阳极层，所述阳极层包括多个阳极，所述阳极与驱动薄膜晶体管的漏极一一对应的连接；
形成阳极材料层；
在阳极材料层上形成多个贯穿所述阳极材料层的绝缘间隔，以将所述阳极材料层划分为多个像素单元；
形成发光层；
形成阴极层，所述阴极层与所述辅助电极并联接触，使得所述辅助电极与所述阴极层并联后的整体电阻小于所述阴极层自身的电阻；
形成包括间隔件的图形，所述间隔件的一部分位于所述绝缘间隔中，另一部分位于所述阳极层上方；
多个所述间隔中的至少一个包括第一间隔和第二间隔，所述第一间隔和所述第二间隔之间形成有所述辅助电极，所述辅助电极对应的所述间隔件包括分别设置在相对应的所述辅助电极两侧的所述绝缘间隔中的插入部和连接两个所述插入部的连接部；
所述制造方法还包括在形成发光层的步骤和形成阴极层的步骤之间进行的所述连接部上形成由用于暴露所述辅助电极的过孔的步骤；
在形成阴极层的步骤中，形成阴极层的材料沉积在所述过孔中，以将所述阴极层与所述辅助电极并联。
6. 根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述阳极区域排列为多行多列。
7. 根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，形成发光层的步骤包括：
将掩膜板设置在形成有所述阳极层的衬底基板上方，其中，所述掩膜板包括多个开口部和将所述多个开口部间隔开的多个遮挡部，所述遮挡部对应于所述辅助电极；
蒸镀形成所述发光层的材料，以在所述开口部对应的位置的上方沉积形成所述发光层的材料。
8. 根据权利要求1或7所述的制造方法，其特征在于，形成有所述过孔的所述间隔件围成多个区域，所述区域内沉积有用于形成发光层的材料，且相邻两个所述区域的形状不同。
9. 一种掩膜板，所述掩膜板用于权利要求5至8中任意一项所述的制造方法，其特征在于，所述掩膜板包括多个开口部和对应于至少一个所述辅助电极的遮挡部，所述遮挡部将相邻的所述开口部间隔开。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年12月11日向国家知识产权局提出了复审请求，未修改申请文件。复审请求人认为：对比文件3的压降阻止图案144b两侧的“两个堤部l44a”不能相当于本申请的“一个间隔件40”，而且对比文件3公开的“压降阻止图案144b与堤部144a之间的间隔”也不能相当于本申请的“间隔件40中的过孔”，对比文件3未公开间隔件40，自然不会公开在间隔件40中设置过孔。对比文件3的压降阻止图案144b设置在两个堤部144a之间的间隔中是为了解决“阻止显示装置的有机部分与第三辅助电极142a物理接触，以及使第二电极152与第三辅助电极142a之间的接触区域更大”这一问题，因此本领域技术人员没有动机取消压降阻止图案144b，并将两个堤部144a合并成一个堤部，并在该堤部中设置过孔，对比文件3给出了完全相反的教导。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年12月26日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为，对比文件3的堤部144a的多个部分之间即为过孔，压降阻止图案144b不影响第二电极152通过这个过孔与第三辅助电极142a电连接，因而坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年03月08日向复审请求人发出复审通知书，引用对比文件1和3，指出权利要求1-9不符合专利法第22条第3款规定的创造性，权利要求8不清楚，不符合专利法第26条第4款的规定。关于复审请求人的意见陈述，合议组认为：对比文件3的堤部144a也是划分像素单元的部件，可以相当于本申请的间隔件40。压降阻止图案144b的形成不影响第二电极152与第三辅助电极142a电连接。本领域技术人员无需取消压降阻止图案144b，无需将“两个堤部144a”合并成一个堤部，给出了和本申请相同的教导。
复审请求人于2019年04月15日提交了意见陈述书，提交了修改的权利要求书（共8项权利要求）。具体修改为：将原权利要求3的附加技术特征并入原权利要求1，删除原权利要求3。复审请求人认为：（1）对比文件3的堤部144a的三个部分是彼此独立的，不能相当于本申请的“一个间隔件40”。（2）对比文件3没有公开在间隔件中设置过孔这一特征。（3）对比文件3未公开堤部144a的位于第三辅助电极142a两侧的插入部是如何连接的。（4）对比文件3不能先形成堤部144a的整层有机层，再在有机层上形成间隙。对比文件3还提及无需形成接触孔，给出了与本申请形成过孔的完全相反的教导。（5）本领域技术人员在对比文件3的启示下没有动机对堤部144a的结构进行改进。（6）对比文件1没有公开“相邻两个所述区域的形状不同”。 新修改的权利要求1如下：
“1. 一种显示基板，所述显示基板包括阳极层、阴极层和设置在所述阳极层和所述阴极层之间的发光层，所述阳极层包括多个阳极，其特征在于，所述显示基板还包括至少一个辅助电极，所述辅助电极与所述阳极绝缘间隔，且所述辅助电极与所述阴极层并联接触，使得所述辅助电极与所述阴极层并联后的整体电阻小于所述阴极层自身的电阻；
所述显示基板还包括将所述显示基板划分为多个像素单元的间隔件，所述间隔件的一部分贯穿所述阳极层，另一部分位于所述阳极层上方；
每个所述辅助电极对应有一个所述间隔件，多个所述辅助电极连接成网状，每个所述辅助电极的两侧分别形成有一个绝缘间隔，与所述辅助电极相对应的所述间隔件包括分别设置在相对应的所述辅助电极两侧的所述绝缘间隔中的插入部和连接两个所述插入部的连接部，至少一个所述间隔件的所述连接部上形成由用于暴露所述辅助电极的过孔，所述阴极层通过所述过孔与所述辅助电极并联；
形成有所述过孔的所述间隔件围成多个区域，所述区域内沉积有用于形成发光层的材料，且相邻两个所述区域的形状不同。”
合议组于2019年04月30日再次向复审请求人发出复审通知书，继续引用对比文件1和3，指出权利要求1-8不符合专利法第22条第3款规定的创造性。关于复审请求人的意见陈述，合议组认为：（1）对比文件3的堤部144a在位置关系上与第三辅助电极142a相对应，可以相当于权利要求中与“每个辅助电极对应”的“一个间隔件”。（2）利用过孔来连接金属层是本领域的常用技术手段，本领域技术人员容易想到利用形成过孔的方式形成堤部144a第二部分和第三部分之间的间隙、缝隙或开口。（3）形成过孔时，过孔之外的部分必然为连接部。（4）对比文件3是通过使用掩膜来防止显示装置的有机部分（有机发光层）形成在堤部的第二部分和第三部分之间。改变对比文件3的图案化堤部144a的顺序，不会影响有机部分的沉积位置。对比文件3的基础上形成接触孔，仍然可实现阴极层和辅助电极的连接，不会影响减少阴极的压降，不是和本申请完全相反的教导。（5）本领域技术人员对对比文件3的改动动机就是使用本领域另一种常见的连接金属层的方式来替换对比文件3的连接方式。使用过孔连接的有益效果，也是本领域技术人员公知的。（6）长宽比不同不能称为相同的形状。即使是矩形和L型子像素构成的像素单元，也是本领域的常用技术手段。
复审请求人于2019年06月05日再次提交了意见陈述书，未修改申请文件。复审请求人认为：（1）对比文件3第一电极138的两侧的堤部144a之间的间隙的作用是为了制作压降阻止图案144b，而并非用作使第三辅助电极142a与第二电极连接的过孔，“两个堤部144a”之间的间隙不能相当于“在一个间隔件上形成的过孔”。（2）本申请实际要解决的技术问题是：针对连接成网状的辅助电极，只要通过一个过孔即可将阴极层与辅助电极并联，取得减少掩膜板的使用次数，简化工艺的技术效果。本领域技术人员难以想到在连接成网状的辅助电极用过孔来实现阴极层与辅助电极的连接。（3）对比文件3已明确记载希望“避免形成过孔”，给出了相反教导。用过孔替换对比文件3的连接方式导致对比文件3的发明目的无法实现。（4）长宽比不同的矩形是相同的形状，本申请中相邻两个区域的形状不仅仅是长宽比不同。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
复审请求人于2019年04月15日提交了修改的权利要求书，共8项权利要求，经审查，上述权利要求的修改符合专利法实施细则第61条第1款和专利法第33条的规定。本复审决定针对的文本是：申请日2014年12月30日提交的说明书第1-138段、说明书附图图1-7、说明书摘要；2015年03月17日提交的摘要附图；2019年04月15日提交的权利要求第1-8项。
具体理由的阐述
专利法第22条第3款：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求所要求保护的技术方案与作为最接近现有技术的对比文件相比存在区别技术特征，但是上述区别技术特征已被其它对比文件公开或属于本领域的公知常识，即现有技术中给出了将上述区别技术特征应用到该对比文件以解决其存在的技术问题的启示，本领域技术人员在现有技术的基础上得到该权利要求的技术方案是显而易见的，那么该项权利要求所要保护的技术方案不具备创造性。
本复审决定引用复审通知书和驳回决定所引用的如下对比文件，即
对比文件1：US2006017375A1，公开日为2006年01月26日；
对比文件3：CN103066212A，公开日为2013年04月24日。
其中对比文件3为最接近的现有技术。
2.1、权利要求1和2不符合专利法第22条第3款的规定。
权利要求1请求保护一种显示基板。对比文件3公开了一种显示基板，并具体公开了（参见说明书第0026-0050和0062段、图4-6E）：第一电极138（阳极层）、第二电极152（阴极层）和设置在第一电极138和第二电极152之间的有机发光层146；第一电极138包括第一到第三子电极138a-138c（多个阳极）；第三辅助电极142a（辅助电极）与第一电极138分离（辅助电极与阳极绝缘间隔）；第三辅助电极142a与第二电极152物理电耦接（辅助电极与阴极层并联接触，辅助电极与阴极层并联后的整体电阻小于阴极层自身的电阻）；第一电极138的两侧上形成堤部144a（将显示基板划分为多个像素单元的间隔件），堤部144a可以以包围每个像素区域的形状形成为与第一电极138的侧边缘重叠（间隔件的一部分贯穿阳极层，另一部分位于阳极层上方）；第三辅助电极142a对应堤部144a的第二部分、第三部分和图4中的图标记144a所指的部分（这三个部分相当于一个间隔件）；从图4确定，第三辅助电极142a的两侧分别形成有一个绝缘间隔，堤部144a的第二部分、第三部分和图4中的附图标记144a所指的部分包括分别设置在第三辅助电极142a两侧的绝缘间隔中的插入部；使用热沉积在每个像素区域内由堤部144a包围的区域（间隔件围成多个区域）中形成有机发光层146。
权利要求1与对比文件3相比，区别技术特征是：（1）多个辅助电极连接成网状；（2）间隔件包括连接两个插入部的连接部，至少一个间隔件的连接部上形成由用于暴露辅助电极的过孔，阴极层通过过孔与辅助电极并联；（3）相邻两个区域的形状不同。由此确定，权利要求1实际要解决的技术问题是：（1）充分减少阴极层并联后电阻；（2）提供阴极层与辅助电极连接方式的替换方案；（3）防止显示基板在显示时形成云纹缺陷。
关于区别技术特征（1），对比文件1公开了一种显示基板，并具体公开了（参见说明书第0079段、图1）：辅助电极150形成在绝缘层140上，具有网状的平面构造。由此可见，上述区别技术特征已经被对比文件1公开，且其在对比文件1中的作用与其在权利要求1中相同，都是充分减少阴极层并联后电阻，即对比文件1给出了将上述区别技术特征用于对比文件3以解决其问题的技术启示。
关于区别技术特征（2），对比文件3公开了（参见说明书第0039段、图4）：堤部144a（间隔件）可包括三个部分，第二部分形成在第一电极138与压降阻止图案144b之间，第三部分和第二部分形成在压降阻止图案144b的相对侧上，第二电极152形成在堤部144a的第二部分与压降阻止图案144b之间，还形成在压降阻止图案144b与堤部144a的第三部分之间。可见，对比文件3已经公开了阴极层经由间隔件中的间隙、缝隙或开口与辅助电极连接，以避免阴极层产生较大的压降，造成亮度不均匀，降低显示面板的画面质量。虽然不确定对比文件3是否通过间隔件中的过孔来连接阴极层和辅助电极，但是利用过孔来连接金属层是本领域的常用技术手段，是公知常识，而形成过孔时，过孔之外的部分必然为连接部。因而在对比文件3的基础上结合上述公知常识，本领域技术人员容易想到利用形成过孔的方式形成堤部144a第二部分和第三部分之间的间隙、缝隙或开口，以暴露辅助电极，实现阴极层通过过孔与辅助电极并联，并同时得到连接两个插入部的连接部，这不需要付出创造性劳动。
关于区别技术特征（3），对比文件1还公开了（参见说明书第0111段、图11）：有机发光层330包括330R、330G以及330B，其中任意两个有机发光层的形状不相同。
因此，在对比文件3的基础上结合对比文件1和公知常识得到权利要求1，对本领域技术人员而言是显而易见的。权利要求1不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备创造性。
权利要求2对权利要求1作了进一步限定，其附加技术特征被对比文件3公开（参见说明书第0035段、图6A-6E）：堤部144a可以以包围每个像素区域的形状形成，从图6A-6E确定包围每个像素区域的形状包括横向延伸的行间隔件和纵向延伸的列间隔件。因此，当其所引用的权利要求不具备创造性时，权利要求2也不具备创造性。
2.2、权利要求3不符合专利法第22条第3款的规定。
权利要求3请求保护一种显示面板，其包括显示基板，显示基板为权利要求1至2中任一项所述的显示基板。由于权利要求1和2不具备创造性，对比文件3还公开了包括显示基板的显示面板（参见说明书第0011-0014段、图2）。因此，权利要求3也不具备创造性。
2.3、权利要求4-7不符合专利法第22条第3款的规定。
权利要求4请求保护一种显示基板的制造方法。对比文件3公开了一种显示基板的制造方法，并具体公开了（参见说明书第0051-0065段、图6A-7E）：图6A-6E示出发光件阵列；形成第三金属层（阳极材料层），通过掩膜工艺对第三金属层图案化，形成通过第二接触孔136a与漏极电极124电耦接的第一电极138（形成阳极层，阳极材料层上形成多个贯穿阳极材料层的绝缘间隔，以将阳极材料层划分为多个像素单元，阳极与驱动薄膜晶体管的漏极一一对应的连接），与此同时形成第三辅助电极142a（辅助电极，阳极材料层上形成多个贯穿阳极材料层的绝缘间隔），第一电极138包括第一到第三子电极138a-138c（多个阳极）；形成发光层146；形成第二电极152（阴极层），第二电极152与第三辅助电极142a直接电耦接（阴极层与辅助电极并联接触，辅助电极与阴极层并联后的整体电阻小于阴极层自身的电阻）；通过执行掩膜工艺对绝缘材料图案化，以在第一电极138的两侧形成堤部144a（形成包括间隔件的图形），绝缘材料形成为以包围每个像素区域的形状与第一电极138的侧边缘重叠（间隔件的一部分位于绝缘间隔中，另一部分位于阳极层上方）；从图7C确定，第三辅助电极142a的两侧分别形成有一个绝缘间隔（多个所述间隔中的至少一个包括第一间隔和第二间隔，第一间隔和第二间隔之间形成有辅助电极），堤部144a的第二部分、第三部分和图7C中的附图标记144a所指的部分包括分别设置在第三辅助电极142a两侧的绝缘间隔中的插入部；由图7C确定，在形成发光层的步骤和形成阴极层的步骤之前，在连接部上形成由用于暴露辅助电极的间隙、缝隙或开口的步骤。
权利要求4与对比文件3相比，区别技术特征是：（1）间隔件包括连接两个插入部的连接部，在形成阴极层的步骤中，形成阴极层的材料沉积在过孔中，以将阴极层与辅助电极并联；（2）用于暴露辅助电极的过孔的步骤在形成发光层的步骤和形成阴极层的步骤之间。由此确定，权利要求4实际要解决的技术问题是：（1）提供阴极层与辅助电极连接方式的替换方案；（2）提供形成过孔顺序的替换方案。
关于区别技术特征（1），对比文件3公开了（参见说明书0059-0064段）：形成堤部144a（间隔件），堤部144a包括三个部分，第二电极152形成在堤部144a与压降阻止图案144b之间，第二电极152能与第三辅助电极142a直接电耦接。可见，对比文件3已经公开了形成阴极层的步骤中，形成阴极层的材料沉积在间隔件中的间隙、缝隙或开口中，以将阴极层与辅助电极并联，以避免阴极层产生较大的压降，造成亮度不均匀，降低显示面板的画面质量。虽然不确定对比文件3是否通过间隔件中的过孔来连接阴极层和辅助电极，但是利用过孔来连接金属层是本领域的常用技术手段，是公知常识，而形成过孔时，过孔之外的部分必然为连接部。因而在对比文件3的基础上结合上述公知常识，本领域技术人员容易想到利用形成过孔的方式形成堤部144a第二部分和第三部分之间的间隙、缝隙或开口，以暴露辅助电极，实现阴极层通过过孔与辅助电极并联，并同时得到连接两个插入部的连接部，这不需要付出创造性劳动。
关于区别技术特征（2），由于过孔是用于连接阴极层和辅助电极，只要在形成阴极层之前形成过孔即可。对比文件3公开了在形成发光层和阴极层之前形成间隔件中的间隙、缝隙或开口，权利要求4在形成发光层后形成阴极层之前形成过孔，只是对对比文件3的形成顺序的简单调整，是本领域技术人员的常用技术手段，是公知常识。
因此，在对比文件3的基础上结合公知常识得到权利要求4，对本领域技术人员而言是显而易见的。权利要求4不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备创造性。
权利要求5和6分别对权利要求4作了进一步限定，其附加技术特征已被对比文件3公开（参见说明书第0062段、图6A-6E）：第一电极138（阳极区域）排列为多行多列；当形成有机发光层146时，使用具有开口部和阻挡区域（将多个开口部隔开的遮挡部, 遮挡部必然对应辅助电极）的遮蔽掩模（掩膜板，掩膜板设置在形成有阳极层的衬底上方）的热沉积（蒸镀）在每个像素区域内由堤部144a包围的区域中（开口部对应的位置）形成有机发光层146。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求5和6也不具备创造性。
权利要求7对权利要求4或6作了进一步限定，其部分附加技术特征被对比文件3公开（参见说明书第0062段、图4）：使用热沉积在每个像素区域内由堤部144a包围的区域（间隔件围成多个区域）中形成有机发光层146。而其余附加技术特征，（1）间隔件中形成过孔，是本领域的公知常识；（2）相邻两个区域的形状不同，被对比文件1公开（参见说明书第111段、图11）：有机发光层330包括330R、330G以及330B，其中任意两个有机发光层的形状不相同。因此，在对比文件3的基础上结合对比文件1和公知常识得到权利要求7，对本领域技术人员而言是显而易见的。当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求7也不具备创造性。
2.4、权利要求8不符合专利法第22条第3款的规定。
权利要求8请求保护一种掩膜板，所述掩膜板用于权利要求4至7中任一项所述的制造方法。权利要求4-7不具备创造性，对比文件3还公开了（参见说明书第0062段）：当形成有机发光层146时，使用具有开口部和阻挡区域（对应于辅助电极的遮挡部，遮挡部将相邻的开口部隔开）的遮蔽掩模（掩膜板）的热沉积在每个像素区域内由堤部144a包围的区域中形成有机发光层146。因此，权利要求8也不具备创造性。
对复审请求人相关意见的评述
合议组认为：（1）对比文件3 堤部144a的第二部分、第三部分以及图4中144a所指部分之间存在间隙、缝隙或开口，这些间隙、缝隙或开口提供了阴极层与辅助电极的连接空间，与在间隔件中形成过孔的作用相同。在本领域中利用过孔来连接金属层是本领域的常用技术手段，本领域技术人员容易想到利用形成过孔的方式形成堤部144a第二部分和第三部分之间的间隙、缝隙或开口，以暴露辅助电极。（2）对比文件1公开了辅助电极150具有网状的平面构造，充分减少阴极层并联后电阻，解决了和本申请相同的技术问题，本领域技术人员容易想到将其用于对比文件3。而辅助电极和阴极层之间无论是通过过孔连接还是通过其他开口连接，都是本领域连接金属层的常用技术手段，过孔减少掩膜板的使用次数，简化工艺的技术效果是本领域已知的，其与网状辅助电极的结合未带来预料不到的技术效果。（3）对比文件3提及的无需形成接触孔，是因为对比文件3已经存在第二部分和第三部分之间的间隙、缝隙或开口，已经实现了阴极层和辅助电极的并联连接，因而无需再形成接触孔。本申请相对对比文件3的改动仅仅是利用了阴极层与辅助电极连接方式的替换方案，而这种替换是本领域技术人员的常用技术手段。用过孔作为对比文件3 堤部144a的第二部分、第三部分以及图4中144a所指部分之间的间隙、缝隙或开口，不影响压降阻止图案144b的形成，不影响其发明目的的实现。（4）四边形、矩形、正方形等都是对图形的分类方式，属于同一类的图形不一定是相同的形状。对比文件1的矩形的长宽比不同，是不同的形状。此外，采用不同形状的子像素是本领域的常用的技术手段，矩形和L型子像素是本领域的常用的像素形状。
综上，复审请求人认为本申请具有创造性的理由不成立。
基于上述事实和理由，本案合议组依法作出如下审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年09月05日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
郑重声明：本文版权归原作者所有，转载文章仅为传播更多信息之目的，如作者信息标记有误，请第一时间联系我们修改或删除，多谢。
