发明创造名称：基板检测装置及基板检测方法
外观设计名称：
决定号：187468
决定日：2019-08-21
委内编号：1F258704
优先权日：2013-04-26
申请（专利）号：201480022923.5
申请日：2014-04-24
复审请求人：日本电产理德股份有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：崔英颖
合议组组长：刘杰
参审员：杨晓林
国际分类号：G01R31/02,G01R27/02,H05K3/00
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：若一项权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征，而现有技术中给出了将上述区别技术特征应用到该最接近的现有技术中以解决其技术问题的启示，则该权利要求请求保护的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201480022923.5，名称为“基板检测装置及基板检测方法”的PCT发明专利申请（下称本申请）。申请人为日本电产理德股份有限公司。本申请的申请日为2014年04月24日，优先权日为2013年04月26日，进入中国国家阶段日为2015年10月22日，公开日为2015年12月16日。
经实质审查，国家知识产权局专利实质审查部门于2018年05月03日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-4不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为：2015年10月22日进入中国国家阶段时提交的原始国际申请文件的中文译文的说明书摘要、摘要附图；2017年09月25日提交的权利要求第1-4项、说明书第1-16页、说明书附图第1-10页。驳回决定中引用了如下对比文件：
对比文件1：JP2009139182A，公开日为2009年06月25日；
对比文件2：CN102565538A，公开日为2012年07月11日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种基板检测装置，用于检测电路基板上形成的电路图形，所述基板检测装置包含：
电压测定回路形成部，经过测定对象的多个电路图形而形成电压测定回路；
电压测定部，配置在所述电压测定回路；
电流供应部，对所述测定对象的电路图形供应电流；以及
控制部；
其中，所述控制部至少执行：
校正电压测定工序，在对所述测定对象的电路图形不供应电流的状态下，由所述电压测定部测定所述电压测定回路的电压；
电路图形测定工序，在对所述测定对象的电路图形供应电流的状态下，由所述电压测定部测定电压；和
校正工序，将所述电路图形测定工序中测定的电压由所述校正电压测定工序中测定的电压来校正，
所述控制部对所述测定对象的多个电路图形分别执行所述电路图形测定工序及所述校正工序。
2. 根据权利要求1所述的基板检测装置，其特征在于，
所述电压测定回路形成部经过所述测定对象的3个以上的电路图形而形成所述电压测定回路。
3. 根据权利要求1或2所述的基板检测装置，其特征在于，
所述电压测定回路包含偶数个导通所述电路基板的两面的电路图形。
4. 一种基板检测方法，用于检测电路基板上形成的电路图形，所述检测方法包括：
电压测定回路形成工序，经过测定对象的多个电路图形而形成电压测定回路；
校正电压测定工序，在对所述测定对象的电路图形不供应电流的状态下，由配置在所述电压测定回路的电压测定部测定所述电压测定 回路的电压；
电路图形测定工序，在对所述测定对象的电路图形供应电流的状态下，由所述电压测定部测定电压；以及
校正工序，将所述电路图形测定工序中测定的电压由所述校正电压测定工序中测定的电压来校正，
所述电路图形测定工序以及所述校正工序对所述测定对象的多个电路图形分别执行。”
驳回决定认为：（1）独立权利要求1相对于对比文件1的区别在于：①所述控制部至少执行：校正电压测定工序，对所述测定对象的电路图形不供应电流的状态下，由所述电压测定部测定电压；电路图形测定工序，对所述测定对象的电路图形供应电流的状态下，由所述电压测定部测定电压；和校正工序，将所述电路图形测定工序中测定的电压由所述校正电压测定工序中测定的电压来校正；②所述控制部对所述测定对象的多个电路图形分别执行所述电路图形测定工序及所述校正工序。对于上述区别①，对比文件2公开了一种提高电阻测试精度的方法，并给出了如何校正电压测量误差的启示；对于上述区别②，在被测回路由多个测量回路组成时，本领域技术人员在对比文件1和2的基础上能够想到将校正应用到每个测量回路。因此，独立权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）从属权利要求2和3的附加技术特征均为本领域的常规技术手段，因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，从属权利要求2-3也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（3）独立权利要求4相对于对比文件1的区别在于：①校正电压测定工序，对所述测定对象的电路图形不供应电流的状态下，由所述电压测定部测定电压；电路图形测定工序，对所述测定对象的电路图形供应电流的状态下，由所述电压测定部测定电压；和校正工序，将所述电路图形测定工序中测定的电压由所述校正电压测定工序中测定的电压来校正；②所述电路图形测定工序以及所述校正工序对所述测定对象的多个电路图形分别执行。对于上述区别①，对比文件2公开了一种提高电阻测试精度的方法，并给出了如何校正电压测量误差的启示；对于上述区别②，在被测回路由多个测量回路组成时，本领域技术人员在对比文件1和2的基础上能够想到将校正应用到每个测量回路。因此，独立权利要求4不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人日本电产理德股份有限公司（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年08月17日向国家知识产权局提出了复审请求，并且提交了权利要求书的全文修改替换页，修改涉及：将权利要求1的技术特征“所述控制部对所述测定对象的多个电路图形分别执行所述电路图形测定工序及所述校正工序”修改为“所述控制部通过对所述测定对象的多个电路图形分别执行所述电路图形测定工序及所述校正工序，从而使用在所述校正电压测定工序中1次测定出的所述电压测定回路的电压分别校正在所述电路图形测定工序中测定出的电压”，将权利要求4的技术特征“所述电路图形测定工序以及所述校正工序对所述测定对象的多个电路图形分别执行”修改为“通过所述电路图形测定工序以及所述校正工序对所述测定对象的多个电路图形分别执行，从而使用在所述校正电压测定工序中1次测定出的所述电压测定回路的电压分别校正在所述电路图形测定工序中测定出的电压”。复审请求人在复审请求书中陈述了修改后的权利要求具备创造性的理由：对比文件1的技术方案针对多个检查对象即内部导体A的每一个，分别测定电压和电流各一次，也就是说，针对一个检查对象需要进行两次测定；对比文件2的技术方案针对一个被测电阻进行第一电压值和第二电压值两次测定，也就是说，针对一个测定对象需要进行两次测定。本申请使用1次测定出的电压对测定对象的多个电路图形的每一个进行校准，不需要针对每个测定对象进行两次测定。因此，对比文件1和2均未公开本申请权利要求1的技术特征“所述控制部通过对所述测定对象的多个电路图形分别执行所述电路图形测定工序及所述校正工序，从而使用在所述校正电压测定工序中1次测定出的所述电压测定回路的电压分别校正在所述电路图形测定工序中测定出的电压”，由于未公开上述技术特征，即使将对比文件1、2结合起来，也无法得到本申请权利要求1的技术方案。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年08月23日依法受理了该复审请求，并将其转送至原专利实质审查部门进行前置审查。
原专利实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年04月17日向复审请求人发出复审通知书，指出：（1）独立权利要求1相对于对比文件1的区别在于：控制部还执行：校正电压测定工序，在对测定对象的电路图形不供应电流的状态下，由电压测定部测定电压测定回路的电压；校正工序，将电路图形测定工序中测定的电压由校正电压测定工序中测定的电压来校正；控制部通过对测定对象的多个电路图形分别执行电路图形测定工序及校正工序，从而使用在校正电压测定工序中1次测定出的电压测定回路的电压分别校正在电路图形测定工序中测定出的电压。对于上述区别，对比文件2公开了一种提高电阻测试精度的方法，并给出了设计校正电压测定工序以实现待测对象的电压校正的启示，本领域技术人员基于对比文件2有动机改进对比文件1；进一步地，由于对比文件1中的电压测定回路包含了两个电路图形，则基于既可以保证一定的检测精度又可以提高检测效率的普遍需求，本领域技术人员容易想到对多个电路图形只执行一次校正电压测定工序。因此，独立权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）从属权利要求2的附加技术特征属于本领域的常规技术手段，从属权利要求3的附加技术特征被对比文件1公开。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，从属权利要求2-3也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（3）独立权利要求4相对于对比文件1的区别在于：还包括：校正电压测定工序，在对测定对象的电路图形不供应电流的状态下，由配置在电压测定回路的电压测定部测定电压测定回路的电压；校正工序，将电路图形测定工序中测定的电压由校正电压测定工序中测定的电压来校正；通过电路图形测定工序及校正工序对测定对象的多个电路图形分别执行，从而使用在校正电压测定工序中1次测定出的电压测定回路的电压分别校正在电路图形测定工序中测定出的电压。对于上述区别，对比文件2公开了一种提高电阻测试精度的方法，并给出了设计校正电压测定工序以实现待测对象的电压校正的启示，本领域技术人员基于对比文件2有动机改进对比文件1；进一步地，由于对比文件1中的电压测定回路包含了两个电路图形，则基于既可以保证一定的检测精度又可以提高检测效率的普遍需求，本领域技术人员容易想到对多个电路图形只执行一次校正电压测定工序。因此，独立权利要求4不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（4）针对复审请求人的意见陈述，合议组进行了答复。
复审请求人于2019年05月31日提交了意见陈述书，并且提交了权利要求书的全文修改替换页，修改涉及：将权利要求1和4中的“由所述电压测定部测定电压”修改为“不改变所述电压测定回路的构成地由所述电压测定部测定由被供应电流的所述测定对象的电路图形产生的电压降、即电路图形测定电压”，将权利要求1和4中的“所述电路图形测定工序中测定的电压”修改为“所述电路图形测定工序中测定的所述电路图形测定电压”，将权利要求1和4中的“所述电路图形测定工序中测定出的电压”修改为“所述电路图形测定工序中测定出的所述电路图形测定电压”。修改后的权利要求书如下：
“1. 一种基板检测装置，用于检测电路基板上形成的电路图形，所述基板检测装置包含：
电压测定回路形成部，经过测定对象的多个电路图形而形成电压测定回路；
电压测定部，配置在所述电压测定回路；
电流供应部，对所述测定对象的电路图形供应电流；以及
控制部；
其中，所述控制部至少执行：
校正电压测定工序，在对所述测定对象的电路图形不供应电流的状态下，由所述电压测定部测定所述电压测定回路的电压；
电路图形测定工序，在对所述测定对象的电路图形供应电流的状态下，不改变所述电压测定回路的构成地由所述电压测定部测定由被供应电流的所述测定对象的电路图形产生的电压降、即电路图形测定电压；和
校正工序，将所述电路图形测定工序中测定的所述电路图形测定电压由所述校正电压测定工序中测定的电压来校正，
所述控制部通过对所述测定对象的多个电路图形分别执行所述电路图形测定工序及所述校正工序，从而使用在所述校正电压测定工序中1次测定出的所述电压测定回路的电压分别校正在所述电路图形测定工序中测定出的所述电路图形测定电压。
2. 根据权利要求1所述的基板检测装置，其特征在于，
所述电压测定回路形成部经过所述测定对象的3个以上的电路图形而形成所述电压测定回路。
3. 根据权利要求1或2所述的基板检测装置，其特征在于，
所述电压测定回路包含偶数个导通所述电路基板的两面的电路图形。
4. 一种基板检测方法，用于检测电路基板上形成的电路图形，所述检测方法包括：
电压测定回路形成工序，经过测定对象的多个电路图形而形成电压测定回路；
校正电压测定工序，在对所述测定对象的电路图形不供应电流的状态下，由配置在所述电压测定回路的电压测定部测定所述电压测定回路的电压；
电路图形测定工序，在对所述测定对象的电路图形供应电流的状态下，不改变所述电压测定回路的构成地由所述电压测定部测定由被供应电流的所述测定对象的电路图形产生的电压降、即电路图形测定电压；以及
校正工序，将所述电路图形测定工序中测定的所述电路图形测定电压由所述校正电压测定工序中测定的电压来校正，
通过所述电路图形测定工序以及所述校正工序对所述测定对象的多个电路图形分别执行，从而使用在所述校正电压测定工序中1次测定出的所述电压测定回路的电压分别校正在所述电路图形测定工序中测定出的所述电路图形测定电压。”
复审请求人在意见陈述书中陈述了本申请权利要求具备创造性的理由：本申请的发明点并不在于，在基板检测装置中进一步设计校正电压测定工序以及校正工序。本申请实际想要解决的技术问题是：在消除热电动势影响的同时，实现高速检测。为解决上述技术问题，本申请的发明构思是：经过测定对象的多个电路图形而形成电压测定回路，在对测定对象的电路图形不供应电流的状态下，测定电压测定回路的电压，并在对测定对象的电路图形供应电流的状态下，不改变电压测定回路的构成地测定由被供应电流的测定对象的电路图形产生的电压降，由此使用针对多个电路图形仅测定一次电压而得到的结果分别对多个电路图形的电压测定结果进行校正，从而缩短电路基板的检测时间。对比文件2针对的技术问题是：由于测试系统测试过程中的充放电，使得系统中存在残留电荷，即使对待测电阻不施加电流，电阻两端仍存在电压差，此电压差需要修正。在考虑多个电阻时，将多个电阻合并起来仅测定一次电压差，并在供应电流的情况下使用该测定结果去分别校正多个电阻的电压，该设计对每个电阻的测量结果不准确，则对比文件2需要在不供应电流的情况下针对每个电阻测定其两端的电压差。则本领域技术人员不可能在对比文件2的启示下想到本申请的技术方案，即使可以从对比文件2中得到启示，其也只能想到在不供应电流的情况下仅对一个电路图形测定电压，而不能想到在不供应电流的情况下对多个电路图形测定电压。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人在答复复审通知书时提交了权利要求书的全文修改替换页，经审查，上述修改符合专利法第33条的规定。本复审请求审查决定针对的文本是：2015年10月22日进入中国国家阶段时提交的原始国际申请文件的中文译文的说明书摘要、摘要附图；2017年09月25日提交的说明书第1-16页、说明书附图第1-10页；2019年05月31日提交的权利要求第1-4项。
2、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
若一项权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征，而现有技术中给出了将上述区别技术特征应用到该最接近的现有技术中以解决其技术问题的启示，则该权利要求请求保护的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，不具备创造性。
具体到本案：
（1）权利要求1要求保护一种基板检测装置，对比文件1公开了一种电路基板检查装置，并具体公开了如下技术特征（参见说明书第[0015]-[0060]段，附图1-3）：该装置用于检测电路基板上形成的电路图形，其包括：由电压测定部4、第一切换部6、探针2a、探针3a、探针3c、探针2c以及两个电路图形构成电压测定回路，第一切换部6通过切换开关将电压测定部4与探针2a、2c连通，从而形成上述电压测定回路（相当于电压测定回路形成部，经过测定对象的多个电路图形而形成电压测定回路）；电压测定部4，配置在电压测定回路；电流供给部5（相当于电流供应部），对电路基板的电路图形供应电流；处理部8（相当于控制部），执行电路图形测定工序，该工序由电流供给部5供应电流，在对电路图形供应电流的状态下，由电压测定部4测定被供应电流的电路基板的电路图形产生的电压降，得到电路图形测定电压，处理部8对电路基板的多个电路图形分别执行电路图形测定工序，且分别测定多个电路图形产生的电压降时不改变电压测定回路的构成。
该权利要求所要求保护的技术方案与对比文件1相比，其区别在于：控制部还执行：校正电压测定工序，在对测定对象的电路图形不供应电流的状态下，由电压测定部测定电压测定回路的电压；校正工序，将电路图形测定工序中测定的电路图形测定电压由校正电压测定工序中测定的电压来校正；控制部通过对测定对象的多个电路图形分别执行电路图形测定工序及校正工序，从而使用在校正电压测定工序中1次测定出的电压测定回路的电压分别校正在电路图形测定工序中测定出的电路图形测定电压。
基于上述区别可以确定，该权利要求相对于对比文件1实际要解决的技术问题是：如何高效率地实现多个电路图形的电压校正。
对于上述区别，对比文件2公开了一种提高电阻测试精度的方法，并具体公开了如下技术特征（参见说明书第[0014]-[0020]段，附图1-3）：该方法包括：步骤一，将导线2连接待测电阻1两端，在未接入电流I的状态下，由数字电压表测量出电阻1两端的第一电压值V（相当于校正电压测定工序，在对电阻不供应电流的状态下，由电压测定部测定电压测定回路的电压）；步骤二，对导线2连接的待测电阻1施加一个电流I；步骤三，通过数字电压表测量出电阻1两端的第二电压值V’（相当于电阻测定工序，在对电阻供应电流的状态下，不改变电压测定回路的构成地由电压测定部测定被供应电流的电阻产生的电压降、即电阻测定电压）；步骤四，将第二电压值V’减去第一电压值V（相当于校正工序，将电阻测定工序中测定的电阻测定电压由校正测定工序中测定的电压来校正），其所得的电压值除以电流I，得到电阻1的阻值。由此可见，对比文件2公开了上述部分区别技术特征，且其在对比文件2中所起的作用与其在本申请中所起的作用相同，都是通过设计校正电压测定工序以实现待测对象的电压校正。在对比文件2的启示下，本领域技术人员有动机改进对比文件1，即在基板检测装置中设计校正电压测定工序以及校正工序，使电路图形的电压测定更精确。将对比文件2结合到对比文件1中时，由于对比文件1中的电压测定回路包含了两个电路图形，则基于既可以保证一定的检测精度又可以提高检测效率的普遍需求，本领域技术人员容易想到对多个电路图形只执行一次校正电压测定工序，即控制部使用校正电压测定工序中一次测定出的电压测定回路的电压，结合对多个电路图形分别执行的电路图形测定工序，进而对多个电路图形分别执行校正工序，即分别校正电路图形测定工序中测定出的电路图形测定电压。
由此可见，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域的常用技术手段得到该权利要求所要求保护的技术方案，对本领域技术人员而言是显而易见的；因此，该权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（2）权利要求2对权利要求1作了进一步限定，根据实际情况选择电压测定回路形成部经过的电路图形的数量是本领域技术人员的常规选择手段。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性的情况下，该权利要求2也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（3）权利要求3对权利要求1或2作了进一步限定，对比文件1公开了（参见同上）：电压测定回路中包含两个电路图形（相当于包含偶数个电路图形），且两个电路图形均导通电路基板的两面。因此，在其引用的权利要求1或2不具备创造性的情况下，该权利要求3也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（4）权利要求4要求保护一种基板检测方法，对比文件1公开了一种电路基板检查方法，并具体公开了如下技术特征（参见说明书第[0015]-[0060]段，附图1-3）：该方法用于检测电路基板上形成的电路图形，其包括：由电压测定部4、第一切换部6、探针2a、探针3a、探针3c、探针2c以及两个电路图形构成电压测定回路，第一切换部6通过切换开关将电压测定部4与探针2a、2c连通，从而形成上述电压测定回路（相当于电压测定回路形成工序，经过测定对象的多个电路图形而形成电压测定回路）；电路图形测定工序，该工序由电流供给部5供应电流，在对电路图形供应电流的状态下，由电压测定部4测定被供应电流的电路基板的电路图形产生的电压降，得到电路图形测定电压，处理部8对电路基板的多个电路图形分别执行电路图形测定工序，且分别测定多个电路图形产生的电压降时不改变电压测定回路的构成。
该权利要求所要求保护的技术方案与对比文件1相比，其区别在于：还包括：校正电压测定工序，在对测定对象的电路图形不供应电流的状态下，由配置在电压测定回路的电压测定部测定电压测定回路的电压；校正工序，将电路图形测定工序中测定的电路图形测定电压由校正电压测定工序中测定的电压来校正；通过电路图形测定工序及校正工序对测定对象的多个电路图形分别执行，从而使用在校正电压测定工序中1次测定出的电压测定回路的电压分别校正在电路图形测定工序中测定出的电路图形测定电压。
基于上述区别可以确定，该权利要求相对于对比文件1实际要解决的技术问题是：如何高效率地实现多个电路图形的电压校正。
对于上述区别，对比文件2公开了一种提高电阻测试精度的方法，并具体公开了如下技术特征（参见说明书第[0014]-[0020]段，附图1-3）：该方法包括：步骤一，将导线2连接待测电阻1两端，在未接入电流I的状态下，由数字电压表测量出电阻1两端的第一电压值V（相当于校正电压测定工序，在对电阻不供应电流的状态下，由配置在电压测定回路的电压测定部测定电压测定回路的电压）；步骤二，对导线2连接的待测电阻1施加一个电流I；步骤三，通过数字电压表测量出电阻1两端的第二电压值V’ （相当于电阻测定工序，在对电阻供应电流的状态下，不改变电压测定回路的构成地由电压测定部测定被供应电流的电阻产生的电压降、即电阻测定电压）；步骤四，将第二电压值V’减去第一电压值V（相当于校正工序，将电阻测定工序中测定的电阻测定电压由校正测定工序中测定的电压来校正），其所得的电压值除以电流I，得到电阻1的阻值。由此可见，对比文件2公开了上述部分区别技术特征，且其在对比文件2中所起的作用与其在本申请中所起的作用相同，都是通过设计校正电压测定工序以实现待测对象的电压校正。在对比文件2的启示下，本领域技术人员有动机改进对比文件1，即在基板检测装置中设计校正电压测定工序以及校正工序，使电路图形的电压测定更精确。将对比文件2结合到对比文件1中时，由于对比文件1中的电压测定回路包含了两个电路图形，则基于既可以保证一定的检测精度又可以提高检测效率的普遍需求，本领域技术人员容易想到对多个电路图形只执行一次校正电压测定工序，即使用校正电压测定工序中一次测定出的电压测定回路的电压，结合对多个电路图形分别执行的电路图形测定工序，进而对多个电路图形分别执行校正工序，即分别校正电路图形测定工序中测定出的电路图形测定电压。
由此可见，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域的常用技术手段得到该权利要求所要求保护的技术方案，对本领域技术人员而言是显而易见的；因此，该权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、对复审请求人相关意见的评述
对于复审请求人在答复复审通知书时的意见陈述，合议组认为：
对比文件1已经公开了测定基板上的多个电路图形的电压，即公开了电路图形测定工序，且对于本领域技术人员而言，检测用的探针和检测点相接触时，由塞贝克效应可能引起热电动势，这是公知的技术问题，而对比文件2公开了校正电压测定工序以及校正工序，即对比文件2给出了对电压进行校正以获得高精度测量结果的启示，则在对比文件2的启示下，本领域技术人员有动机改进对比文件1，以解决热电动势引起的误差。而且，对比文件2公开的电压校正的技术手段与本申请背景技术记载的（参见说明书第[0012]段）电压校正的技术手段不同，对比文件2的电压校正技术手段不需要改变电压测定回路的构成，而本申请背景技术记载的电压校正技术手段需要改变电压测定回路的构成，则将对比文件2应用于对比文件1中时，本领域技术人员能够想到基板的检测包括校正电压测定工序、电路图形测定工序以及校正工序，且校正电压测定工序和电路图形测定工序实施时，不需要改变电压测定回路的构成即可实现，则相较于本申请背景技术记载的电压校正技术手段，基于对比文件2改进的对比文件1的电压校正技术手段必然能够从一定程度上节约检测时间。进一步地，关于复审请求人在意见陈述中认为的：采用对比文件2检测多个电阻时，将多个电阻合并起来只测定一次电压差，采用该测定结果去分别校正多个电阻的电压，结果是不准确的。在基板检测领域，基板上的电路图形数量众多是本领域所公知的，当检测多个电路图形时，具有多个不同的检测点，则对于由塞贝克效应引起的热电动势，一个检测点产生的热电动势必然与多个不同的检测点产生的热电动势不同，由此可见，将多个电路图形串联起来只测定一次校正电压，采用该测定结果去分别校正多个电路图形的电压，其结果也必然是不够精确的，即为了提高检测效率，可能会部分降低对检测精度的要求。然而，提高检测效率是本领域的普遍需求，在容许的误差范围内，为了提高检测效率而牺牲一定的检测精度是本领域的常规思路，则在对比文件1和对比文件2的基础上，本领域技术人员根据实际需求容易想到将执行校正电压测定工序的次数进行压缩，将多个电路图形串联起来只执行一次校正电压测定工序，根据该工序测定出的电压分别校正每个电路图形执行电路图形测定工序后测定出的电压，这一手段的实施不需要付出创造性劳动即可实现。
综上所述，合议组对复审请求人的上述理由不予支持。
基于以上事实和理由，合议组作出如下决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年05月03日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本复审请求审查决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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