一种等离子体处理装置-复审决定


发明创造名称:一种等离子体处理装置
外观设计名称:
决定号:188327
决定日:2019-08-14
委内编号:1F283025
优先权日:
申请(专利)号:201610114061.X
申请日:2016-03-01
复审请求人:中微半导体设备(上海)股份有限公司
无效请求人:
授权公告日:
审定公告日:
专利权人:
主审员:焦延峰
合议组组长:李航
参审员:梁雪峰
国际分类号:H01J37/32,H01J37/04,H01J37/02
外观设计分类号:
法律依据:专利法第22条第3款
决定要点
:如果一项权利要求请求保护的技术方案与作为最接近的现有技术的对比文件相比存在多个区别技术特征,其中部分区别技术特征不属于本领域的公知常识,且该部分区别技术特征使得该技术方案具有有益的技术效果,则该权利要求请求保护的技术方案相对于上述对比文件和公知常识的结合具备创造性。
全文:
本复审请求审查决定涉及申请号为201610114061.X,名称为“一种等离子体处理装置”的发明专利申请(下称本申请)。本申请的申请人为中微半导体设备(上海)股份有限公司,申请日为2016年03月01日,公开日为2017年09月08日。
经实质审查,国家知识产权局实质审查部门于2019年02月11日发出驳回决定,以权利要求1-10不具备专利法第22条第3款所规定的创造性为由驳回了本申请。驳回决定所依据的文本为:申请人于申请日2016年03月01日提交的说明书第1-5页,权利要求第1-10项和说明书摘要;2016年03月29日提交的说明书附图第1页和摘要附图。驳回决定所针对的权利要求书内容如下:
“1. 一种等离子体处理装置,包括一反应腔,所述反应腔内设置一上电极和一下电极,一供电装置设置于所述下电极下方,将射频功率施加到所述下电极上,其特征在于:所述下电极下方设置管道和电线,所述供电装置包括空心的射频输送管道,所述管道和电线设置于所述空心的射频输送管道内。
2. 如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于:所述供电装置包括三根空心的射频输送管道,所述三根射频输送管道与所述下电极有三个电连接点,所述三个电连接点构成一个同心圆。
3. 如权利要求2所述的等离子体处理装置,其特征在于:所述三个电连接点中相邻两电连接点的距离相等。
4. 如权利要求2所述的等离子体处理装置,其特征在于:所述管道包括液体输送管道和气体输送管道,所述液体输送管道,所述气体输送管道和所述电线分别位于一根射频输送管道内部。
5. 如权利要求4所述的等离子体处理装置,其特征在于:所述液体输送管道,所述气体输送管道和所述电线位于同一根射频输送管道内部。
6. 如权利要求4所述的等离子体处理装置,其特征在于:所述液体输送管道内部填充冷却水或其它冷却液,所述下电极下方设置若干液体输送管道,每一射频输送管道内设置至少一根液体输送管道。
7. 如权利要求4所述的等离子体处理装置,其特征在于:所述气体输送管道内部填充氦气,所述下电极下方设置若干氦气输送管道,每一射频输送管道内设置至少一根氦气输送管道。
8. 如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于:所述供电装置还包括至少一射频匹配电路,所述射频输送管道连接所述射频匹配电路。
9. 如权利要求2所述的等离子体处理装置,其特征在于:所述的射频输送管道主体材料为铜。
10. 如权利要求9所述的等离子体处理装置,其特征在于:所述射频输送管道的主体表面镀金或银材料。”
驳回决定中引用了如下对比文件:
对比文件1:CN202230975U,授权公告日为2012年05月23日。
驳回决定的具体理由是:(1)权利要求1与对比文件1的区别在于:反应腔内还设置一上电极,上述区别技术特征为本领域公知常识,因此权利要求1不具备创造性;(2)从属权利要求2-5的附加技术特征被对比文件1公开,从属权利要求6的附加技术特征的部分被对比文件1公开,其余部分属于本领域公知常识,从属权利要求7-10的附加技术特征为本领域公知常识,因此权利要求2-10不具备创造性。
申请人(下称复审请求人)对上述驳回决定不服,于2019年05月16日向国家知识产权局提出了复审请求,同时提交了权利要求书的全文修改替换页,其中对权利要求书的修改包括:将从属权利要求8的附加技术特征和说明书中记载的特征“一射频功率源输出的射频信号经所述射频匹配网络及所述射频输送管道施加到所述下电极”补入独立权利要求1中。复审请求人认为:权利要求1与对比文件1的区别在于:所述供电装置包括空心的射频输送管道,所述管道和电线设置于所述空心的射频输送管道内,所述供电装置还包括至少一射频匹配电路,所述射频输送管道连接所述射频匹配电路,一射频功率源输出的射频信号经所述射频匹配网络及所述射频输送管道施加到所述下电极。基于上述区别技术特征,权利要求1实际解决的技术问题是:由于下电极下方必不可少的管道、电缆等线路较为柔软,与接地环之间的距离很容易发生改变,会对下电极上方的电场分布造成影响。本申请中的“射频输送管道”并非等同于对比文件1中的“给送管道230”,对比文件1中的给送管道并不具有输送射频信号的功能,对比文件1的给送管道230是额外设置以用来容纳电气线路232、氦气通道231 和冷却介质通道233的部件,而本申请相当于将电气线路设置为空心结构,然后将氦气通道和冷却介质通道设置于其中。本申请将射频传输通道设置为空心结构,并且在该空心结构内一并设置其他的气体和/或液体管道,并不会影响射频信号本身的传输。同时,还能够大大节省下电极的内部空间,并且对材质较软的气体输送管道、液体输送管道及电线形成约束,避免其位置发生变化;不仅有效解决下电极内部管道线路拥挤的问题,同时还能够保证工艺过程中反应腔内电场分布的均匀性和稳定性。因此,本申请具备创造性。
修改后的权利要求1内容如下:
“1. 一种等离子体处理装置,包括一反应腔,所述反应腔内设置一上电极和一下电极,一供电装置设置于所述下电极下方,将射频功率施加到所述下电极上,其特征在于:所述下电极下方设置管道和电线,所述供电装置包括空心的射频输送管道,所述管道和电线设置于所述空心的射频输送管道内,所述供电装置还包括至少一射频匹配电路,所述射频输送管道连接所述射频匹配电路,一射频功率源输出的射频信号经所述射频匹配网络及所述射频输送管道施加到所述下电极。”
经形式审查合格,国家知识产权局于2019年05月22日依法受理了该复审请求,并将其转送至实质审查部门进行前置审查。
实质审查部门在前置审查意见书中认为:对比文件1中的给送管道相当于本申请的射频输送管道,另外,在供电装置中设置射频匹配电路,使得射频输送管道连接射频匹配电路,使得射频功率源输出的射频信号经射频匹配网络及射频输送管道施加到下电极,这属于本领域的公知常识。因而坚持驳回决定。
随后,国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
经过充分的阅卷、合议,本案合议组认为事实已经清楚,可以依法作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人于2019年05月16日提交了权利要求书的全文修改替换页(共包括9项权利要求),经审查,所做修改符合专利法实施细则第61条第1款和专利法第33条的规定。本复审请求审查决定所依据的审查文本为:复审请求人于2019年05月16日提交的权利要求第1-9项;申请日2016年03月01日提交的说明书第1-5页和说明书摘要;2016年03月29日提交的说明书附图第1页和摘要附图。
2、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定:创造性,是指与现有技术相比,该发明具有突出的实质性特点和显著的进步,该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案与作为最接近的现有技术的对比文件相比存在多个区别技术特征,其中部分区别技术特征不属于本领域的公知常识,且该部分区别技术特征使得该技术方案具有有益的技术效果,则该权利要求请求保护的技术方案相对于上述对比文件和公知常识的结合具备创造性。
本复审请求审查决定评价创造性时所引用的对比文件与驳回决定中引用的对比文件相同,即:
对比文件1:CN202230975U,授权公告日为2012年05月23日。
2.1、权利要求1请求保护一种等离子处理装置,对比文件1公开了一种等离子处理装置,并具体公开了(参见说明书第[0028]-[0036]段,附图3-4)如下技术特征:该等离子处理装置包括处理腔室200(相当于反应腔),设置在反应腔内的基座210,其顶部具有介电层211,介电层211中埋设有电极(相当于下电极),接收电气线路232(相当于供电装置和电线)施加的射频功率,基座下方设置有三个给送管道230,使得电气线路232、氦气通道231和冷却介质通道233(相当于管道)从处理腔室200下方经三个给送管道230的开口进入,穿过三个给送管道230后,与基座210顶部的介电层211连接。
权利要求1与对比文件1的区别技术特征为:1)反应腔内设置一上电极;2)供电装置包括空心的射频输送管道,管道和电线设置于所述空心的射频输送管道内,所述供电装置还包括至少一射频匹配电路,所述射频输送管道连接所述射频匹配电路,一射频功率源输出的射频信号经所述射频匹配网络及所述射频输送管道施加到下电极。基于该区别技术特征,确定权利要求1实际所解决的技术问题为:如何实现处理气体的电离,以及节约下电极内部的空间以及避免管道、电缆对下电极上方的电场分布造成影响。
对于区别技术特征1),本领域的技术人员已知:对于电容型等离子处理装置而言,在反应腔内设置一上电极,这是本领域的惯用技术手段。
对于区别技术特征2),本申请的发明构思是将供电装置设置为空心结构的射频输送管道,然后将流体通道和电线设置于其中,节省下电极的内部空间,并且对材质较软的气体输送管道、液体输送管道及电线形成约束,避免其位置发生变化;解决了下电极内部管道线路拥挤的问题,同时还能够保证工艺过程中反应腔内电场分布的均匀性和稳定性。而对比文件1是在设有真空泵的基座周围均匀分布多个给送管道,分别将电气线路(即供电装置),氦气通道和冷却介质通道设置其中,从而保证真空泵对腔室内气体均匀抽吸,保证腔室工作效率。其给送管道是设置以用来容纳电气线路、氦气通道和冷却介质通道的部件,并非用以输送射频信号的部件,对比文件1未给出将射频输送装置设置为空心管道的技术启示。此外,区别技术特征2)不属于本领域的公知常识。上述区别技术特征使权利要求1的技术方案能够节约下电极内部的空间以及避免管道、电缆对下电极上方的电场分布造成影响,具有有益的技术效果。
因此,相对于驳回决定中引用的对比文件1以及本领域的公知常识,权利要求1具有突出的实质性特点和显著的进步,具备创造性,符合专利法第22条第3款的规定。
2.2、从属权利要求2-10直接或间接地引用权利要求1,在权利要求1具备创造性的情况下,权利要求2-10相应地也具备创造性,符合专利法第22条第3款的规定。
3、对于驳回决定和前置审查意见的评述
对于驳回理由和前置审查意见,合议组认为:本申请的发明构思是将供电装置设置为空心的射频输送管道,然后将流体通道和电线设置于所述空心的射频输送管道内,节省下电极的内部空间,并且对材质较软的气体输送管道、液体输送管道及电线形成约束,避免其位置发生变化;解决了下电极内部管道线路拥挤的问题,同时还能够保证工艺过程中反应腔内电场分布的均匀性和稳定性。从权利要求1中的表述来看,“所述供电装置包括空心的射频输送管道”和“射频功率源输出的射频信号经所述射频匹配网络及所述射频输送管道施加到所述下电极”已经清楚限定出射频输送管道本身具有射频输送的功能,即射频输送的部件本身为管道结构。而对比文件1是在设有真空泵的基座周围均匀分布多个给送管道,分别将电气线路(即供电装置),氦气通道和冷却介质通道设置其中,从而保证真空泵对腔室内气体均匀抽吸,保证腔室工作效率。其给送管道是设置以用来容纳电气线路、氦气通道和冷却介质通道的部件,并非用以输送射频的部件。因此特征“所述供电装置包括空心的射频输送管道,所述管道和电线设置于所述空心的射频输送管道内,所述供电装置还包括至少一射频匹配电路,所述射频输送管道连接所述射频匹配电路,一射频功率源输出的射频信号经所述射频匹配网络及所述射频输送管道施加到所述下电极”并未被对比文件1公开,也不属于本领域的公知常识。
基于上述事实和理由,合议组依法作出如下审查决定。至于本申请中是否还存在其他不符合专利法以及专利法实施细则的规定的缺陷,留待后续程序继续审查。
三、决定
撤销国家知识产权局于2019年02月11日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局实质审查部门以本复审请求审查决定所针对的文本为基础继续进行审查。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。


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