发明创造名称：显示面板及其形成方法
外观设计名称：
决定号：186057
决定日：2019-08-09
委内编号：1F254139
优先权日：
申请（专利）号：201510152960.4
申请日：2015-04-01
复审请求人：上海中航光电子有限公司 天马微电子股份有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：段瑞玲
合议组组长：雒晓明
参审员：姚文杰
国际分类号：G02F1/1335，G02F1/1333，G06F3/044
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求所请求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在多个区别技术特征，但其他现有技术文件公开了其中部分区别技术特征，并给出了将上述部分区别技术特征应用于最接近的现有技术的技术启示，而其余区别技术特征是本领域技术人员在最接近的现有技术的基础上容易想到的技术手段，则该项权利要求请求保护的技术方案不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201510152960.4，名称为“显示面板及其形成方法”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为上海中航光电子有限公司、天马微电子股份有限公司。本申请的申请日为2015年04月01日，公开日为2015年06月10日。
经实质审查，国家知识产权局专利实质审查部门以本申请权利要求1-6不符合专利法第22条第3款的规定为由于2018年01月31日驳回了本申请。驳回决定引用如下对比文件：
对比文件1：CN1691102A，公开日为：2005年11月02日。
实质审查过程中还引用了如下对比文件：
对比文件2：CNl04238787A，公开日为：2014年12月24日。
驳回决定所依据的审查文本为申请人于申请日2015年04月01日提交的说明书第1-28页、说明书附图第1-5页、说明书摘要和摘要附图，以及2017年11月23日提交的权利要求书第1-6项。驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种显示面板，其特征在于，包括：
相对设置的第一基板和第二基板；
所述第一基板具有呈行列矩阵排布的多个像素区域，相邻所述像素区域之间的间隔区域具有第一黑矩阵；
每个所述像素区域具有第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；
所述第一子像素区域具有第一子像素单元，所述第二子像素区域具有第二子像素单元，所述第三子像素区域具有第三子像素单元；
所述第四子像素区域具有第四子像素单元和第二黑矩阵；
其中，在行方向上，所述第二黑矩阵位于所述第四子像素单元与所述第一黑矩阵之间，所述第二基板上具有呈多行多列矩阵排布的多个公共电极，所述公共电极还作为自电容触控电极，同一行的相邻所述公共电极之间具有第一间隔区域，所述第一间隔区域同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵对应设置。
2. 如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板上具有呈行列矩阵排布的多个公共电极，每个所述公共电极电连接一条第一信号线，至少有一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置。
3. 如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，每条所述第一信号线都同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置。
4. 一种显示面板的形成方法，其特征在于，包括：
形成相对设置第一基板和第二基板；
在所述第一基板设置呈行列矩阵排布的多个像素区域；
在相邻所述像素区域之间的间隔区域形成第一黑矩阵；
在每个所述像素区域设置第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；
在所述第一子像素区域形成第一子像素单元，在所述第二子像素区域形成第二子像素单元，在所述第三子像素区域形成第三子像素单元；
在所述第四子像素区域形成第四子像素单元和第二黑矩阵；
其中，在行方向上，将所述第二黑矩阵形成在所述第四子像素单元与所述第一黑矩阵之间，在所述第二基板上具有呈多行多列矩阵排布的多个公共电极，所述公共电极还作为自电容触控电极，同时在同一行的相邻所述公共电极之间形成第一间隔区域，将所述第一间隔区域同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵对应设置。
5. 如权利要求4所述的显示面板的形成方法，其特征在于，还包括：在所述第二基板上形成呈行列矩阵排布的多个公共电极，设置每个所述公共电极电连接一条第一信号线，将至少一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵相对设置。
6. 如权利要求5所述的显示面板的形成方法，其特征在于，设置每条所述第一信号线都同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置。”
驳回决定具体指出：（1）权利要求1请求保护一种显示面板，权利要求4请求保护一种显示面板的形成方法，其相对于对比文件1的区别技术特征在于“所述第二基板上具有呈多行多列矩阵排布的多个公共电极，所述公共电极还作为自电容触控电极，同一行的相邻所述公共电极之间具有第一间隔区域，所述第一间隔区域同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵对应设置”，上述区别技术特征属于本领域的惯用技术手段。因此，权利要求1、4不具备专利法第22条第3款规定的创造性；（2）从属权利要求2-3、5-6的附加技术特征均为本领域公知常识，因此从属权利要求2-3、5-6也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人上海中航光电子有限公司、天马微电子股份有限公司（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年06月19日向国家知识产权局提出了复审请求，同时提交了权利要求书的全文修改替换页，具体修改涉及：在权利要求1、4中均增加了技术特征“所述第四子像素单元的面积小于所述第一子像素单元，所述第二子像素单元和所述第三子像素单元的面积”，以及“所述第一间隔区域与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠”，同时删除了技术特征“所述第一间隔区域同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵对应设置”，并陈述了修改后的权利要求具有创造性的理由。复审请求人在意见陈述中认为：（1）由于有自电容触控的需求，才会将公共电极设置为行列矩阵的排布方式，而并不是公共电极凑巧为行列矩阵排布方式，于是将其设置为自电容触控方式，而且对比文件1完全不涉及显示面板触控功能，由此得出将公共电极作为自电容触控电极不合理；（2）本申请将公共电极之间的间隔设置为与第一黑矩阵和第二黑矩阵完全重叠主要是解决公共电极在工艺过程中由于出现工艺波动和短路造成显示效果降低的问题，而对比文件1则是通过改变像素单元的布局来提高显示效果，其与本申请所要解决的技术问题不同。因此，对比文件1不涉及公共电极的布局问题，也不涉及公共电极之间的间隔区域的设计问题，不容易想到将间隔区域设置为与黑矩阵对应。复审请求时新修改的权利要求书如下：
“1. 一种显示面板，其特征在于，包括：
相对设置的第一基板和第二基板；
所述第一基板具有呈行列矩阵排布的多个像素区域，相邻所述像素区域之间的间隔区域具有第一黑矩阵；
每个所述像素区域具有第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；
所述第一子像素区域具有第一子像素单元，所述第二子像素区域具有第二子像素单元，所述第三子像素区域具有第三子像素单元；
所述第四子像素区域具有第四子像素单元和第二黑矩阵，所述第四子像素单元的面积小于所述第一子像素单元、所述第二子像素单元和所述第三子像素单元的面积；
其中，在行方向上，所述第二黑矩阵位于所述第四子像素单元与所述第一黑矩阵之间，所述第二基板上具有呈多行多列矩阵排布的多个公共电极，所述公共电极还作为自电容触控电极，同一行的相邻所述公共电极之间具有第一间隔区域，所述第一间隔区域与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠。
2. 如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板上具有呈行列矩阵排布的多个公共电极，每个所述公共电极电连接一条第一信号线，至少有一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置。
3. 如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，每条所述第一信号线都同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置。
4. 一种显示面板的形成方法，其特征在于，包括：
形成相对设置第一基板和第二基板；
在所述第一基板设置呈行列矩阵排布的多个像素区域；
在相邻所述像素区域之间的间隔区域形成第一黑矩阵；
在每个所述像素区域设置第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；
在所述第一子像素区域形成第一子像素单元，在所述第二子像素区域形成第二子像素单元，在所述第三子像素区域形成第三子像素单元；
在所述第四子像素区域形成第四子像素单元和第二黑矩阵，所述第四子像素单元的面积小于所述第一子像素单元、所述第二子像素单元和所述第三子像素单元的面积；
其中，在行方向上，将所述第二黑矩阵形成在所述第四子像素单元与所述第一黑矩阵之间，在所述第二基板上具有呈多行多列矩阵排布的多个公共电极，所述公共电极还作为自电容触控电极，同时在同一行的相邻所述公共电极之间形成第一间隔区域，所述第一间隔区域与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠。
5. 如权利要求4所述的显示面板的形成方法，其特征在于，还包括：在所述第二基板上形成呈行列矩阵排布的多个公共电极，设置每个所述公共电极电连接一条第一信号线，将至少一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵相对设置。
6. 如权利要求5所述的显示面板的形成方法，其特征在于，设置每条所述第一信号线都同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置。”
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年06月25日依法受理了该复审请求，并将其转送至原专利实质审查部门进行前置审查。
原专利实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年03月15日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1、4与对比文件1公开内容相比，其区别技术特征在于“公共电极是呈多行多列矩阵排列的多个公共电极，所述公共电极还作为自电容触控电极；同一行的相邻所述公共电极之间具有第一间隔区域，所述第一间隔区域与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠”。基于上述区别技术特征，本申请实际解决的技术问题是如何防止第二基板上的器件结构暴露，同时避免相邻公共电极之间发生短路现象。对比文件2给出了对于触控式显示面板，将公共电极同时用作触控电极并将其设置为多行多列矩阵排列的形式的技术启示，在此基础上，当面对触控显示的需求时，本领域技术人员有动机改进对比文件1的公共电极，使其满足触控显示的工作需求。进一步，为了防止相邻公共电极之间的间隙导致基板上的器件结构暴露或者漏光，采用黑矩阵进行遮挡是本领域公知常识，而且对比文件1给出了在第四子像素单元设置第二黑矩阵的技术启示，在此基础上，本领域技术人员可以想到去调整第四子像素上的第二黑矩阵的位置来和像素区域之间的第一黑矩阵进行配合从而与公共电极之间的间隔完全重叠以达到最佳的遮挡效果，这些对于本领域技术人员是容易做到的，无需付出创造性劳动。因此，权利要求1、4不具备专利法第22条第3款规定的创造性；（2）从属权利要求2-3、5-6的附加技术特征均为本领域公知常识，因此从属权利要求2-3、5-6不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
复审请求人于 2019年04月19日提交了意见陈述书，同时提交了权利要求书的全文修改替换页，具体修改涉及：（1）在权利要求1中增加了技术特征“每个所述公共电极电连接一条第一信号线，至少有一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置，且所述第一信号线与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠；在垂直于所述第二基板所在平面方向上，所述第一信号线位于所述公共电极和数据线之间，且位于所述公共电极和栅极线之间”；（2）在独立权利要求4中增加了技术特征“设置每个所述公共电极电连接一条第一信号线，将至少有一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置，且所述第一信号线与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠；在垂直于所述第二基板所在平面方向上，所述第一信号线位于所述公共电极和数据线之间，且位于所述公共电极和栅极线之间”；（3）删除了原权利要求2、5，并适应性地修改了权利要求的编号和引用关系。
复审请求人在意见陈述中认为：（1）本申请中相邻公共电极之间的第一间隔区域与第一黑矩阵和第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠，通过加宽间隔区域防止了同一行的相邻两个公共电极之间出现刻蚀残留等情况，避免了同一行的相邻两个公共电极之间出现短路等问题，解决了公共电极形成过程中工艺波动可能造成的显示效果降低的技术问题。然而，对比文件1的公共电极不复用做触控电极时，则不存在上述相邻公共电极之间短路的问题。对比文件2的公共电极虽然复用做触控电极，但是不存在工艺波动时，也不可能发现相邻公共电极之间出现短路的问题。 因此，现有技术并未涉及到复用为触控电极时公共电极块之间的短路问题；同时，本申请相对于对比文件1实际要解决的技术问题是：如何实现自电容触控，并将公共电极分时段应用触控和显示的问题。由于对比文件1仅是显示面板，并没有触控需求，其不存在与“本申请实际要解决的技术问题”相同的技术问题，本领域技术人员在不付出创造性劳动的基础上，不可能想到将对比文件1和对比文件2进行结合，然后再结合对应的公知常识，得到本申请权利要求1所要求保护的技术方案；（2）本申请的第一信号线相对于现有技术加宽了，防止了同一行的相邻两个公共电极之间出现短路问题。这样在显示阶段，加宽后的第一信号线能够用于屏蔽栅极线和数据线的信号；而在触控阶段，加宽后的第一信号线与公共电极电连接，同样能够用作触控电极。而且第一信号线与公共电极位于不同层能够避免第一信号线和公共电极之间的短路。修改后的权利要求书如下：
“1. 一种显示面板，其特征在于，包括：
相对设置的第一基板和第二基板；
所述第一基板具有呈行列矩阵排布的多个像素区域，相邻所述像素区域之间的间隔区域具有第一黑矩阵；
每个所述像素区域具有第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；
所述第一子像素区域具有第一子像素单元，所述第二子像素区域具有第二子像素单元，所述第三子像素区域具有第三子像素单元；
所述第四子像素区域具有第四子像素单元和第二黑矩阵，所述第四子像素单元的面积小于所述第一子像素单元、所述第二子像素单元和所述第三子像素单元的面积；
其中，在行方向上，所述第二黑矩阵位于所述第四子像素单元与所述第一黑矩阵之间，所述第二基板上具有呈多行多列矩阵排布的多个公共电极，所述公共电极还作为自电容触控电极，同一行的相邻所述公共电极之间具有第一间隔区域，所述第一间隔区域与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠；
每个所述公共电极电连接一条第一信号线，至少有一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置，且所述第一信号线与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠；
在垂直于所述第二基板所在平面方向上，所述第一信号线位于所述公共电极和数据线之间，且位于所述公共电极和栅极线之间。
2. 如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，每条所述第一信号线都同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置。
3. 一种显示面板的形成方法，其特征在于，包括：
形成相对设置第一基板和第二基板；
在所述第一基板设置呈行列矩阵排布的多个像素区域；
在相邻所述像素区域之间的间隔区域形成第一黑矩阵；
在每个所述像素区域设置第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；
在所述第一子像素区域形成第一子像素单元，在所述第二子像素区域形成第二子像素单元，在所述第三子像素区域形成第三子像素单元；
在所述第四子像素区域形成第四子像素单元和第二黑矩阵，所述第四子像素单元的面积小于所述第一子像素单元、所述第二子像素单元和所述第三子像素单元的面积；
其中，在行方向上，将所述第二黑矩阵形成在所述第四子像素单元与所述第一黑矩阵之间，在所述第二基板上形成呈多行多列矩阵排布的多个公共电极，所述公共电极还作为自电容触控电极，同时在同一行的相邻所述公共电极之间形成第一间隔区域，所述第一间隔区域与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠；
设置每个所述公共电极电连接一条第一信号线，将至少一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置，且将所述第一信号线与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠；
在垂直于所述第二基板所在平面方向上，所述第一信号线位于所述公共电极和数据线之间，且位于所述公共电极和栅极线之间。
4. 如权利要求3所述的显示面板的形成方法，其特征在于，设置每条所述第一信号线都同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
复审请求人在复审阶段于2019年04月19日提交了权利要求书全文修改替换页，经核实上述修改符合专利法第33条的规定。本复审请求审查决定依据的文本为：复审请求人于申请日2015年04月01日提交的说明书第1-28页、说明书附图第1-5页、说明书摘要和摘要附图，以及2019年04月19日提交的权利要求第1-4项。
2、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求所请求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在多个区别技术特征，但其他现有技术文件公开了其中部分区别技术特征，并给出了将上述部分区别技术特征应用于最接近的现有技术的技术启示，而其余区别技术特征是本领域技术人员在最接近的现有技术的基础上容易想到的技术手段，则该项权利要求请求保护的技术方案不具备创造性。
1、权利要求1请求保护一种显示面板，对比文件1公开了一种显示面板，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第6-11页，附图1-10）：包括相对设置的上部板200（相当于第一基板）和底板100（相当于第二基板）；所述上部板200具有图1所示的呈行列矩阵排布的多个像素区域PX，相邻像素区域之间具有第一黑矩阵；每个所述像素区域PX具有红色像素RP、绿色像素GP、蓝色像素BP和白色像素WP（相当于每个所述像素区域具有第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域，所述第一子像素区域具有第一子像素单元，所述第二子像素区域具有第二子像素单元，所述第三子像素区域具有第三子像素单元）；如图5所示，白色像素WP的减少是通过加宽黑色矩阵的部分得到（即白色像素WP加宽的那部分黑矩阵相当于第二黑矩阵），在行方向上所述加宽的黑矩阵位于所述白色像素WP与像素区域之间的第一黑矩阵之间；而且白色像素WP比红色像素RP、绿色像素GP、蓝色像素BP的面积小（相当于所述第四子像素单元的面积小于所述第一子像素单元，所述第二子像素单元和所述第三子像素单元的面积）；公共电极270可以提供在底板100上（相当于第二基板上具有公共电极）。
可见，权利要求1与对比文件1公开内容相比，其区别技术特征在于（1）公共电极是呈多行多列矩阵排列的多个公共电极，所述公共电极还作为自电容触控电极；同一行的相邻所述公共电极之间具有第一间隔区域，所述第一间隔区域与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠；（2）每个所述公共电极电连接一条第一信号线，至少有一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置，且所述第一信号线与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠；在垂直于所述第二基板所在平面方向上，所述第一信号线位于所述公共电极和数据线之间，且位于所述公共电极和栅极线之间。基于上述区别技术特征，本申请相对于对比文件1实际解决的技术问题是如何防止第二基板上的器件结构暴露，同时避免相邻公共电极之间发生短路现象和减少触控阶段公共电极的信号干扰强度。
对于上述区别技术特征（1），对比文件2公开了一种触控式平板显示器，并具体公开了以下技术特征（参见说明书具体实施方式二，附图2）：包括下基板201和上基板202，在上基板202内表面的显示区域设置有显示公共电极和触控感测电极的共用电极250，显示公共和触控感测共用电极250由（g＊h）个阵列排布的电极单元构成，每个电极单元为块状结构，每个电极单元覆盖显示像素单元阵列230的整个像素单元。而且由图2可以看出，同一行的相邻所述电极单元之间具有间隔。可见，对比文件2给出了对于触控式显示面板，将公共电极同时用作触控电极并将其设置为多行多列矩阵排列的形式的技术启示，在此基础上，当面对触控显示的需求时，本领域技术人员有动机将对比文件1的公共电极改进为对比文件2所示的结构形式，使其满足触控显示的工作需求。进一步，为了防止相邻公共电极之间的间隙导致基板上的器件结构暴露或者漏光，采用黑矩阵进行遮挡是本领域公知常识，而且对比文件1给出了在第四子像素单元设置第二黑矩阵的技术启示，在此基础上，本领域技术人员可以想到去调整第四子像素上的第二黑矩阵的位置来和像素区域之间的第一黑矩阵进行配合从而与公共电极之间的间隔完全重叠以达到最佳的遮挡效果，这些对于本领域技术人员是容易做到的，无需付出创造性劳动。
对于上述区别技术特征（2），在显示面板中将公共电极与信号线进行电连接是本领域公知常识，而且本领域技术人员熟知在设计过程中信号线需要采用不透光的黑矩阵加以遮挡，由于对比文件1给出了在第四子像素单元还设置第二黑矩阵，为了更好地降低信号线暴露的风险将至少一条第一信号线同时与第一黑矩阵和第二黑矩阵完全重叠设置以进行遮挡是本领域技术人员容易想到的技术手段，无需付出创造性劳动。此外，本领域技术人员为了避免信号线和公共电极之间发生短路，将第一信号线设置为位于所述公共电极和数据线之间，以及所述公共电极和栅极线之间也是本领域常规设置，对于本领域技术人员是容易想到的。
因此，在对比文件1的基础上结合对比文件2和本领域常用技术手段获得权利要求1所要求保护的技术方案，对所属技术领域的技术人员来说是显而易见的，因此权利要求1所要求保护的技术方案不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
2、权利要求2引用权利要求1，由于将信号线采用黑矩阵进行遮挡是本领域公知常识，进一步为了降低信号线被暴露的风险，本领域技术人员可以想到将每条信号线同时与第一黑矩阵和第二黑矩阵相对设置，无需付出创造性劳动。因此，当其引用的权利要求不具有创造性时，权利要求2也不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
3、权利要求3请求保护一种显示面板，对比文件1公开了一种显示面板，并具体公开了以下技术特征（参见说明书第6-11页，附图1-10）：形成相对设置的上部板200（相当于第一基板）和底板100（相当于第二基板）；所述上部板200具有图1所示的呈行列矩阵排布的多个像素区域PX，相邻像素区域之间具有第一黑矩阵；每个所述像素区域PX具有红色像素RP、绿色像素GP、蓝色像素BP和白色像素WP（相当于每个所述像素区域具有第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域，在所述第一子像素区域形成第一子像素单元，在所述第二子像素区域形成第二子像素单元，在所述第三子像素区域形成第三子像素单元）；如图5所示，白色像素WP的减少是通过加宽黑色矩阵的部分得到（即白色像素WP加宽的那部分黑矩阵相当于第二黑矩阵），在行方向上所述加宽的黑矩阵位于所述白色像素WP与像素区域之间的第一黑矩阵之间；而且白色像素WP比红色像素RP、绿色像素GP、蓝色像素BP的面积小（相当于所述第四子像素单元的面积小于所述第一子像素单元，所述第二子像素单元和所述第三子像素单元的面积）；公共电极270可以提供在底板100上（相当于第二基板上具有公共电极）。
可见，权利要求3与对比文件1公开内容相比，其区别技术特征在于（1）公共电极是呈多行多列矩阵排列的多个公共电极，所述公共电极还作为自电容触控电极，同时在同一行的相邻所述公共电极之间形成第一间隔区域，所述第一间隔区域与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠；（2）设置每个所述公共电极电连接一条第一信号线，将至少一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置，且将所述第一信号线与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵在垂直于所述第二基板所在平面的方向上完全重叠；在垂直于所述第二基板所在平面方向上，所述第一信号线位于所述公共电极和数据线之间，且位于所述公共电极和栅极线之间。基于上述区别技术特征，本申请相对于对比文件1实际解决的技术问题是如何防止第二基板上的器件结构暴露，同时避免相邻公共电极之间发生短路现象和减少触控阶段公共电极的信号干扰强度。
对于上述区别技术特征（1），对比文件2公开了一种触控式平板显示器，并具体公开了以下技术特征（参见说明书具体实施方式二，附图2）：包括下基板201和上基板202，在上基板202内表面的显示区域设置有显示公共电极和触控感测电极的共用电极250，显示公共和触控感测共用电极250由（g＊h）个阵列排布的电极单元构成，每个电极单元为块状结构，每个电极单元覆盖显示像素单元阵列230的整个像素单元。而且由图2可以看出，同一行的相邻所述电极单元之间具有间隔。可见，对比文件2给出了对于触控式显示面板，将公共电极同时用作触控电极并将其设置为多行多列矩阵排列的形式的技术启示，在此基础上，当面对触控显示的需求时，本领域技术人员有动机将对比文件1的公共电极改进为对比文件2所示的结构形式，使其满足触控显示的工作需求。进一步，为了防止相邻公共电极之间的间隙导致基板上的器件结构暴露或者漏光，采用黑矩阵进行遮挡是本领域公知常识，而且对比文件1给出了在第四子像素单元设置第二黑矩阵的技术启示，在此基础上，本领域技术人员可以想到去调整第四子像素上的第二黑矩阵的位置来和像素区域之间的第一黑矩阵进行配合从而与公共电极之间的间隔完全重叠以达到最佳的遮挡效果，这些对于本领域技术人员是容易做到的，无需付出创造性劳动。
对于上述区别技术特征（2），在显示面板中将公共电极与信号线进行电连接是本领域公知常识，而且本领域技术人员熟知在设计过程中信号线需要采用不透光的黑矩阵加以遮挡，由于对比文件1给出了在第四子像素单元还设置第二黑矩阵，为了更好地降低信号线暴露的风险将至少一条第一信号线同时与第一黑矩阵和第二黑矩阵完全重叠设置以进行遮挡是本领域技术人员容易想到的技术手段，无需付出创造性劳动。此外，本领域技术人员为了避免信号线和公共电极之间发生短路，将第一信号线设置为位于所述公共电极和数据线之间，以及所述公共电极和栅极线之间也是本领域常规设置，对于本领域技术人员容易想到和做到。
因此，在对比文件1的基础上结合对比文件2和本领域常用技术手段获得权利要求3所要求保护的技术方案，对所属技术领域的技术人员来说是显而易见的，因此权利要求3所要求保护的技术方案不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
4、权利要求4引用权利要求3，由于将信号线采用黑矩阵进行遮挡是本领域公知常识，进一步为了降低信号线被暴露的风险，本领域技术人员可以想到将每条信号线同时与第一黑矩阵和第二黑矩阵相对设置，无需付出创造性劳动。因此，当其引用的权利要求不具有创造性时，权利要求4也不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。
3、对复审请求人意见陈述的答复
对于复审请求人的意见陈述，合议组认为：
（1）对比文件2给出了将公共电极同时用作触控电极的技术启示，在此基础上，当面对触控显示的需求时，本领域技术人员有动机将对比文件1的公共电极改进为对比文件2所示的结构形式，使其满足触控显示的工作需求。进一步，为了防止相邻公共电极之间的间隙导致基板上的器件结构暴露或者漏光，采用黑矩阵进行遮挡是本领域公知常识，此外对比文件1给出了在第四子像素单元设置第二黑矩阵的技术启示，在此基础上，本领域技术人员可以想到去调整第四子像素上的第二黑矩阵的位置来和像素区域之间的第一黑矩阵进行配合从而与公共电极之间的间隔完全重叠以达到最佳的遮挡效果；同时，对于触控显示面板，公共电极由于工艺制造波动出现短路是本领域熟知的技术问题，通过上述分析可知，公共电极之间的间隔与第一、第二黑矩阵完全重叠使其相对于现有技术变宽，必然可以起到防止相邻两个公共电极之间出现短路的问题；此外，发明实际解决的技术问题是权利要求所要求保护的技术方案与最接近的现有技术之间存在的区别技术特征所要实际解决的问题，并非是最接近的现有技术所需要解决的技术问题，二者概念不同；
（2）在显示面板的设计过程中，本领域技术人员熟知信号线需要采用不透光的黑矩阵加以遮挡，而且本领域技术人员可以根据实际需要设置信号线与第一黑矩阵和第二黑矩阵的位置对应关系，在对比文件1已经给出在第四子像素单元设置第二黑矩阵的技术启示下，本领域技术人员为了达到最佳的遮挡效果可以想到将信号线同时与第一、第二黑矩阵相对设置。此外，本领域技术人员为了避免信号线和公共电极之间发生短路，将第一信号线设置为位于所述公共电极和数据线之间，以及所述公共电极和栅极线之间也是本领域常规设置，对于本领域技术人员容易想到和做到，无需付出创造性劳动。
因此，复审请求人的意见陈述不具有说服力，本申请的权利要求不具有创造性。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年01月31日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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