发明创造名称：一种光配向膜杂质去除装置和方法
外观设计名称：
决定号：188561
决定日：2019-08-01
委内编号：1F272139
优先权日：
申请（专利）号：201510623836.1
申请日：2015-09-25
复审请求人：京东方科技集团股份有限公司 合肥京东方光电科技有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：刘文治
合议组组长：周小祥
参审员：赵劼
国际分类号：G02F1/1337,G02F1/13
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术的区别技术特征为本领域的常规技术手段，且将所述最接近的现有技术和本领域的常规技术手段相结合得到该项权利要求的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，该项权利要求请求保护的技术方案相对于现有技术文件不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201510623836.1，名称为“一种光配向膜杂质去除装置和方法”的发明专利申请（下称本申请），申请人为京东方科技集团股份有限公司，本申请的申请日为2015年09月25日，申请公布日为2015年12月09日。
国家知识产权局专利实质审查部门依法对本申请进行了实质审查，于2018年11月05日以本申请权利要求1-7不具备专利法第22条第3款规定的创造性为理由驳回了本申请。驳回决定中使用如下1篇对比文件：
对比文件1：CN1991525A，其公开日为2007年07月04日。
驳回决定所依据的文本为申请人于2018年07月11日提交的权利要求第1-7项，于申请日2015年09月25日提交的说明书摘要、摘要附图、说明书第1-76段、说明书附图图1-图5。
驳回决定所针对的权利要求书共包括7项权利要求，其具体内容如下：
“1. 一种光配向膜杂质去除装置，其特征在于，包括：加热设备、气体抽出设备以及气体输入设备；
所述加热设备形成一个密封腔体，用于对放置于所述密封腔体内部的配向膜进行加热；
所述气体抽出设备通过抽气管道与所述密封腔体连通，用于抽取所述密封腔体内的气体,减小所述密封腔体内部的压强；
所述气体输入设备包括供气管道和控制开关，所述供气管道与所述密封腔体连通，所述控制开关用于控制所述供气管道的导通或截止；所述气体输入设备用于在所述控制开关的控制下通过供气管道向所述密封腔体内输送气体；
所述气体输入设备还包括过滤网；所述过滤网用于对进入所述密封腔体的气体进行过滤。
2. 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述抽气管道设置于所述密封腔体的第一侧，所述气体输入设备的供气管道设置于所述密封腔体的第二侧；其中，所述密封腔体的第一侧与所述密封腔体的第二侧相互远离。
3. 根据权利要求1-2任一项所述的装置，其特征在于，所述加热设备用于将放置于腔体内部的配向膜加热至预设温度，所述预设温度大于190℃且小于250℃。
4. 一种光配向膜杂质去除方法，其特征在于，应用于权利要求1-3任一项所述的光配向膜杂质去除装置；该方法包括：
控制所述气体抽出设备开始工作并通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道导通，对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气；
当换气时间达到预设时间时，控制所述加热设备开始工作；
当放置于所述密封腔体内部的配向膜的温度达到预设温度时，通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道截止；
在对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气前，所述方法还包括：通过过滤网对进入所述密封腔体的气体进行过滤。
5. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述预设温度大于190℃且小于250℃。
6. 一种光配向膜杂质去除方法，其特征在于，应用于权利要求1-3 任一项所述的光配向膜杂质去除装置；该方法包括：
控制所述气体抽出设备开始工作并通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道导通，对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气；
当换气时间达到预设时间时，通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道截止；
当所述密封腔体内部的压强达到预设压强时，控制所述加热设备开始工作，将放置于所述密封腔体内部的配向膜加热至预设温度；
在对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气前，所述方法还包括：通过过滤网对进入所述密封腔体的气体进行过滤。
7. 根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述预设温度大于190℃且小于250℃。 ”
驳回决定主要认为：权利要求1与对比文件1的区别技术特征在于：（1）气体输入设备还包括用于控制所述供气管道的导通或截止的控制开关；（2）气体输入设备还包括用于对进入所述密封腔体的气体进行过滤的过滤网。然而上述区别技术特征为本领域的常规技术手段，因此，在对比文件1的基础上结合本领域的常规技术手段得到权利要求1所要求保护的技术方案，对于本领域技术人员来说是显而易见的。权利要求1所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-3直接或间接引用权利要求1，其附加技术特征被对比文件1公开，因此，在其引用的独立权利要求1不具备创造性时，从属权利要求2-3也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。独立权利要求4和权利要求6分别请求保护一种光配向膜杂质去除方法，并应用于权利要求1-3中的任一项光配向膜杂质去除装置，如上所述，权利要求1-3任一项光配向膜杂质去除装置的技术方案已经不具备创造性，参见上述对权利要求1-3的评述，基于类似的理由，权利要求4和6所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求5引用权利要求4，从属权利要求7引用权利要求6，其附加技术特征均属于本领域的常规技术手段，因此，在其引用的相应的独立权利要求不具备创造性时，从属权利要求5和7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人京东方科技集团股份有限公司（下称复审请求人）不服上述驳回决定，于2019年01月24日向国家知识产权局提出复审请求，但未对申请文件进行修改。
复审请求人认为：（1）对比文件1的目的是测量残留在光配向膜中的分解产物，没有去除光配向膜杂质的相关记载，本申请所要解决的技术问题是如何去除光配向膜中产生的小分子杂质且不影响光配向膜及其他元件，二者所要解决的技术问题不同，本领域技术人员无法从对比文件1中得到启示解决本申请所要解决的技术问题；（2）对比文件1中的技术方案输入纯净氦气是为了净化基板，本申请中对空气过滤之后输入到密封腔体内进行换气，能够去除密封腔体内的小分子杂质，同时有效避免空气中的大气污染；（3）对比文件1中的技术方案是为了测定基板中光配向膜含有的分解产物的量，该装置不需要在真空条件下收集气体；本申请是通过气体抽出设备减小密封腔体内的压强，在真空条件下对光配向膜进行加热。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年01月30日依法受理了该复审请求，并将其转送至专利实质审查部门进行前置审查。
经前置审查，专利实质审查部门仍坚持驳回决定。
在此基础上，国家知识产权局依法成立合议组对本案进行审查并于2019年05月31日发出复审通知书，指出：
权利要求1与对比文件1相比的区别技术特征在于：①所述气体抽出设备通过抽气管道与所述密封腔体连通，用于抽取所述密封腔体内的气体，减小所述密封腔体内部的压强；②所述气体输入设备包括控制开关，所述控制开关用于控制所述供气管道的导通或截止；③所述气体输入设备还包括过滤网，所述过滤网用于对进入所述密封腔体的气体进行过滤。然而上述区别技术特征为本领域的常规技术手段，因此，在对比文件1的基础上结合本领域的常规技术手段得到权利要求1所要求保护的这一技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的。因此，权利要求1所要求保护的技术方案相对于对比文件1和本领域技的常规技术手段的结合不具有突出的实质性特点和显著进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-3直接或间接引用权利要求1，其附加技术特征属于本领域的常规技术手段，因此，在其引用的独立权利要求1不具备创造性时，从属权利要求2-3也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。独立权利要求4和权利要求6分别请求保护一种光配向膜杂质去除方法，并应用于权利要求1-3中的任一项光配向膜杂质去除装置，如上所述，权利要求1-3任一项光配向膜杂质去除装置的技术方案已经不具备创造性，权利要求4和权利要求6与对比文件1相比区别技术特征在于设置光配向膜杂质去除装置的工作过程，而设置该装置的工作过程，属于本领域技术人员的常规技术手段，其效果是可以预期的。从而，在对比文件1的基础上结合本领域的常规技术手段得到权利要求4和6所要求保护的这一技术方案，对于本领域技术人员来说是显而易见的。因此，权利要求4和6所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求5引用权利要求4，从属权利要求7引用权利要求6，其附加技术特征均属于本领域的常规技术手段，因此，在其引用的相应的独立权利要求不具备创造性时，从属权利要求5和7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
针对复审请求人的意见，合议组认为：对比文件1中的生成气体浓缩(收集)装置GCC是用来收集光配向膜含有的分解产物所产生的生成气体，其中所包含的石英室和加热装置是对光配向膜加热从而分离其所包含的杂质，即相当于本申请权利要求1中的光配向膜杂质去除装置；对比文件1中输入氦气作为净化气体，相当于本申请权利要求1中的向密封腔体内输入气体，都能够实现对配向膜的净化和对密封腔体的换气，有效避免空气中的杂质污染光配向膜；本领域技术人员均知，采用真空热处理技术，能够实现无氧化、无污染、降低加热温度等效果，在去除光配向膜杂质时，本领域技术人员很容易想到采用气体抽出设备抽取密封腔体内的气体，减小密封腔体内部的压强，从而实现在真空或接近真空的条件下对配向膜进行杂质去除，其效果是可以预期的，并不能给本申请带来突出的实质性特点和显著的进步。因此，对于复审请求人的意见合议组不予支持。
复审请求人于2019年07月10日针对复审通知书提交了意见陈述书，并提交权利要求书的修改替换页,具体修改时,将驳回所针对的权利要求1和5并入到权利要求4中形成新的独立权利要求1，将权利要求2引用新的权利要求1形成新的权利要求2，将权利要求1和7并入到权利要求6中形成新的独立权利要求3，将权利要求2引用新的权利要求3形成新的权利要求4，删除权利要求1、3、5、7。修改后的权利要求书包括4项权利要求，其内容如下：
“1. 一种光配向膜杂质去除方法，其特征在于，应用于光配向膜杂质去除装置，所述光配向膜杂质去除装置包括：加热设备、气体抽出设备以及气体输入设备；
所述加热设备形成一个密封腔体，用于对放置于所述密封腔体内部的配向膜进行加热；
所述气体抽出设备通过抽气管道与所述密封腔体连通，用于抽取所述密封腔体内的气体,减小所述密封腔体内部的压强；
所述气体输入设备包括供气管道和控制开关，所述供气管道与所述密封腔体连通，所述控制开关用于控制所述供气管道的导通或截止；所述气体输入设备用于在所述控制开关的控制下通过供气管道向所述密封腔体内输送气体；
所述气体输入设备还包括过滤网；所述过滤网用于对进入所述密封腔体的气体进行过滤；
所述方法包括：
控制所述气体抽出设备开始工作并通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道导通，对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气；
当换气时间达到预设时间时，控制所述加热设备开始工作；
当放置于所述密封腔体内部的配向膜的温度达到预设温度时，通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道截止；
在对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气前，所述方法还包括：通过过滤网对进入所述密封腔体的气体进行过滤；
所述预设温度大于190℃且小于250℃。
2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述抽气管道设置于所述密封腔体的第一侧，所述气体输入设备的供气管道设置于所述密封腔体的第二侧；其中，所述密封腔体的第一侧与所述密封腔体的第二侧相互远离。
3. 一种光配向膜杂质去除方法，其特征在于，应用于光配向膜杂质去除装置，所述光配向膜杂质去除装置包括：加热设备、气体抽出设备以及气体输入设备；
所述加热设备形成一个密封腔体，用于对放置于所述密封腔体内部的配向膜进行加热；
所述气体抽出设备通过抽气管道与所述密封腔体连通，用于抽取所述密封腔体内的气体,减小所述密封腔体内部的压强；
所述气体输入设备包括供气管道和控制开关，所述供气管道与所述密封腔体连通，所述控制开关用于控制所述供气管道的导通或截止；所述气体输入设备用于在所述控制开关的控制下通过供气管道向所述密封腔体内输送气体；
所述气体输入设备还包括过滤网；所述过滤网用于对进入所述密封腔体的气体进行过滤；
所述方法包括：
控制所述气体抽出设备开始工作并通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道导通，对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气；
当换气时间达到预设时间时，通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道截止；
当所述密封腔体内部的压强达到预设压强时，控制所述加热设备开始工作，将放置于所述密封腔体内部的配向膜加热至预设温度；
在对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气前，所述方法还包括：通过过滤网对进入所述密封腔体的气体进行过滤；
所述预设温度大于190℃且小于250℃。
4. 根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述抽气管道设置于所述密封腔体的第一侧，所述气体输入设备的供气管道设置于所述密封腔体的第二侧；其中，所述密封腔体的第一侧与所述密封腔体的第二侧相互远离。”
复审请求人认为修改后本申请的技术方案具备创造性，主要理由如下：现有技术中在光配向膜杂质去除时没有考虑高温250℃下对光配向膜及其它元件的影响，本领域技术人员没有动机对对比文件1中的技术方案进行改进，即降低光配向膜的加热温度；本申请在较低压强和较低温度下去除光配向配的杂质，即在190~250℃低温下能够有效去除配向膜中的杂质并且不影响光配向膜及其它元件，具有显著的进步，具备创造性。
在此基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）关于审查文本
复审请求人在答复复审通知书时修改权利要求书，经审查，上述修改文本符合专利法第33条以及专利法实施细则第61条的规定，因此，本决定针对的审查文本为：复审请求人于2019年07月10日提交的权利要求第1-4项，于申请日2015年09月25日提交的说明书摘要、摘要附图、说明书第1-76段、说明书附图图1-图5。
（二）关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
1、关于权利要求1
权利要求1请求保护一种光配向膜杂质去除方法，对比文件1公开了一种液晶显示装置，其中包含取向膜在光照射下生成分解产物的测定系统及方法，二者均属于液晶显示器的技术领域，对比文件1具体公开了以下内容（参见说明书第7页第6、7段、第8页第1、2段及附图5、6）：图5说明使用本发明的试样基板的分解产物生成量测定系统的测定步骤，该测定系统由生成气体浓缩(收集)装置GCC与带有生成气体浓缩导入装置的气相色谱质谱联用仪GCMS构成，图5中的生成气体浓缩(收集)装置GCC是在图6所示的石英室(chamber)QCB中装入试样基板S-SUB1，导入氦气He作为净化气(purge gas)，边从试样的背面进行净化，边用加热装置HTR在250℃下加热30分钟。此期间，收集石英室QCB内的气体作为收集气体CG，将其从接收(trap)管TTB的一端导入；接收管TTB为玻璃管，其中充填了收集用树脂(2，6-二苯醚结构的耐热性树脂)，利用泵等从另一端进行排气使收集气体CG通过；通过过程中，收集气体CG中含有的成分吸附到接收管TTB内。
基于对比文件1公开的上述内容可知，上述分离试样基板杂质所采用的装置部分相当于权利要求1中的光配向膜杂质去除装置，石英室QCB中装入试样基板S-SUB1以及加热装置HTR相当于权利要求1中的加热设备，加热设备形成一个密封腔体，用于对放置于所述密封腔体内部的配向膜进行加热；导入氦气He作为净化气相当于公开了权利要求1中的气体输入设备的供气管道，供气管道与所述密封腔体连通，所述气体输入设备用于通过供气管道向所述密封腔体内输送气体。
本申请权利要求1与对比文件1相比，其区别技术特征在于：①所述气体抽出设备通过抽气管道与所述密封腔体连通，用于抽取所述密封腔体内的气体，减小所述密封腔体内部的压强；②所述气体输入设备包括控制开关，所述控制开关用于控制所述供气管道的导通或截止；③所述气体输入设备还包括过滤网，所述过滤网用于对进入所述密封腔体的气体进行过滤；④控制气体抽出设备开始工作，并通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道导通，对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气；当换气时间达到预设时间时，控制所述加热设备开始工作；当放置于所述密封腔体内部的配向膜的温度达到预设温度时，通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道截止；⑤所述预设温度大于190℃且小于250℃。
基于上述区别技术特征，权利要求1请求保护的技术方案实际所要解决的技术问题是如何在真空下选择合适的温度进行光配向膜杂质去除、如何控制供气管道的导通或截止以及如何对输入气体进行净化。
对于区别技术特征①，本领域技术人员均知，采用真空热处理技术，能够实现无氧化、无污染、降低加热温度等效果，这是本领域的公知常识，在光配向膜的杂质去除时，基于实现上述效果之一或全部的目的，本领域技术人员很容易想到采用气体抽出设备抽取密封腔体内的气体，减小密封腔体内部的压强，从而实现在真空或接近真空的条件下对配向膜进行杂质去除。
对于区别技术特征②，根据对密封腔体和光配向膜的净化需求，采用控制开关控制供气管道的导通或截止，在配向膜杂质去除开始时，输入净化气体，满足换气要求完成净化后，停止输入净化气体，属于本领域技术人员的常规技术手段。
对于区别技术特征③，对比文件1已经公开了导入氦气作为净化气，即输入的气体是作为净化气体使用的，通过设置过滤网对气体过滤从而获得净化气体，这是本领域技术人员为获得净化气体所采用的常规技术手段。
对于区别技术特征④，在得到所述光配向膜杂质去除装置的基础上，根据配向膜杂质去除需求，设置该装置的工作过程，对本领域技术人员来说是显而易见的，配向膜杂质去除时，控制气体抽出设备开始工作，通过控制开关控制供气管道的导通输入气体进行换气并加热到预设温度，控制供气通道截止停止换气，在上述过程中保持气体抽出设备始终处于工作状态，使密封腔体内真空度逐渐升高，最终在真空或接近真空的条件下去除配向膜中的杂质，而设置上述工作过程属于本领域技术人员的常规技术手段，其效果是可以预期的。
对于区别技术特征⑤，本领域技术人员公知，将光配向膜加热至预设温度能够去除杂质，加热温度过高会对光配向膜及其他元件产生负面影响，加热温度过低，光配向膜杂质去除不够充分，因而在杂质去除过程中会排除明显不合理的温度范围并将加热温度设定为合理的范围，例如将预设温度设定为大于190℃且小于250℃，而这属于本领域技术人员的常规选择，其效果也是可以预期的。
从而，在对比文件1的基础上结合本领域的常规技术手段得到权利要求1所要求保护的这一技术方案，对于本领域技术人员来说是显而易见的。因此，权利要求1所要求保护的技术方案相对于对比文件1和本领域技的常规技术手段的结合不具有突出的实质性特点和显著进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
针对复审请求人答复复审通知书的意见陈述，合议组认为：本申请说明书的背景技术部分中有如下记载（参见说明书第0003段）：加热温度过低，仍有较多杂质未蒸发，杂质去除不理想，加热温度过高，高温可能会影响配向膜及其他元件。本领域技术人员公知，将光配向膜加热能够去除杂质，加热温度过高会对光配向膜及其它元件产生影响，加热温度过低，光配向膜杂质去除不充分，因此本领域技术人员有动机对最接近的现有技术中的技术方案进行改进，采用真空热处理技术，能够实现无氧化、无污染、降低加热温度等效果，这是本领域的公知常识，在光配向膜的杂质去除时，基于实现上述效果之一或全部的目的，本领域技术人员很容易想到采用气体抽出设备抽取密封腔体内的气体，减小密封腔体内部的压强，从而实现在真空或接近真空的条件下对配向膜进行杂质去除，而在杂质去除过程中会排除明显不合理的温度范围并将加热温度设定为合理的范围，例如将预设温度设定为大于190℃且小于250℃，既能将光配向膜的杂质去除又不影响配向膜及其它元件，这属于本领域技术人员的常规选择，其效果也是可以预期的。因此，复审请求人的意见合议组不予接受。
2、关于权利要求2
权利要求2是权利要求1的从属权利要求，其附加技术特征为：所述抽气管道设置于所述密封腔体的第一侧，所述气体输入设备的供气管道设置于所述密封腔体的第二侧；其中，所述密封腔体的第一侧与所述密封腔体的第二侧相互远离。对本领域技术人员而言，将抽气管道和供气管道设置于密封腔体的不同侧面，相互远离，能够保证换气充分，有利于去除密封腔体内的杂质，这是本领域的常规技术手段，其效果也是可以预期的。因此，在其引用的权利要求1不具备创造性时，从属权利要求2也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、关于权利要求3
独立权利要求3请求保护一种光配向膜杂质去除方法，并应用于光配向膜杂质去除装置，其技术特征与权利要求1的技术特征相对应，对比文件1公开的内容参照权利要求1的评述，权利要求3与对比文件1相比，其区别技术特征还在于：控制气体抽出设备开始工作并通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道导通，对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气；当换气时间达到预设时间时，通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道截止；当所述密封腔体内部的压强达到预设压强时，控制所述加热设备开始工作，将放置于所述密封腔体内部的配向膜加热至预设温度。
基于上述区别技术特征，权利要求3请求保护的技术方案实际所要解决的技术问题是如何在真空下去除光配向膜的杂质。
对于上述区别技术特征，在得到所述光配向膜杂质去除装置的基础上，根据配向膜杂质去除需求，设置该装置的工作过程，对本领域技术人员来说是显而易见的，首先对密封腔体进行换气预定时间之后，充分净化密封腔体，再利用气体抽出设备使所述密封腔体内部的压强达到预设压强，保证密封腔体为真空或接近真空条件，最后利用加热设备对光配向膜加热至预设温度从而完成配向膜杂质的去除，设定上述工作过程均是本领域的常规技术手段，其效果也是可以预期的，并不能给本申请带来突出的实质性特点和显著的进步。
从而，在对比文件1的基础上结合本领域的常规技术手段得到权利要求3所要求保护的这一技术方案，对于本领域技术人员来说是显而易见的。因此，权利要求3所要求保护的技术方案相对于对比文件1和本领域技的常规技术手段的结合不具有突出的实质性特点和显著进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
4、关于权利要求4
权利要求4是权利要求3的从属权利要求，其附加技术特征与权利要求2的附加技术特征相对应。参照权利要求2的评述，基于相同的理由，在其引用的权利要求3不具备创造性的情况下，从属权利要求4同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
综上所述，本申请权利要求1-4均不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年11月05日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定,请求人自收到本决定之日起三个月内向北京市知识产权法院起诉。
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