发明创造名称：发光显示装置及其制造方法
外观设计名称：
决定号：184955
决定日：2019-07-24
委内编号：1F263865
优先权日：2012-12-21
申请（专利）号：201310418200.4
申请日：2013-09-13
复审请求人：三星显示有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：罗慧晶
合议组组长：武建刚
参审员：刘天飞
国际分类号：H01L27/32；H01L51/52；H01L51/56
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求请求保护的技术方案与作为最接近现有技术的对比文件相比，存在区别技术特征，但所述区别技术特征属于本领域的公知常识，则该项权利要求不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201310418200.4，名称为“发光显示装置及其制造方法”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为三星显示有限公司，申请日为2013年09月13日，优先权日为2012年12月21日，公开日为2014年06月25日。
经实质审查，国家知识产权局实质审查部门于2018年07月10日发出驳回决定，以权利要求1-19不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由驳回了本申请。驳回决定所依据的文本为：申请人于2018年03月27日提交的权利要求第1-19项，于申请日2013年09月13日提交的说明书第1-16页、说明书附图第1-12页、说明书摘要及摘要附图。
驳回决定所针对的权利要求书内容如下：
“1. 一种发光显示装置，包括：
基板；
第一电极，布置在所述基板上；
第一绝缘薄膜，布置在所述基板上且包括暴露所述第一电极的一部分的第一开口；
第二绝缘薄膜，布置在所述第一绝缘薄膜上且包括暴露所述第一开口的第二开口；
发光层，包括发光材料，所述发光层布置在所述第一电极被所述第一开口暴露的部分上，其中，所述发光层全部形成在所述第一绝缘薄膜的所述第一开口内部；及
第二电极，布置在所述发光层上，其中所述第一电极相对于所述发光材料的润湿和所述第一绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿之间的差异低于所述第一电极相对于所述发光材料的润湿和所述第二绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿之间的差异。
2. 根据权利要求1所述的发光显示装置，其中所述第一绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿与所述第一电极相对于所述发光材料的润湿相同。
3. 根据权利要求1所述的发光显示装置，其中所述第一电极和所述第一绝缘薄膜相对于所述发光材料的接触角等于或低于10°，且所述第二绝缘薄膜相对于所述发光材料的接触角等于或高于50°。
4. 根据权利要求1所述的发光显示装置，其中所述第一电极包括ITO，且所述第一绝缘薄膜包括选自由二氧化硅、氮化硅和氮氧化硅组成的组中的材料。
5. 根据权利要求1所述的发光显示装置，其中所述第一绝缘薄膜包括选自由二氧化硅、氮化硅和氮氧化硅组成的组中的材料，且所述第二绝缘薄膜包括选自由双对氯甲基苯、聚酰亚胺、聚酰胺、丙烯酸树脂和酚醛树脂组成的组中的材料。
6. 根据权利要求1所述的发光显示装置，其中所述发光层包括选自由包含Se的无机材料、包含Zn的无机材料、低分子有机材料和高分子有机材料组成的组中的材料。
7. 根据权利要求1所述的发光显示装置，其中所述第二绝缘薄膜包括感光材料。
8. 根据权利要求1所述的发光显示装置，其中所述基板包括多个像素，且所述第一绝缘薄膜是限定多个像素中每个像素的像素限定膜。
9. 根据权利要求8所述的发光显示装置，其中多个像素包括红色像素区域、绿色像素区域和蓝色像素区域，所述发光层包括：
红色有机发光层，布置在所述红色像素区域内；
绿色有机发光层，布置在所述绿色像素区域内；及
蓝色有机发光层，布置在所述蓝色像素区域内。
10. 根据权利要求8所述的发光显示装置，其中所述发光层包括白色有机层。
11. 根据权利要求10所述的发光显示装置，其中所述白色有机层包括红色有机层、绿色有机层和蓝色有机层。
12. 根据权利要求10所述的发光显示装置，其中所述白色有机层包括黄色有机层和蓝色有机层。
13. 一种制造发光显示装置的方法，包括：
在基板上形成第一电极；
在所述基板上形成第一绝缘薄膜和第二绝缘薄膜，所述第一绝缘薄膜具有暴露所述第一电极的一部分的第一开口且所述第二绝缘薄膜具有对应于所述第一开口的第二开口；
在所述第一电极的暴露部分形成发光层，所述发光层包括发光材料且全部形成在所述第一绝缘薄膜的所述第一开口内部；及
在所述发光层上形成第二电极，其中所述第一电极相对于所述发光材料的润湿和所述第一绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿差异低于所述第一电极相对于所述发光材料的润湿和所述第二绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿之间的差异。
14. 根据权利要求13所述的方法，其中形成所述第一绝缘薄膜和所述第二绝缘薄膜包括：
在所述基板的整个表面上沉积第一绝缘材料以覆盖所述第一电极；
在所述第一绝缘材料的整个表面上沉积第二绝缘材料；
在所述第二绝缘材料的上部分上布置掩膜，所述掩膜具有对应所述第一电极的一部分的开口；
用光曝光第二绝缘材料；
通过使用显影剂显影所述第二绝缘材料形成具有所述第二开口的所述第二绝缘薄膜；及
通过使用所述第二绝缘薄膜作为蚀刻掩膜蚀刻所述第一绝缘材料形成具有所述第一开口的所述第一绝缘薄膜。
15. 根据权利要求13所述的方法，其中形成所述第一绝缘薄膜和所述第二绝缘薄膜包括：
在所述基板的整个表面上沉积第一绝缘材料以覆盖所述第一电极；
在所述第一绝缘材料的整个表面上沉积光刻胶膜；
在所述光刻胶膜的上部分上布置第一掩膜，所述第一掩膜具有对应于第一电极的一部分的第一开口；
通过使用光曝光光刻胶膜；
通过使用显影剂显影所述光刻胶膜形成光刻胶图案；
通过使用所述光刻胶图案作为蚀刻掩膜蚀刻所述第一绝缘材料形成具有所述第一开口的所述第一绝缘薄膜；
移除所述光刻胶图案；
沉积第二绝缘材料，所述第二绝缘材料包括在所述第一绝缘薄膜上和在通过所述第一绝缘材料的蚀刻暴露的所述第一电极的部分上的感光材料；
在所述第二绝缘材料的上部分上布置第二掩膜，所述第二掩膜具有对应于所述第一开口的第二开口；
用光曝光第二绝缘材料；及
通过使用显影剂显影所述第二绝缘材料形成具有所述第二开口的所述第二绝缘薄膜。
16. 根据权利要求13所述的方法，其中形成所述发光层包括借由喷墨印刷技术在所述第一电极的暴露部分上印刷所述发光材料。
17. 根据权利要求13所述的方法，其中形成所述第一电极包括在所述基板上的每个红色像素区域、绿色像素区域和蓝色像素区域内布置所述第一电极。
18. 根据权利要求17所述的方法，其中形成所述发光层包括：
在所述红色像素区域内形成红色有机发光层；
在所述绿色像素区域内形成绿色有机发光层；及
在所述蓝色像素区域内形成蓝色有机发光层。
19. 根据权利要求17所述的方法，其中形成所述发光层包括在每个红色像素区域、绿色像素区域和蓝色像素区域内形成白色有机发光层。”
驳回决定中引用了如下对比文件：
对比文件1：CN1832641A，公开日为2006年09月13日；
对比文件2：US2009015145A1，公开日为2009年01月15日。
驳回决定中指出：权利要求1-19相对于对比文件1和本领域的公知常识的结合或者对比文件1、对比文件2和本领域的公知常识的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年10月25日向国家知识产权局提出了复审请求，提交了权利要求书的全文修改替换页。所作的修改是：将独立权利要求1、13中的技术特征“第二电极，布置在所述发光层上”修改为“第二电极，布置在所述发光层、所述第一开口的所述第一绝缘薄膜和所述第二开口的所述第二绝缘薄膜上”。复审请求人认为：权利要求1的第二电极被布置在发光层、第一开口的第一绝缘薄膜和第二开口的第二绝缘膜上，而对比文件1中阴极31仅布置在有机EL层中的发光层27以及收容孔23的隔壁层22上，而未布置在贯通孔21的第三层间绝缘膜IL3上，可见对比文件1没有公开修改后的权利要求1，也没有证据表明上述技术特征是本领域的公知常识。因此，相关权利要求的技术方案具备创造性。
复审请求时新修改的权利要求书1、13内容如下：
“1. 一种发光显示装置，包括：
基板；
第一电极，布置在所述基板上；
第一绝缘薄膜，布置在所述基板上且包括暴露所述第一电极的一部分的第一开口；
第二绝缘薄膜，布置在所述第一绝缘薄膜上且包括暴露所述第一开口的第二开口；
发光层，包括发光材料，所述发光层布置在所述第一电极被所述第一开口暴露的部分上，其中，所述发光层全部形成在所述第一绝缘薄膜的所述第一开口内部；及
第二电极，布置在所述发光层、所述第一开口的所述第一绝缘薄膜和所述第二开口的所述第二绝缘薄膜上，
其中所述第一电极相对于所述发光材料的润湿和所述第一绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿之间的差异低于所述第一电极相对于所述发光材料的润湿和所述第二绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿之间的差异。”
“13. 一种制造发光显示装置的方法，包括：
在基板上形成第一电极；
在所述基板上形成第一绝缘薄膜和第二绝缘薄膜，所述第一绝缘薄膜具有暴露所述第一电极的一部分的第一开口且所述第二绝缘薄膜具有对应于所述第一开口的第二开口；
在所述第一电极的暴露部分形成发光层，所述发光层包括发光材料且全部形成在所述第一绝缘薄膜的所述第一开口内部；及
在所述发光层、所述第一开口的所述第一绝缘薄膜和所述第二开口的所述第二绝缘薄膜上形成第二电极，
其中所述第一电极相对于所述发光材料的润湿和所述第一绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿差异低于所述第一电极相对于所述发光材料的润湿和所述第二绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿之间的差异。”
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年10月31日依法受理了该复审请求，并将其转送至实质审查部门进行前置审查。
实质审查部门在前置审查意见书中认为：虽然对比文件1并没有对于发光层厚度的具体限定，但是根据具体应用场景的需要，如综合考虑电子空穴的辐射复合效率、谐振腔长度、各层的导电性等诸多对发光层厚度的要求，本领域技术人员可以将发光层的厚度设计为较薄，此时，该发光层与所述第二绝缘薄膜不接触，而覆盖在该发光层上的第二电极则布置在发光层、第一开口的第一绝缘薄膜和第二开口的第二绝缘薄膜上。因而坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019 年03 月15 日向复审请求人发出复审通知书，指出：（1）权利要求1-19相对于对比文件1和本领域的公知常识的结合或者对比文件1、对比文件2和本领域的公知常识的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）关于复审请求人的意见陈述，合议组认为：对比文件1公开了本申请的发明构思，即具有两层绝缘层，一层具有很好的浸润性，一层具有疏水性，存在的区别仅在于发光层是整个厚度形成在第一绝缘层内，还是同时形成在第一绝缘层和第二绝缘层中，而对于上述区别是需要根据具体应用场景的需要进行综合考虑的，如电子空穴的辐射复合效率、谐振腔长度、各层的导电性等，本领域技术人员可以根据实际需要将发光层的厚度设计为较薄，此时，该发光层与所述第二绝缘薄膜不接触，而覆盖在该发光层上的第二电极则布置在发光层、第一开口的第一绝缘薄膜和第二开口的第二绝缘薄膜上。
复审请求人于2019 年04 月30 日提交了意见陈述书，和权利要求书的全文修改替换页。所作的修改是：将权利要求1中的技术特征“所述发光层全部形成在所述第一绝缘薄膜的所述第一开口内部”修改为“所述发光层包括空穴注入层、有机层和电子注入层，并且全部形成在所述第一绝缘薄膜的所述第一开口内部”，将权利要求13中的技术特征“在所述第一电极的暴露部分形成发光层，所述发光层包括发光材料且全部形成在所述第一绝缘薄膜的所述第一开口内部”修改为“在所述第一电极的暴露部分形成包括发光材料的发光层，所述发光层包括空穴注入层、有几层和电子注入层，且全部形成在所述第一绝缘薄膜的所述第一开口内部”。复审请求人认为：本申请权利要求1包括多层的有机发光层全部形成在第一绝缘薄膜的第一开口内部，而对比文件1包括空穴输送层25和发光层27这两部分的有机EL层30没有全部形成在第一绝缘薄膜的开口内部，还由于第二绝缘薄膜是疏水性的，对比文件1的方案中还包括在空穴输送层25中增加亲液性微粒子26，基于对比文件1的方案，本领域技术人员不容易想到包括空穴注入层、有机层和电子注入层的有机层是可以全部形成在第一绝缘薄膜的开口内部的。而且没有证据表明相关特征是本领域的公知常识。
答复复审通知书时，新修改的权利要求书1、13内容如下：
“1. 一种发光显示装置，包括：
基板；
第一电极，布置在所述基板上；
第一绝缘薄膜，布置在所述基板上且包括暴露所述第一电极的一部分的第一开口；
第二绝缘薄膜，布置在所述第一绝缘薄膜上且包括暴露所述第一开口的第二开口；
发光层，包括发光材料，所述发光层布置在所述第一电极被所述第一开口暴露的部分上，其中，所述发光层包括空穴注入层、有机层和电子注入层，并且全部形成在所述第一绝缘薄膜的所述第一开口内部；及
第二电极，布置在所述发光层、所述第一开口的所述第一绝缘薄膜和所述第二开口的所述第二绝缘薄膜上，
其中所述第一电极相对于所述发光材料的润湿和所述第一绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿之间的差异低于所述第一电极相对于所述发光材料的润湿和所述第二绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿之间的差异。”
“13. 一种制造发光显示装置的方法，包括：
在基板上形成第一电极；
在所述基板上形成第一绝缘薄膜和第二绝缘薄膜，所述第一绝缘薄膜具有暴露所述第一电极的一部分的第一开口且所述第二绝缘薄膜具有对应于所述第一开口的第二开口；
在所述第一电极的暴露部分形成包括发光材料的发光层，所述发光层包括空穴注入层、有机层和电子注入层，且全部形成在所述第一绝缘薄膜的所述第一开口内部；及
在所述发光层、所述第一开口的所述第一绝缘薄膜和所述第二开口的所述第二绝缘薄膜上形成第二电极，
其中所述第一电极相对于所述发光材料的润湿和所述第一绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿差异低于所述第一电极相对于所述发光材料的润湿和所述第二绝缘薄膜相对于所述发光材料的润湿之间的差异。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以依法作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人在答复复审通知书时，提交了权利要求书的全文修改替换页（包括权利要求第1-19项）。经审查，上述修改符合专利法第33条以及专利法实施细则第61条第1款的规定。本复审请求审查决定所依据的文本为：复审请求人于2019年04月30日提交的权利要求第1-19项；于申请日2013年09月13日提交的说明书第1-16页，说明书附图第1-12页，说明书摘要及摘要附图。
2、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案与作为最接近现有技术的对比文件相比，存在区别技术特征，但所述区别技术特征属于本领域的公知常识，则该项权利要求不具备创造性。
本复审请求审查决定引用复审通知书以及驳回决定中引用的如下对比文件：
对比文件1：CN1832641A，公开日为2006年09月13日；
对比文件2：US2009015145A1，公开日为2009年01月15日。
2.1、权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求1要求保护一种发光显示装置。对比文件1公开了一种EL显示器的光电装置（参见说明书第6页第21行至第17页第29行，附图1、5-11），包括：
透明基板11；阳极20（即第一电极），布置在透明基板11上；第3层间绝缘膜IL3（即第一绝缘薄膜），布置在透明基板11上且包括暴露阳极20的一部分的贯通孔21（即第一开口）；隔壁层22（即第二绝缘薄膜），布置在第3层间绝缘膜IL3上且包括暴露贯通孔21的收容孔23（即第二开口）；有机EL层30（即发光层），包括发光层形成材料27s（即发光材料），所述有机EL层30布置在阳极20被贯通孔21暴露的部分上，且还与第3层间绝缘膜IL3接触（说明书第9页第30行至第10页第25行，附图5）；阴极31（即第二电极），布置在有机EL层30上和收容孔23的隔壁层22上（说明书第10页第26-29行，附图5）；其中阳极20和第3层间绝缘膜IL3是亲液性的，而隔壁层22是疏液性的（说明书第12页第29行至第13页第3行）。因此，阳极20和第3层间绝缘膜IL3相对于有机EL层30都是高润湿性的，而隔壁层22相对于有机EL层30是低润湿性的，即阳极20相对于有机EL层30的润湿和第3层间绝缘膜IL3相对于有机EL层30的润湿之间的差异低于阳极20相对于有机EL层30的润湿和隔壁层22相对于有机EL层30之间的差异，也即阳极20相对于发光材料的润湿和第3层间绝缘膜IL3相对于发光材料的润湿之间的差异一定低于阳极20相对于发光材料的润湿和隔壁层22相对于发光材料之间的差异。
可见，该权利要求与对比文件1相比，区别技术特征为：发光层包括空穴注入层、有机层和电子注入层，并且全部形成在所述第一绝缘薄膜的所述第一开口内部，第二电极还同时布置在第一开口的第一绝缘薄膜上。
基于上述区别技术特征可以确定，该权利要求实际解决的技术问题是：如何确定发光层的厚度。
对于上述区别技术特征，本领域中，使得发光层具体包括空穴注入层、有机层和电子注入层是本领域常用的技术手段；在此基础上，对于发光层的设计，需要在综合考虑电子空穴的辐射复合效率、谐振腔长度、各层的导电性等诸多因素之后，确定各种具体应用场景下发光层的厚度，将发光层设计为较薄或者较厚这都是本领域的公知常识，本领域技术人员可以根据实际需要具体进行选择，无论将发光层仅限制在第一绝缘层之内即发光材料全部形成在第一绝缘薄膜的第一开口内部且第二电极布置在发光层、第一开口的第一绝缘薄膜和第二开口的第二绝缘薄膜上，或者形成在超出第一绝缘层的高度范围均属于本领域的常规选择，并没有产生任何预料不到的技术效果，因此，在对比文件1的基础上结合本领域的公知常识得到该权利要求所要求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，该权利要求不具有突出的实质性特点，不具备创造性。
2.2、权利要求2-12不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
从属权利要求2对权利要求1做了进一步的限定。然而，对比文件1已经公开了（参见说明书第12页第29行至第13页第3行）：阳极20和第3层间绝缘膜IL3是亲液性的，而隔壁层22是疏液性的，即阳极20和第3层间绝缘膜IL3相对于有机EL层30都是高润湿性的。此外，在对比文件1公开的阳极20和第3层间绝缘膜IL3相对于有机EL层30都是高润湿性的前提下，进一步使得的阳极20和第3层间绝缘膜IL3相对于有机EL层30具有相同的润湿性，能够进一步使得发光层分布均匀，这是本领域公知常识。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求3对权利要求1做了进一步的限定。然而，对比文件1已经公开了（参见说明书第12页第29行至第13页第3行）：阳极20和第3层间绝缘膜IL3是亲液性的，而隔壁层22是疏液性的，即阳极20和第3层间绝缘膜IL3相对于有机EL层30的接触角较小，而隔壁层22相对于有机EL层30的接触角大于90°。此外，阳极20和第3层间绝缘膜IL3相对于有机EL层30的接触角越小，则润湿程度越高，发光层则更容易均匀地铺展开来，这是本领域公知常识。可见，本领域技术人员有动机进一步使得阳极20和第3层间绝缘膜IL3相对于有机EL层30的接触角等于或低于10°，从而使得发光层分布更加均匀，这是本领域公知常识。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求4对权利要求1做了进一步的限定。然而，对比文件1已经公开了（参见说明书第9页第14-21行，附图5）：阳极20是ITO等具有透光性的透明导电膜，第3层间绝缘膜IL3是可以是氧化硅膜等。此外，二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅材料与氧化硅材料类似，都是本领域常用的绝缘膜材料，属于本领域公知常识。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求5对权利要求1做了进一步的限定。然而，对比文件1已经公开了（参见说明书第9页第18-29行，附图5）：第3层间绝缘膜IL3是氧化硅膜等材料，隔壁层22由聚酰亚胺等树脂形成。此外，二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅材料与氧化硅材料类似，都是本领域常用的无机绝缘膜材料，属于本领域公知常识；双对氯甲基苯、聚酰胺、丙烯酸树脂和酚醛树脂与对比文件1中的聚酰亚胺等树脂材料类似，都是本领域常用的有机绝缘树脂材料，属于本领域公知常识。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求6对权利要求1做了进一步的限定。然而，对比文件1已经公开了（参见说明书第9页第30行至第10页第23行，附图5）：有机EL层30可以包括低分子有机材料和高分子有机材料。此外，包含Se的无机材料和包含Zn的无机材料都是本领域常见的电致发光层材料，属于本领域公知常识。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求7对权利要求1做了进一步的限定。然而，对比文件1已经公开了（参见说明书第9页第22-29行，附图5）：隔壁层22由感光性聚酰亚胺等树脂形成。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求8对权利要求1做了进一步的限定。然而，对比文件1已经公开了（参见说明书第7页第15-19行、第9页第18-21行，附图1、5）：透明基板11包括多个像素13，且第3层间绝缘膜IL3是限定多个像素13中每个像素的像素限定膜。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求9对权利要求8做了进一步的限定。然而，对比文件1已经公开了（参见说明书第7页第15-19行、第10页第15-23行，附图1、5）：其中多个像素13包括红色像素、绿色像素和蓝色像素，所述发光层包括：红色有机发光层，布置在所述红色像素内；绿色有机发光层，布置在所述绿色像素内；蓝色有机发光层，布置在所述蓝色像素内。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求10对权利要求8做了进一步的限定。该权利要求与对比文件1相比，区别技术特征为：发光层包括白色有机层。基于上述区别技术特征可以确定，该权利要求实际解决的技术问题是：提供了一种像素结构。然而，对比文件2公开了一种OLED显示装置（参见说明书第[0123]-[0126]段，附图8B），包括多个子像素，每个子像素包括发光层270W，该发光层270W为白色有机层。可见该区别技术特征已经被对比文件2公开，且其在对比文件2中所起的作用与其在本申请中所起的作用相同，都提供了一种包括白色有机层的像素结构，本领域技术人员有动机将此白色有机层作为发光层应用到对比文件1的技术方案中。由此可知，当其所引用的权利要求不具备创造性时，在对比文件1的基础上结合对比文件2和本领域公知常识以得出该权利要求所要求保护的技术方案对所属领域技术人员来说是显而易见的，该权利要求不具有突出的实质性特点，不具备创造性。
从属权利要求11对权利要求10做了进一步的限定。然而，层压的红色有机层、绿色有机层和蓝色有机层作为有机发光层时，可以同时发出红绿蓝三色光，它们会混合形成白光发射出来，即该层压的红色有机层、绿色有机层和蓝色有机层可以共同形成一个白色有机层，这是本领域的公知常识。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求12对权利要求10做了进一步的限定。然而，层压的黄色有机层和蓝色有机层作为有机发光层时，可以同时发出黄蓝二色光，它们会混合形成白光发射出来，即该层压的黄色有机层和蓝色有机层可以共同形成一个白色有机层，这是本领域的公知常识。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
2.3、权利要求13不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求13要求保护一种制造发光显示装置的方法。对比文件1公开了一种EL显示器的光电装置的制造方法（参见说明书第11页第13行至第17页第29行，附图1、5-11），包括：
在透明基板11上形成阳极20（即形成第一电极）；
在透明基板11形成第3层间绝缘膜IL3和隔壁层22（即形成第一绝缘薄膜和第二绝缘薄膜），所述第3层间绝缘膜IL3具有暴露阳极20的一部分的贯通孔21（即第一开口）且所述隔壁层22具有对应于所述贯通孔21的收容孔23（即第二开口）（参见说明书第12页第17-23行，附图6-8）；
在阳极20的暴露部分形成有机EL层30（即形成发光层），所述发光层包括发光层形成材料27s（即发光材料）（参见说明书第12页第17-23行至第15页第8行，附图6、9-11）；
在所述有机EL层30和收容孔23上的隔壁层22上形成阴极31（即形成第二电极）（参见说明书第15页第9-15行，附图5、6）；
其中阳极20和第3层间绝缘膜IL3是亲液性的，而隔壁层22是疏液性的（参见说明书第12页第29行至第13页第3行）。因此，因此，阳极20和第3层间绝缘膜IL3相对于有机EL层30都是高润湿性的，而隔壁层22相对于有机EL层30是低润湿性的，即阳极20相对于有机EL层30的润湿和第3层间绝缘膜IL3相对于有机EL层30的润湿之间的差异低于阳极20相对于有机EL层30的润湿和隔壁层22相对于有机EL层30之间的差异，也即阳极20相对于发光材料的润湿和第3层间绝缘膜IL3相对于发光材料的润湿之间的差异一定低于阳极20相对于发光材料的润湿和隔壁层22相对于发光材料之间的差异。
可见，该权利要求与对比文件1相比，区别技术特征为：在第一电极的暴露部分所形成的发光层包括发光材料，发光层具体包括空穴注入层、有机层和电子注入层，且全部形成在所述第一绝缘薄膜的所述第一开口内部，第二电极还同时布置在第一开口的第一绝缘薄膜上。
基于上述区别技术特征可以确定，该权利要求实际解决的技术问题是：如何确定发光层的厚度。
对于上述区别技术特征，本领域中，使得发光层具体包括空穴注入层、有机层和电子注入层是本领域常用的技术手段，并且使得与第一电极相接触的发光层具体包括发光材料也是本领域技术人员可以根据实际情况容易作出的选择；在此基础上，对于发光层的设计，需要在综合考虑电子空穴的辐射复合效率、谐振腔长度、各层的导电性等诸多因素之后，确定各种具体应用场景下发光层的厚度，将发光层设计为较薄或者较厚这都是本领域的公知常识，本领域技术人员可以根据实际需要具体进行选择，无论将发光层仅限制在第一绝缘层之内即发光材料全部形成在第一绝缘薄膜的第一开口内部且第二电极布置在发光层、第一开口的第一绝缘薄膜和第二开口的第二绝缘薄膜上，或者形成在超出第一绝缘层的高度范围均属于本领域的常规选择，并没有产生任何预料不到的技术效果，因此，在对比文件1的基础上结合本领域的公知常识得到该权利要求所要求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，该权利要求不具有突出的实质性特点，不具备创造性。
2.4、权利要求14-19不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
从属权利要求14对权利要求13做了进一步的限定。对比文件1公开了（参见说明书第112页第14-23行，附图7-8）形成所述第3层间绝缘膜IL3和隔壁层22的过程包括：在透明基板11的整个表面上沉积氧化硅膜（即第3层间绝缘膜IL3的材料）以覆盖阳极20；在第3层间绝缘膜IL3的整个表面上沉积感光性树脂（即隔壁层22的材料）；在所述感光性树脂的上部分上布置掩膜Mk，所述掩膜Mk具有对应阳极20的一部分的开口；用光Lpr曝光感光性树脂；通过使用显影剂显影所述感光性树脂形成具有收容孔23的隔壁层22；通过使用所述隔壁层22作为掩模加工所述氧化硅膜形成具有贯通孔21的第3层间绝缘膜IL3。此外，通过掩模进行蚀刻以加工无机薄膜是本领域的常用技术手段，属于本领域公知常识。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求15对权利要求13做了进一步的限定。对比文件1公开了（参见说明书第12页第17-23行，附图6-8）：在透明基板11形成第3层间绝缘膜IL3和由感光材料形成的隔壁层22，所述第3层间绝缘膜IL3具有暴露阳极20的一部分的贯通孔21且所述隔壁层22具有对应于所述贯通孔21的收容孔23。此外，在整个表面上沉积相应的薄膜材料、沉积光刻胶膜、布置有相应开口的掩膜、使用光曝光光刻胶膜、使用显影剂显影光刻胶膜形成光刻胶图案、使用所述光刻胶图案作为蚀刻掩膜蚀刻所述薄膜材料以形成相应的薄膜图形、移除所述光刻胶图案，这是本领域常用的形成图案化的单层薄膜的方法，是本领域公知常识。在对比文件1中公开的所需要形成的结构的基础上，本领域技术人员有动机两次应用这种方法，逐层形成具有贯通孔21的第3层间绝缘膜IL3和具有收容孔23的隔壁层22。而考虑到对比文件1中的隔壁层22是由感光材料构成的，本领域技术人员很容易想到上述过程中形成图案化光刻胶的过程可以直接作为形成图案化的隔壁层22的过程，从而将形成具有收容孔23的隔壁层22的过程简化为在整个表面上沉积相应的感光材料层、布置相应的掩模、用光曝光、用显影剂显影。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求16对权利要求13做了进一步的限定。对比文件1公开了（参见说明书第13页第4行至第15页第8行、第17页第15行，附图9）：通过喷墨印刷技术在阳极20的暴露部分上印刷发光层形成材料27s，以形成有机EL层30。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求17对权利要求13做了进一步的限定。对比文件1公开了（参见说明书第7页第15-22行、第9页第10-13行，附图1、5）：透明基板11包括多个像素13，而该多个像素13包括红色像素、绿色像素和蓝色像素，其中每个像素中都布置了阳极20。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求18对权利要求17做了进一步的限定。对比文件1公开了（参见说明书第7页第15-19行、第10页第15-23行，附图1、5）：形成所述发光层的过程中，在在红色像素内形成红色有机发光层，在绿色像素内形成绿色有机发光层，在蓝色像素内形成蓝色有机发光层。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，该权利要求也不具备创造性。
从属权利要求19对权利要求17做了进一步的限定。该权利要求与对比文件1相比，区别技术特征为：在每个红色像素区域、绿色像素区域和蓝色像素区域内形成白色有机发光层。基于上述区别技术特征可以确定，该权利要求实际解决的技术问题是：提供了一种像素结构。
对比文件2公开了一种OLED显示装置（参见说明书第[0123]-[0126]段，附图8B），包括多个红、绿、蓝、白子像素，每个子像素中都包括发光层270W，该发光层270W为白色有机发光层。可见该区别技术特征已经被对比文件2公开，且其在对比文件2中所起的作用与其在本申请中所起的作用相同，都提供了同一种的像素结构，本领域技术人员有动机将此白色有机层作为发光层应用到对比文件1的技术方案中的形成发光层的过程中。
综上，当其所引用的权利要求不具备创造性时，在对比文件1的基础上结合对比文件2和本领域公知常识以得出该权利要求所要求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，该权利要求不具有突出的实质性特点，不具备创造性。
3、对复审请求人相关意见的答复：
针对复审请求人答复复审通知书时提出的意见，合议组认为：
第一，对比文件1公开了本申请的发明构思，即具有两层绝缘层，一层具有很好的浸润性，一层具有疏水性，区别仅在于发光层是整个厚度形成在第一绝缘层内，还是同时形成在第一绝缘层和第二绝缘层中，对于上述区别是需要根据具体应用场景的需要进行综合考虑的，如电子空穴的辐射复合效率、谐振腔长度、各层的导电性等，本领域技术人员可以根据实际需要将发光层的厚度设计为较薄，此时，该发光层的全部，包括空穴注入层、有机层和电子注入层等均可以形成在第一绝缘薄膜内，且与所述第二绝缘薄膜不接触，此时覆盖在该发光层上的第二电极则自然布置在发光层、第一开口的第一绝缘薄膜和第二开口的第二绝缘薄膜上，这属于本领域技术人员容易做出的技术选择。
第二，对比文件1中公开了在空穴输送层25中增加亲液性微粒子26，其主要作用是在空穴输送层25的整个上面润湿扩展上层液滴27D，其能够使发光层27的形状均匀（参见对比文件1第15页第18行至第23行），上述技术构思，与本申请的相关构思是一致的（参见本申请第[0009]段），因而对比文件1中的上述技术特征并不不会带来整个发光层无法完全形成在第一绝缘薄膜的开口内部的相反技术启示。
综上，复审请求人的意见陈述不具有说服力，合议组不予支持。
基于上述事实和理由，合议组依法作出如下决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018 年07 月10 日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本复审请求审查决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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