发明创造名称：取向层的摩擦取向方法
外观设计名称：
决定号：183294
决定日：2019-07-09
委内编号：1F264224
优先权日：
申请（专利）号：201510160160.7
申请日：2015-04-07
复审请求人：武汉华星光电技术有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：崔双魁
合议组组长：彭燕
参审员：朱艳艳
国际分类号：G02F1/1337
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求与一篇对比文件相比存在某些区别技术特征，而该些区别技术特征中的一部分被另一篇对比文件所公开，其余部分属于本领域常用技术手段，且本领域技术人员将两篇对比文件和本领域常用技术手段相结合以获得该权利要求的技术方案是显而易见的，则该权利要求不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201510160160.7，名称为“取向层的摩擦取向方法”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为武汉华星光电技术有限公司。本申请的申请日为2015年04月07日，公开日为2015年07月01日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年08月03日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-8不符合专利第22条第3款有关创造性的规定。驳回决定所依据的文本为申请日2015年04月07日提交的说明书摘要、说明书第1-47段、摘要附图、说明书附图图1-6以及2018年06月25日提交的权利要求第1-8项。在驳回决定中引用了如下两篇对比文件：
对比文件1：CN102452037A 公开日期为2012年05月16日；
对比文件2：US5172255A 公开日期为1992年12月15日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种取向层的摩擦取向方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供基板(10)，在所述基板(10)上涂覆取向层(4)；
步骤2、提供摩擦滚轮(5)，使用所述摩擦滚轮(5)按照第一摩擦方向对所述取向层(4)进行第一次摩擦取向；
步骤3、使用所述摩擦滚轮(5)按照第二摩擦方向对所述取向层(4)进行第二次摩擦取向，所述第二摩擦方向与所述第一摩擦方向相反；
所述基板(10)为CF基板，该CF基板具有多个呈阵列式排布的像素，每一像素包括红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)四个子像素；对应所述红(R)、绿(G)、蓝(B)子像素设有相同厚度的色阻，对应所述空白(W)子像素为空白区域，一黑色矩阵(3)将所述红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)子像素间隔开；
所述取向层(4)涂覆于所述红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)子像素及黑色矩阵(3)上，且所述取向层(4)在所述空白(W)子像素上方形成凹陷区域(41)；
所述步骤3能够消除步骤2产生的摩擦阴影(42)。
2. 如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，所述步骤2、与步骤3可重复进行多次。
3. 如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，在所述步骤2与步骤3中，所述摩擦滚轮(5)的中心处于同一水平面。
4. 如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，所述摩擦滚轮(5)包括滚轮本体(51)、及固定于所述滚轮本体(51)外周面的摩擦布(53)，通过所述滚轮本体(51)带动所述摩擦布(53)对所述取向层(4)进行摩擦取向。
5. 如权利要求4所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，所述摩擦布(53)的材料为纤维。
6. 如权利要求4所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，所述摩擦布(53)的材料为尼龙。
7. 如权利要求4所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，所述摩擦布(53)的材料为棉绒。
8. 如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，所述取向层(4)的材料为聚酰亚胺。”
驳回决定认为，独立权利要求1与对比文件1的区别在于：（1）权利要求1是在基板上涂覆取向层，对比文件1是在基板上沉积取向层；（2）权利要求1中执行第一次摩擦取向和第二次摩擦取向是使用同一个摩擦滚轮，而对比文件1中则是分别使用第一研磨辊和第二研磨辊进行第一和第二次摩擦取向；（3）CF基板上每个像素包括RGBW四个子像素，红(R)、绿(G)、蓝(B)子像素设有相同厚度的色阻，对应所述空白(W)子像素为空白区域，一黑色矩阵将所述红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)子像素间隔开，取向层涂覆于所述红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)子像素及黑色矩阵上，且取向层在所述空白(W)子像素上方形成凹陷区域。其中，区别技术特征（1）是本领域的常规技术手段；区别技术特征（2）被对比文件2公开；区别技术特征（3）是本领域的常规设置。因此，独立权利要求1不具备创造性。从属权利要求2-8的附加技术特征被对比文件1或2公开。因此，从属权利要求2-8不具备创造性。
申请人武汉华星光电技术有限公司（下称复审请求人）对上述驳回决定不服,于2018年10月30日向国家知识产权局提出了复审请求，提交了权利要求书的全文修改替换页，其中，将从属权利要求3的附加技术特征加入到权利要求1中，删除权利要求3，并对其他权利要求的编号和引用关系进行了相应调整。新修改后的权利要求共7项。
复审请求时新修改的权利要求书如下：
“1. 一种取向层的摩擦取向方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供基板(10)，在所述基板(10)上涂覆取向层(4)；
步骤2、提供摩擦滚轮(5)，使用所述摩擦滚轮(5)按照第一摩擦方向对所述取向层(4)进行第一次摩擦取向；
步骤3、使用所述摩擦滚轮(5)按照第二摩擦方向对所述取向层(4)进行第二次摩擦取向，所述第二摩擦方向与所述第一摩擦方向相反；
所述基板(10)为CF基板，该CF基板具有多个呈阵列式排布的像素，每一像素包括红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)四个子像素；对应所述红(R)、绿(G)、蓝(B)子像素设有相同厚度的色阻，对应所述空白(W)子像素为空白区域，一黑色矩阵(3)将所述红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)子像素间隔开；
所述取向层(4)涂覆于所述红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)子像素及黑色矩阵(3)上，且所述取向层(4)在所述空白(W)子像素上方形成凹陷区域(41)；
所述步骤3能够消除步骤2产生的摩擦阴影(42)；
在所述步骤2与步骤3中，所述摩擦滚轮(5)的中心处于同一水平面。
2. 如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，所述步骤2、与步骤3可重复进行多次。
3. 如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，所述摩擦滚轮(5)包括滚轮本体(51)、及固定于所述滚轮本体(51)外周面的摩擦布(53)，通过所述滚轮本体(51)带动所述摩擦布(53)对所述取向层(4)进行摩擦取向。
4. 如权利要求3所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，所述摩擦布(53)的材料为纤维。
5. 如权利要求3所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，所述摩擦布(53)的材料为尼龙。
6. 如权利要求3所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，所述摩擦布(53)的材料为棉绒。
7. 如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法，其特征在于，所述取向层(4)的材料为聚酰亚胺。”
复审请求人认为：（1）对比文件1中同时设置两个独立的第一研磨辊130a以及第二研磨辊130b，在预倾角的形成方向相反的方向（反向）上旋转第一研磨辊130a对滤色器基板上的配向层进行初级研磨工序，而后在正向上旋转第二研磨辊130b对滤色器基板上的配向层进行次级研磨工序，以对高台阶图案的末端的配向层进行研磨，从而使得高台阶图案末端的漏光消除。而本申请中，CF基板上每个像素包括RGBW四个子像素，对应空白子像素为空白区域，取向层在所述空白子像素上方形成凹陷区域，本申请设置一摩擦滚轮进行正反两次摩擦取向，从而在第二次摩擦取向时消除第一次摩擦取向在配向膜的凹陷区域产生的摩擦阴影，使得空白子像素区中的配向正常，避免摩擦取向不均匀和液晶取向紊乱，而对比文件1中的彩膜基板的结构与本申请中CF基板的结构并不相同，对比文件1的基板上的像素区域并不存在凹陷区域，也就不会存在摩擦阴影的问题，对比文件1并不能给予任何的技术启示；（2）对比文件2中先利用辊沿第一方向对配向层进行第一次摩擦，而后沿相反方向对配向层进行第二次摩擦，第二次摩擦的摩擦力要小于第一次摩擦的摩擦力，利用相反方向的弱摩擦使得配向层的褶皱结构的顶部被向后推动，导致相较于一次摩擦配向层能够具有更大的预倾角，对比文件2利用同一辊对配向层进行正反两次摩擦配向并不是用于消除RGBW结构的CF基板上的配向膜在空白子像素处的凹陷内的摩擦阴影，并不能给予本申请任何的技术启示。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年11月07日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019 年04月25 日向复审请求人发出复审通知书，指出：独立权利要求1与对比文件1相比，区别在于：（1）本申请中执行第一次摩擦取向和第二次摩擦取向是使用同一个摩擦滚轮，而对比文件1中则是分别使用第一研磨辊和第二研磨辊进行初级和次级研磨；在步骤2与步骤3中，所述摩擦滚轮的中心处于同一水平面。（2）本申请的CF基板上每个像素包括RGBW四个子像素，红(R)、绿(G)、蓝(B)子像素设有相同厚度的色阻，对应所述空白(W)子像素为空白区域，一黑色矩阵(3)将所述红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)子像素间隔开，取向层涂覆于所述红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)子像素及黑色矩阵上，且取向层在所述空白(W)子像素上方形成凹陷区域；而对比文件1中滤色器基板包括RGB和用于分隔的黑色矩阵，取向层涂在滤色器基板表面。其中，区别技术特征（1）部分被对比文件2公开、部分属于本领域的常用技术手段；区别技术特征（2）属于本领域的常规设置。因此，独立权利要求1不具备创造性。从属权利要求2-7的附加技术特征被对比文件1或2公开，因此，从属权利要求2-7也不具备创造性。
针对于复审请求人的意见陈述，合议组认为，（1）虽然对比文件1的滤色器基板只具有RGB三色，而本申请的滤色基板中增加了空白的白色子像素区域，但是正如前面评述区别技术特征（2）时所述，具有RGBW四色属于本领域提高显示亮度的常规滤色器基板。本申请和对比文件1都是对取向层进行正反方向的摩擦取向，通过第二次的反方向摩擦实现对第一次摩擦取向未触及的区域进行摩擦配向，尽管对比文件1中是针对高台阶图案的末端、而本申请是针对凹陷区域的摩擦阴影，但是两者实质上所要解决的都是，在摩擦取向过程中，滤色器基板表面具有高度差的位置处会产生摩擦阴影的问题，而为了解决该问题，对比文件1和本申请均采用相同的进行正反方向摩擦的技术方案，即本申请的消除摩擦阴影的发明构思已被对比文件1公开，因此，虽然对比文件1与本申请的滤色器基板存在一些差异，但其属于常规结构，且从解决技术问题的角度来看，对比文件1实质上已经给出了解决本申请的技术问题的技术启示。（2）参照前面的评述，对比文件1公开了可采用两个辊进行正反方向摩擦取向，对比文件2给出了可采用同一辊进行正反方向摩擦取向，对于本领域技术人员而言，在面临选用何种方式的辊进行摩擦取向的问题时，有动机将对比文件2的单个辊应用到对比文件1中以进行正反方向的摩擦取向，其并不需要付出创造性的劳动。
复审请求人于2019 年05 月08 日提交了意见陈述书，但未修改申请文件。复审请求人认为：（1）对比文件1设置的是两个独立的第一研磨辊130a及第二研磨辊130b并没有任何关于它们尺寸关系的公开，也没有任何关于利用第一研磨辊130a进行初级研磨时第一研磨辊130a的中心与配向层之间距离同利用第二研磨辊130b进行初次研磨时第二研磨辊130b的中心与配向层之间的距离究竟呈何种关系，很难保证研磨时第一研磨辊130a、第二研磨辊130b与配向层之间的摩擦力保持一致；而本申请中，使用同一个摩擦滚轮执行两次摩擦取向，摩擦滚轮的中心处于同一水平面，从而第一次和第二次摩擦取向时摩擦滚轮与取向层之间的摩擦力相同，两次摩擦取向后，形成的取向状态能够与摩擦阴影以外的区域的取向状态最大限度保持一致，提升取向效果。（2）对比文件2通过两次摩擦力不同的正反方向摩擦来实现其提升液晶的预倾角的技术效果，由于第一次正向摩擦与第二次反向摩擦均采用相同的摩擦辊，必然是通过使第一次的正向摩擦与第二次的反向摩擦时摩擦辊与取向层之间的距离不同，才能实现第一次的正向摩擦力大于第二次的反向摩擦力，对比文件2并没有公开本申请的两次摩擦时摩擦滚轮的中心处于同一平面的技术特征。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）、审查文本的认定
在复审程序中，复审请求人于2018年10月30日提交了权利要求书的全文修改替换页，经审查，其中所作的修改符合专利法第33条及专利法实施细则第61条第1款的规定，因此，本决定所依据的文本为：复审请求人于2018年10月30日提交的权利要求第1-7项, 申请日2015年04月07日提交的说明书摘要、说明书第1-47段、摘要附图、说明书附图图1-6。
（二）、具体理由的阐述
专利法第22条第3款规定，创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求与一篇对比文件相比存在某些区别技术特征，而该些区别技术特征中的一部分被另一篇对比文件所公开，其余部分属于本领域常用技术手段，且本领域技术人员将两篇对比文件和本领域常用技术手段相结合以获得该权利要求的技术方案是显而易见的，则该权利要求不具备创造性。
具体就本案而言，合议组认为：
1、独立权利要求1要求保护一种取向层的摩擦取向方法，对比文件1公开了一种研磨方法和利用该方法制造液晶显示器的方法，具体披露了以下技术特征（参见说明书第5-110段，附图1-6）：制造液晶显示器的工序大体上可以分成在下阵列基板上形成驱动器件的驱动器件阵列工序、在上滤色器基板上形成滤色器的滤色器工序、以及单元 (cell)工序（说明书第68段）。在滤色器基板上，通过滤色器工序形成滤色器层和公共电极(S103)。滤色器层由RGB的子滤色器组成（说明书第70段）。图1的现有技术中液晶显示器的滤色器基板5由以下组成：由多个子滤色器7构成的用于实现红、绿、蓝 (RGB)的滤色器(C)；用于将子滤色器7彼此分开并且屏蔽通过LC层40的光线的黑矩阵6（说明书第7段）。为了给形成在滤色器基板和阵列基板之间的LC层的LC分子提供锚定力或表面锚固(预倾角和定向方向)，在每一滤色器基板和阵列基板上印刷取向层，然后对取向层实施研磨工序(S102，S104)。在和预倾角的形成方向相反的方向上实施初级研磨，在预倾角的形成方向上实施次级研磨。这样会减少例如柱状衬垫料的高台阶图案引起的偏差和研磨拖尾产生（说明书第71-72段）。取向层是确定LC分子的定向和提高显示特性的非常重要的因素。取向层由聚酰胺酸(其为有机聚合物)、或者可溶性基于聚酰亚胺的聚合物形成。在涂到基板上之后，干燥、加热和硬化该材料，以形成取向层（说明书第74段）。将液晶取向剂沉积到滤色器基板或阵列基板的一个表面上时，主要采用利用印刷设备的印刷方法。根据印刷方法，通过入口注入到排列成行的多个辊中的液晶取向剂被提供给所述辊的外圆周表面。然后，所述辊开始将液晶取向剂 印刷到滤色器基板或阵列基板的一个表面上。利用这种印刷方法涂布到滤色器基板或阵列基板上的取向剂具有约 40nm-80nm的厚度。一旦通过下述干燥和硬化工序硬化该取向剂，就完成了取向层（说明书第76-77段）。为了给形成在滤色器基板和阵列基板之间的LC层的LC分子提供锚定力或表面锚固，对取向层实施研磨工序（说明书第80段）。对取向层执行初级研磨工序(S203)。首先，向后旋转第一研磨辊，第一研磨辊上卷绕有第一研磨布。然后，移动工作台和第一研磨辊中的至少一个，工作台上装载有滤色器基板或阵列基板。更具体地说，当将工作台从滤色器基板或阵列基板的一侧移动到另一侧时，第一研磨辊在和期望预倾角的形成方向相反的方向上旋转（说明书第83段）。然后，对取向层实施次级研磨工序(S204)。首先，向前旋转第二研磨辊， 第二研磨辊上卷绕有第二研磨布。然后，移动工作台和第二研磨辊中的至少一个，工作台上装载有滤色器基板或阵列基板。更具体地说，第二研磨辊在期望预倾角的形成方向上旋转，从而对已经历过初级研磨工序的滤色器基板或阵列基板的取向层实施次级研磨工序（说明书第84段）。第一研磨辊的旋转轴和第二研磨辊的旋转轴可以设置成彼此平行（说明书第87段）。第一研磨辊130a和第二研磨辊130b在不同方向上旋转以进行双向研磨（说明书第46段）
经分析对比可知，对比文件1第74段中“在涂到基板上之后，干燥、加热和硬化该材料，以形成取向层”对应本申请的步骤1中的提供基板，在基板上涂覆取向层；对比文件1中的采用第一研磨辊对取向层实施的初级研磨程序对应于本申请的步骤2的使用摩擦滚轮按照第一摩擦方向对取向层进行第一次摩擦；采用第二研磨辊对取向层实施的次级研磨程序对应于本申请的步骤3的按照第二摩擦方向对取向层进行第二次摩擦取向，第二摩擦方向与第一摩擦方向相反；而对比文件1的第80段中“为了给形成在滤色器基板和阵列基板之间的LC层的LC分子提供锚定力或表面锚固，对取向层实施研磨工序”则表明了其公开的取向层形成方法适用于滤色器基板和阵列基板，同时由于对比文件1中滤色器基板包括RGB和用于分隔的黑色矩阵，则滤色器基板必然具有多个呈列阵式排布的像素，即对比文件1公开了本申请的“所述基板为CF基板，该CF基板具有多个呈阵列式排布的像素”；对比文件1的第72段中“在预倾角的形成方向上实施次级研磨。这样会减少例如柱状衬垫料的高台阶图案引起的偏差和研磨拖尾产生”对应公开了本申请的“步骤3能够消除步骤2产生的摩擦阴影”。
独立权利要求1与对比文件1相比，区别在于：（1）本申请中执行第一次摩擦取向和第二次摩擦取向是使用同一个摩擦滚轮，而对比文件1中则是分别使用第一研磨辊和第二研磨辊进行初级和次级研磨；在步骤2与步骤3中，所述摩擦滚轮的中心处于同一水平面。（2）本申请的CF基板上每个像素包括RGBW四个子像素，红(R)、绿(G)、蓝(B)子像素设有相同厚度的色阻，对应所述空白(W)子像素为空白区域，一黑色矩阵将所述红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)子像素间隔开，取向层(4)涂覆于所述红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)子像素及黑色矩阵上，且取向层在所述空白(W)子像素上方形成凹陷区域；而对比文件1中滤色器基板包括RGB和用于分隔的黑色矩阵，取向层涂在滤色器基板表面。
基于上述区别技术特征，可以确定独立权利要求1实际要解决的技术问题是：（1）如何选用摩擦滚轮形成取向层；（2）如何提高显示亮度。
对于区别技术特征（1），对比文件2公开了一种取向层摩擦取向方法（参见说明书第2栏第6-68行），其中，第一次摩擦以常规方式在一个方向上进行一次或多次。然后，在相反的方向上进行摩擦，但施加压力较弱。这种相反方向的摩擦也可以重复几次（说明书第2栏第6-12行）。摩擦力取决于摩擦辊的材料（即，天鹅绒或毡，以及天鹅绒或毡下面的弹性材料的硬度）以及辊轴和取向层之间的距离。通常，聚亚苯基层需要相对高的摩擦力，而聚酰亚胺层需要低摩擦力。使用相同的丝绒辊和相同的摩擦速度在相反的方向上摩擦这些层，但是具有减小的摩擦力（说明书第2栏第42-51行）。由此可见，对比文件2已经给出了两次摩擦取向均使用同一摩擦辊的技术启示，在对比文件2给出的该技术启示下，本领域技术人员容易想到将对比文件1中的两个研磨辊设置为一个也可以达到相同实现摩擦取向的效果，即在一个方向取向摩擦之后，将研磨辊的旋转方向进行反转即可实现对取向层的反向摩擦；在摩擦取向过程中，为了保证对取向层的摩擦配向效果，正反方向工作的摩擦滚轮的中心处于同一平面属于本领域的常用技术手段。
基于区别技术特征（2），虽然对比文件1中滤色器基板上只形成了RGB三种颜色的子像素，并没设置白色子像素，但是在本领域中，为了提高显示亮度，通常会在RGB三色子像素之外增加白色子像素，而在白色子像素区域中可不设置滤光片或只设置透光层，以保证白光的通过，因此，在像素中设置空白子像素，并且通过黑矩阵进行分隔属于本领域的常规设置；另外，为了保证基板表面的平整，通常像素中的红绿蓝子像素的色阻厚度相等，从而在包括红绿蓝色阻以及空白子像素的单个像素上涂覆取向层时，当白色子像素区域采取不设置滤光片的方式时其厚度低于其他红绿蓝子像素区域，取向层在白色子像素上方必然会形成有凹陷。
综上所述，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域的公知常识得到权利要求1的技术方案对于本领域技术人员而言是显而易见的，因此，独立权利要求1不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
针对复审请求人在答复复审通知书时的意见陈述，合议组认为，（1）虽然对比文件1中设置的是两个独立的第一研磨辊130a及第二研磨辊130b并没有对第一研磨辊130a和第二研磨辊130b的具体尺寸进行记载，但是对于本领域技术人员来说，由于对比文件1中第二研磨辊130b进行次级研磨程序的目的是为了对第一次摩擦取向未触及的区域进行摩擦配向以提升取向效果，这样，在进行反向摩擦过程中，为了在未触及的区域获得与正向摩擦相同的取向程度，容易想到将对比文件1中的第一研磨辊130a和第二研磨辊130b采用相同的尺寸，且设置在同一水平面，从而使得第一研磨辊130a和第二研磨辊130b对取向层的摩擦力相同。（2）虽然对比文件2并没有公开两次摩擦时摩擦滚轮的中心处于同一平面，但对比文件2给出了可采用同一辊进行正反方向摩擦取向，对于本领域技术人员而言，在面临选用何种方式的辊进行摩擦取向的问题时，有动机尝试将对比文件2的单个辊应用到对比文件1中以进行正反方向的摩擦取向，从而使得对比文件1中的第一研磨辊130a和第二研磨辊130b只需要设置一个执行正反方向的摩擦取向，如前所述，为了使得在未触及的区域获得与正向摩擦相同的取向程度，本领域技术人员容易想到采用单个摩擦滚轮时，正反方向的摩擦设置在同一平面上，其并不需要付出创造性的劳动。因此，复审请求人的意见陈述不能被支持。
2、权利要求2是对独立权利要求1的进一步限定，对比文件2公开了为了得到更好地取向效果，对第一方向和第二方向的摩擦取向重复进行多次（说明书第2栏第6-12行）。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，权利要求2也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、权利要求3是对独立权利要求1的进一步限定，对比文件1公开了研磨辊包括具有旋转轴和外圆周表面的圆柱形，以及卷绕在外周表面的研磨布，通过圆柱体带动研磨布对取向层进行摩擦取向（说明书第48-49段）。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，权利要求3也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
4、权利要求4-6是对权利要求3的摩擦布材料的进一步限定，对比文件1公开了研磨布可以是天鹅绒或棉法兰绒之类的织物，如人造纤维、尼龙和棉纱制成（说明书第49段）。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，权利要求4-6也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
5、权利要求7是对独立权利要求1的取向层材料的进一步限定，对比文件2公开了取向层的材料为聚酰亚胺（参见说明书第2栏第26-41段）。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的基础上，权利要求7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
综上所述，权利要求1-7不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
三、决定
维持国家知识产权局于2018 年08 月03 日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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