发明创造名称：用于等离子割炬的电极及其用途
外观设计名称：
决定号：183646
决定日：2019-07-04
委内编号：1F227915
优先权日：2012-05-24
申请（专利）号：201310190102.X
申请日：2013-05-21
复审请求人：卡尔伯格-基金会
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：张炜
合议组组长：刘丽艳
参审员：陈菲
国际分类号：B23K10/00(2006.01)
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点：权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征，但是现有技术也给出使用该区别技术特征的一部分来解决相应的技术问题的技术启示，且该区别技术特征的其余部分为本领域的公知常识，并且该区别技术特征并没有给本申请带来预料不到的技术效果，则该权利要求不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201310190102.X、名称为“用于等离子割炬的电极及其用途”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为卡尔伯格-基金会，申请日为2013年05月21日，优先权日为2012年05月24日，公开日为2013年12月04日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2017年04月06日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：本申请的权利要求1-13不具备创造性，不符合专利法第22条第3款的规定。驳回决定所依据的文本为：申请日为2013年05月21日提交的说明书第1-116段（即第1-10页）、说明书附图图1-6.4（即第1-9页）、说明书摘要、摘要附图；2016年07月05日提交的权利要求第1-13项。
驳回决定引用的对比文件如下：
对比文件1：CN87102295A，公开日为1987年10月28日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种用于等离子割炬的电极，所述电极由以压入配合和/或形状匹配的方式彼此连接的电极支架(7.1)和发射插入件(7.2)构成，
其特征在于，所述发射插入件(7.2)沿着所述发射插入件的纵向轴线具有至少一个部分(7.23)，所述至少一个部分(7.23)被布置在其它两个部分(7.24和7.22)之间或者布置成紧挨着另一部分(7.21)或所述其它两个部分中的任一部分(7.22或7.24)，所述至少一个部分(7.23)相对于其它部分(7.21、7.22、7.24)具有在所述发射插入件(7.2)的旋转对称设计中的减小的外径或在非旋转对称的发射插入件(7)中的减小的横截面，其中具有减小的外径或者减小的横截面的所述至少一个部分(7.23)为沟槽状的凹槽的形式。
2. 根据权利要求1所述的电极，其特征在于，所述沟槽状的凹槽径向环绕在整个外保护罩表面上。
3. 根据权利要求1或2所述的电极，其特征在于，朝着待切割的工件的方向上成锥形渐缩的部分(7.21)邻接具有减小的外径或减小的横截面的所述部分(7.23)，并且所述成锥形渐缩的部分(7.21)更靠近所述待切割的工件。
4. 根据前述权利要求中任一项所述的电极，其特征在于，具有恒定外径或恒定横截面的部分(7.22)被布置在具有的减小的外径或减小的横截面的所述部分(7.23)和锥形渐缩的部分(7.21)之间。
5. 根据前述权利要求中任一项所述的电极，其特征在于，所述发射插入件(7.2)的面向待机加工的工件的方向的尖端被制成圆锥形状、棱锥形状或者截头圆锥形状或者截头棱锥形状。
6. 根据权利要求5所述的电极，其特征在于，在面向工件的方向上，截头圆锥形式或者截头棱锥形式的发射插入件(7.21)具有端面，所述端面被形成为圆形表面的形状或者多边形的形状并且面向所述工件布置，圆形表面或多边形表面的所述端面的横截面小于存在于所述发射插入件(7.2)中的所有的部分(7.21、7.22、7.23和7.24)的横截面。
7. 根据前述权利要求中任一项所述的电极，其特征在于，具有减小的外径或减小的横截面的所述部分(7.23)被制成为矩形、梯形或楔形或者扇形形状的凹槽。
8. 根据前述权利要求中任一项所述的电极，其特征在于，至少一个中空的空间形成在所述电极支架(7.1)中，冷却剂能够被导入所述至少一个中空的空间中和/或引导通过所述至少一个中空的空间。
9. 根据前述权利要求中任一项所述的电极，其特征在于，所述电极支架(7.1)由具有良好导电性和导热性的材料制成，优选地由Ag或Cu或者Ag和Cu的合金制成，并且所述发射插入件(7.2)由钨、铪、钨合金或铪合金制成。
10. 根据前述权利要求中任一项所述的电极，其特征在于，具有减小的外径或者减小的横截面的所述部分(7.23)具有减小的外径或者减小的横截面的沟槽状的凹槽的形式，所述部分(7.23)小于紧挨着具有减小的外径或减小的横截面的所述部分(7.23)直接布置的部分(7.22或7.24)的外径或横截面至少20％。
11. 根据前述权利要求中任一项所述的电极，其特征在于，所述发射插入件(7.2)包括实心的材料和/或通过压入配合被连接到所述电极支架(7.1)。
12. 根据前述权利要求中任一项所述的电极，其特征在于，通过半径面(R1、R2、R3)和/或斜面(F1或F2)形成所述部分(7.23)与紧挨着所述部分布置的部分(7.22、7.24)的过渡。
13. 根据前述权利要求中任一项所述的电极在等离子炬中的用途，其中，所述等离子炬具有至少一个等离子炬头(1)，所述至少一个等离子炬头(1)具有由所述电极支架(7.1)和所述发射插入件(7.2)构成的电极(7)、喷嘴(4)和用于等离子体气体(PG)的气体进口，并且存在于所述发射插入件(7.2)中的部分(7.23)相对于紧挨着所述部分(7.23)布置的至少一个部分(7.22和/或7.24)具有减小的外径或减小的横截面。”
驳回决定认为：权利要求1与对比文件1的区别仅在于：电极是等离子割炬的电极，而不是电弧喷嘴的电极。而电弧喷嘴和等离子割炬属于相近的技术领域，两者都是为了实现有效散热，因而申请人把这种已有技术应用于相近的技术领域只是一种简单的转用，是该领域的普通技术人员容易想到的。因此，权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性；从属权利要求2-5、7-8的附加技术特征也已经在对比文件1中公开，从属权利要求6、9-12的附加技术特征是本领域的公知常识，因此它们都不具备专利法第22条第3款规定的创造性。权利要求13与对比文件1的区别仅在于：该电极用于等离子割炬，而不是用于电极喷嘴。而这只是一种简单的转用，是该领域的普通技术人员容易想到的；因此，权利要求13不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2017年07月21日向国家知识产权局提出了复审请求，同时修改了权利要求书，在驳回决定所针对的权利要求书的基础上，将从属权利要求8的附加技术特征加入至权利要求1中，并将技术特征“所述电极被旋入电极安装件并且通过所述冷却剂从内部冷却，所述冷却剂通过作为冷却剂导管的冷却管的内部被送入并且通过在所述冷却管的外部和所述电极安装件之间形成的空间被引导返回”补充至权利要求1中。复审请求人认为：1.等离子体切割与电弧放电是不同的技术领域，并且本领域技术人员需要对对比文件1中公开的装置进行重大的修改，才能够获得根据本申请所要求保护的装置；2.对比文件1并没有公开使用冷却剂，也没有公开任何“封闭的”通道，即没有公开仅仅在装置的内部延伸的通道。因此权利要求1-12具备创造性。
经形式审查合格，国家知识产权局于2017年08月07日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为，对比文件1公开的是一种电极部件，该电极部件具有本申请所述的电极配合形式和相应两部分的构造，且都是为了增强散热效果，即对比文件1给出了将上述构造用于等离子割炬的技术启示；且对比文件1公开了气流在电极喷嘴中流动，气流相当于冷却气体，即冷却剂，气流穿过电极支架中至少一部分的空间，起到了冷却的作用。因此，权利要求1-12仍然不具备专利法第22条第3款规定的创造性，因而坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2018年05月28日向复审请求人发出第一次复审通知书，指出权利要求1-11不具备专利法第3款规定的创造性，针对复审请求人的意见，合议组还指出：1.电弧喷嘴和等离子割炬属于相近的技术领域，且电极部件在电弧喷嘴和等离子割炬中的使用环境和操作要求都基本类似，因此，本领域普通技术人员很容易想到将用于电弧喷嘴的电极用于等离子割炬中，这只是相近技术领域的一种简单转用，并未产生预料不到的技术效果；2.使用冷却剂来冷却等离子割炬中的高温电极部件是本领域的公知常识，而且，复审请求人在本申请的背景技术部分中已经明确提出在DE10144516A1中公开了利用水冷来冷却电极支架，也就是使用冷却剂来冷却电极支架，在此基础上，本领域普通技术人员很容易想到在电极支架中形成用于通入冷却剂的中空空间，并利用冷却管来将冷却剂引入以及利用该冷却管外部的空间来引导冷却剂返回，这是本领域中的一种常规设置，并不需要付出创造性的劳动。
复审请求人于2018年09月11日提交了意见陈述书，同时修改了权利要求书和说明书，在提出复审时提交的权利要求书的基础上，将从属权利要求9的附加技术特征补充至权利要求1中，并删除了提交复审请求时增加的部分特征，还修改了权利要求和说明书中的形式缺陷。复审请求人认为：对比文件1中没有公开“沟槽状的凹槽的形式的具有减小的外径或者减小的横截面的所述至少一个部分(7.23)的外径或横截面小于紧挨着具有减小的外径或减小的横截面的所述至少一个部分(7.23)直接布置的所述其它两个部分中的任一部分(7.22或7.24)的外径或横截面至少20％”，而具有减小外径的部分能够增加电阻和热阻，从而可以达到高发射温度。因此权利要求1-12具备创造性。
合议组于2018年09月19日向复审请求人发出合议组成员变更通知书，复审请求人对此未提出异议。
此后，针对复审请求人的意见陈述和修改文本，合议组于2018年12月12日向复审请求人发出第二次复审通知书，指出本申请的权利要求1-12不具备专利法第22条第3款规定的创造性。针对复审请求人的意见，合议组还指出：对比文件1中明确公开了在电极的前侧部分和后侧部分之间的中间凹入部分，这与本申请中的减小外径的凹槽部分相对应，且在对比文件1中，该中间凹入部分显然将增大电阻和热阻，从而使得电极的前侧部分能够保持较高温度，同时减少热量向后侧部分的传导，这与本申请中的凹槽部分的作用相同；而且，如对比文件1中的图2中所示，电极的中间凹入部分与其相邻的后侧部分相比明显更小，本领域技术人员很容易想到使得该凹入部分的直径或横截面比相邻的后侧部分小至少20%，这是本领域的常规技术手段，不需要创造性的劳动，且并不能产生预料不到的技术效果。因此，复审请求人陈述的意见没有说服力。
复审请求人于2019年01月28日提交了意见陈述书，同时修改了权利要求书，在答复第一次复审通知书时提交的权利要求书的基础上，将技术特征“所述电极支架（7.1）由Ag或Cu或者两者的合金制成，所述发射插入件（7.2）由实心材料制成且没有内孔或者没有贯穿通道，并且所述实心材料为钨、铪、钨合金或铪合金”补充至权利要求1中，删除了权利要求8和9，并删除了权利要求10中的特征“包括实心的材料”。复审请求人认为：在对比文件1中，电极部件10由铜制成，且该电极部件10制成为空心件，以便插入突出杆；而在权利要求1的技术方案中，电极支架由Ag或Cu或者两者的合金制成，发射插入件由实心材料制成且没有内孔或者没有贯穿通道，这些都与对比文件1中不同，本领域技术人员不容易在对比文件1的基础上考虑采用在权利要求1中所述的这些改进。复审请求人在意见陈述书中请求进行口头审理。
针对复审请求人的意见陈述和修改文本，合议组于2019年03月11日向复审请求人发出第三次复审通知书，指出本申请的权利要求1-10不具备专利法第22条第3款规定的创造性，针对复审请求人的意见陈述，合议组还指出：使用高导电性的Ag或Cu或者两者的合金来制造电极支架以及使用钨、铪、钨合金或铪合金来制造发射插入件是本领域的常规选择，复审请求人在本申请说明书的背景技术部分中也明确提到了在现有技术中已经使用钨来构成电极材料（也就是发射插入件）和使用铜或银来制造电极支架，而当电极用于等离子体矩时，由于电极的发射插入件中不需要插入突出杆，因此本领域技术人员很容易想到将它制造成实心件，这也是本领域的常规技术，因此，根据对比文件1和本领域的这些现有技术，本领域技术人员很容易想到将电极插入件制成为实心件，并使用钨、铪、钨合金或铪合金等材料来制造，这并不需要付出创造性的劳动，且不能产生预料不到的技术效果；因此，复审请求人陈述的意见没有说服力。针对复审请求人的口头审理请求，合议组指出：复审请求人的意见陈述书已经清楚和明确地表达了复审请求人的意见，不需要再当面向合议组陈述事实和理由，因此本案不需要进行口头审理。
复审请求人于2019年06月26日提交了意见陈述书，同时修改了权利要求书，在答复第二次复审通知书时提交的权利要求书的基础上，将权利要求1和10的技术特征进行组合而形成了新增的权利要求11，其余权利要求未作修改。复审请求人认为：对比文件1没有公开以下特征：1.用于等离子体割炬的电极；2.冷却剂导入电极支架的中空空间中以便冷却电极；以及3. 电极的减小外径或减小横截面的部分与其相邻的后侧部分相比明显更小，且该凹入部分的直径或横截面比相邻部分小至少20%；因此权利要求1-11具备创造性。
复审请求人此次提交的权利要求书如下：
“1. 一种用于等离子割炬的电极，所述电极由以压入配合和/或形状匹配的方式彼此连接的电极支架(7.1)和发射插入件(7.2)构成，
其特征在于，所述发射插入件(7.2)沿着所述发射插入件的纵向轴线具有至少一个部分(7.23)，所述至少一个部分(7.23)被布置在其它两个部分(7.24和7.22)之间或者布置成紧挨着另一部分(7.21)或所述其它两个部分中的任一部分(7.22或7.24)，所述至少一个部分(7.23)相对于其它部分(7.21、7.22、7.24)具有在所述发射插入件(7.2)的旋转对称设计中的减小的外径或在非旋转对称的发射插入件(7)中的减小的横截面，其中具有减小的外径或者减小的横截面的所述至少一个部分(7.23)为沟槽状的凹槽的形式，其中至少一个中空的空间形成在所述电极支架(7.1)中，冷却剂被导入所述至少一个中空的空间中和/或引导通过所述至少一个中空的空间；沟槽状的凹槽的形式的具有减小的外径或者减小的横截面的所述至少一个部分(7.23)的外径或横截面小于紧挨着具有减小的外径或减小的横截面的所述至少一个部分(7.23)直接布置的所述其它两个部分中的任一部分(7.22或7.24)的外径或横截面至少20％，所述电极支架(7.1)由Ag或Cu或者两者的合金制成，所述发射插入件(7.2)由实心材料制成且没有内孔或者没有贯穿通道，并且所述实心材料为钨、铪、钨合金或铪合金。
2. 根据权利要求1所述的电极，其特征在于，所述沟槽状的凹槽径向环绕在整个外保护罩表面上。
3. 根据权利要求1或2所述的电极，其特征在于，朝着待切割的工件的方向上成锥形渐缩的所述另一部分(7.21)邻接具有减小的外径或减小的横截面的所述至少一个部分(7.23)，并且所述成锥形渐缩的所述另一部分(7.21)更靠近所述待切割的工件。
4. 根据权利要求1或2所述的电极，其特征在于，所述其它两个部分中的具有恒定外径或恒定横截面的部分(7.22)被布置在具有减小的外径或减小的横截面的所述至少一个部分(7.23)和锥形渐缩的所述另一部分(7.21)之间。
5. 根据权利要求1或2所述的电极，其特征在于，所述发射插入件(7.2)的面向待机加工的工件的方向的尖端被制成圆锥形状、棱锥形状或者截头圆锥形状或者截头棱锥形状。
6. 根据权利要求5所述的电极，其特征在于，在面向工件的方向上，截头圆锥形式或者截头棱锥形式的发射插入件(7.21)具有端面，所述端面被形成为圆形表面的形状或者多边形的形状并且面向所述工件布置，圆形表面或多边形表面的所述端面的横截面小于存在于所述发射插入件(7.2)中的所有的部分(7.21、7.22、7.23和7.24)的横截面。
7. 根据权利要求1或2所述的电极，其特征在于，具有减小的外径或减小的横截面的所述至少一个部分(7.23)被制成为矩形、梯形或楔形或者扇形形状的凹槽。
8. 根据权利要求1或2所述的电极，其特征在于，所述发射插入件(7.2)通过压入配合被连接到所述电极支架(7.1)。
9. 根据权利要求1或2所述的电极，其特征在于，通过半径面(R1、R2、R3)和/或斜面(F1或F2)形成所述至少一个部分(7.23)与紧挨着所述至少一个部分布置的所述其它两个部分(7.22、7.24)的过渡。
10. 根据权利要求1或2所述的电极在等离子炬中的用途，其中，所述等离子炬具有至少一个等离子炬头(1)，所述至少一个等离子炬头(1)具有由所述电极支架(7.1)和所述发射插入件(7.2)构成的电极(7)、喷嘴(4)和用于等离子体气体(PG)的气体进口，并且存在于所述发射插入件(7.2)中的部分(7.23)相对于紧挨着所述部分(7.23)布置的至少一个部分(7.22和/或7.24)具有减小的外径或减小的横截面。
11. 一种等离子割炬，所述等离子割炬具有至少一个等离子炬头(1)，所述至少一个等离子炬头(1)具有由以压入配合和/或形状匹配的方式彼此连接 的电极支架(7.1)和发射插入件(7.2)构成的电极(7)、喷嘴(4)和用于等离子体气体(PG)的气体进口，
其特征在于，所述发射插入件(7.2)沿着所述发射插入件的纵向轴线具有至少一个部分(7.23)，所述至少一个部分(7.23)被布置在其它两个部分(7.24和7.22)之间或者布置成紧挨着另一部分(7.21)或所述其它两个部分中的任一部分(7.22或7.24)，所述至少一个部分(7.23)相对于其它部分(7.21、7.22、7.24)具有在所述发射插入件(7.2)的旋转对称设计中的减小的外径或在非旋转对称的发射插入件(7)中的减小的横截面，其中具有减小的外径或者减小的横截面的所述至少一个部分(7.23)为沟槽状的凹槽的形式，其中至少一个中空的空间形成在所述电极支架(7.1)中，冷却剂被导入所述至少一个中空的空间中和/或引导通过所述至少一个中空的空间；沟槽状的凹槽的形式的具有减小的外径或者减小的横截面的所述至少一个部分(7.23)的外径或横截面小于紧挨着具有减小的外径或减小的横截面的所述至少一个部分(7.23)直接布置的所述其它两个部分中的任一部分(7.22或7.24)的外径或横截面至少20％，其中，所述电极支架(7.1)由Ag或Cu或者两者的合金制成，所述发射插入件(7.2)由实心材料制成且没有内孔或者没有贯穿通道，并且所述实心材料为钨、铪、钨合金或铪合金。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出复审请求审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
复审请求人在2019年06月26日答复第三次复审通知书时提交了权利要求书的修改页。经审查，该修改符合专利法第33条和专利法实施细则第61条第1款的规定。因此，本复审通知书所针对的文本为：申请日2013年05月21日提交的说明书附图第1-9页、说明书摘要、摘要附图；2018年09月11日提交的说明书第1-10页；2019年06月26日提交的权利要求第1-11项。
具体理由的阐述
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
2.1 权利要求1请求保护一种用于等离子割炬的电极。对比文件1公开了一种用于电弧喷嘴的电极，并具体公开了以下技术特征（参见该对比文件的说明书第3页第18行至第14页第5行，图1-9）：电极包括插入配合和形状匹配的电极部件10（相当于本申请的发射插入件）和主体部件11a、11b（该主体部件11a、11b相当于本申请的电极支架），该电极部件10有旋转对称结构，并有在较大直径的前侧部分和后侧部分之间的中间凹入部分（相当于本申请的较小外径的凹槽形式部分），该主体部件11a、11b有中空空间，电极部件10旋入该中空空间中。
该权利要求所要求保护的技术方案与该对比文件所公开的技术内容相比，其区别在于：1.该电极用于等离子割炬；2.冷却剂通入电极支架的中空空间中，以便冷却电极；3.凹槽的外径或横截面比相邻的任一部分小至少20%；4. 电极支架由Ag或Cu或者两者的合金制成，发射插入件由实心材料制成且没有内孔或者没有贯穿通道，并且该实心材料为钨、铪、钨合金或铪合金。基于上述区别技术特征可以确定，权利要求1实际所要解决的技术问题是将电极用于等离子割炬以及怎样有效冷却该电极和增加在电极前部和后部之间的热阻和电阻。
对于区别技术特征1，对比文件1已经公开了将电极用于电焊枪的电弧喷嘴中，而电弧喷嘴和等离子割炬属于相近的技术领域，电极部件在电弧喷嘴和等离子割炬中的使用环境和操作要求都基本类似，因此，本领域普通技术人员很容易想到将用于电弧喷嘴的电极用于等离子割炬中，这只是相近技术领域的一种简单转用，并未产生预料不到的技术效果。
对于区别技术特征2，使用冷却剂来冷却等离子割炬中的高温电极部件是本领域的公知常识，复审请求人也在本申请的说明书背景技术部分中明确提出了在现有技术中已经利用水冷来冷却等离子割炬中的电极支架，因此本领域技术人员很容易想到将冷却剂引入电极支架的中空空间中来用于冷却。
对于区别技术特征3，对比文件1中明确表示了在电极中提供在前侧部分和后侧部分之间的凹入部分，相当于本申请中的凹槽，显然，该凹入部分也将增加在电极的前部和后部之间的电阻和热阻，其作用与本申请中相同，且如对比文件1的图2中所示，该凹入部分与其相邻的后侧部分相比明显更小，据此本领域技术人员利用常规试验即可将该凹入部分的直径或横截面具体选择设置为比相邻的后侧部分小至少20%，这不需要创造性的劳动的付出，且并不能产生预料不到的技术效果。
对于区别技术特征4，使用Ag或Cu或者两者的合金来制造电极支架以及使用钨、铪、钨合金或铪合金来制造发射插入件是本领域的常规选择，而当电极用于等离子体矩时将发射插入件制造成实心件也是本领域技术人员很容易想到的，均不需要付出创造性的劳动，且并不能产生预料不到的技术效果，而且，复审请求人在本申请说明书的背景技术部分中也明确提到了在现有技术中已经使用钨来构成电极材料（也就是发射插入件）和使用铜或银来制造电极支架。
因此，在对比文件1的基础上结合本领域的常规技术以得到权利要求1的技术方案，对本领域技术人员而言是显而易见的。权利要求1请求保护的技术方案不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.2 从属权利要求2引用了权利要求1，从属权利要求3-5引用了权利要求1或2，对比文件1中相应公开了以下技术特征（参见该对比文件的说明书第3页第18行至第14页第5行，图1-9）：沟槽状的具有减小的外径的部分径向环绕在整个外保护罩表面上；朝着待焊接的工件的方向上成锥形渐缩的部分邻接具有减小的外径的部分，并且成锥形渐缩的部分更靠近待焊接的工件；具有恒定外径或恒定横截面的部分被布置在具有的减小的外径的部分和锥形渐缩的部分之间；主体部件11a的面向待机加工的工件方向的尖端被制成截头圆锥形状。由此可见，从属权利要求2-5的附加技术特征已经在对比文件1中公开，且这些技术特征在该对比文件中所起的作用与其在本申请中所起的作用相同，在它们引用的权利要求不具备创造性的情况下，该从属权利要求2-5也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.3 从属权利要求6引用了权利要求5，对比文件1中公开了（参见该对比文件的说明书第3页第18行至第14页第5行，图1-9）：在面向工件的方向上，截头圆锥形的电极部件10具有端面，所述端面被形成为圆形表面的形状并且面向所述工件布置；而使圆形表面的端面的横截面小于存在于电极部件10所有部分的横截面，是本领域技术人员的常规技术选择。因此，当其引用的权利要求5不具备创造性的情况下，该权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.4 从属权利要求7引用了权利要求1或2，对比文件1中相应公开了以下技术特征（参见该对比文件的说明书第3页第18行至第14页第5行，图1-9）：具有减小的外径或减小的横截面的部分110被制成为扇形形状的凹槽。而将减小外径或减小截面的部分制成为矩形、梯形或楔形的凹槽显然是本领域的公知常识，对本领域的技术人员来说是显而易见的。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的情况下，该从属权利要求7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.5 从属权利要求8-9引用了权利要求1或2，它们的附加技术特征分别是：发射插入件通过压入配合被连接到所述电极支架；通过半径面和/或斜面形成所述部分与紧挨着所述部分布置的部分的过渡。但这些附加技术特征都是本领域的公知常识，对本领域的技术人员来说是显而易见的，因此，在它们引用的权利要求不具备创造性的情况下，该从属权利要求8-9也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.6 权利要求10请求保护根据权利要求1或2的电极在等离子炬中的用途。对比文件1公开了一种电极在电弧喷嘴中的用途，并具体公开了以下技术特征（参见该对比文件的说明书第3页第18行至第14页第5行，图1-9）：电弧喷嘴包括喷嘴和电极，该电极包括电极部件10（相当于本申请的发射插入件）和主体部件11a、11b（相当于本申请的电极支架），该电极部件10有旋转对称结构，并有在较大直径的前侧部分和后侧部分之间的、减小外径的中间凹入部分。
该权利要求所要求保护的技术方案与该对比文件所公开的技术内容相比，其区别在于：1.该电极用于等离子炬，等离子炬具有至少一个等离子炬头，该等离子炬头具有电极、喷嘴和用于等离子体气体的气体进口；2.电极为根据权利要求1或2所述的电极。基于上述区别技术特征可以确定，权利要求10实际所要解决的技术问题是将电极用于等离子割炬以及怎样设计电极的结构。
对于区别技术特征1，对比文件1已经公开了将电极用于电焊枪的电弧喷嘴中，而电弧喷嘴和等离子割炬属于相近的技术领域，电极部件在电弧喷嘴和等离子割炬中的使用环境和操作要求都基本类似，因此，本领域普通技术人员很容易想到将用于电弧喷嘴的电极用于等离子割炬中，这只是相近技术领域的一种简单转用，并未产生预料不到的技术效果，而对于等离子炬有等离子炬头，该等离子炬头有电极、喷嘴和用于等离子体气体的气体进口，这些技术特征显然是本领域的公知常识。
对于区别技术特征2，如前所述，权利要求1或2所述的电极相对于对比文件1不具备创造性。
因此，在对比文件1的基础上结合本领域的公知常识，以得到权利要求10的技术方案，对本领域技术人员而言是显而易见的。权利要求10请求保护的技术方案不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.7 权利要求11请求保护一种等离子割炬。对比文件1公开了一种电弧喷嘴，并具体公开了以下技术特征（参见该对比文件的说明书第3页第18行至第14页第5行，图1-9）：该电弧喷嘴包括电极，该电极包括压入配合和形状匹配的电极部件10（相当于本申请的发射插入件）和主体部件11a、11b（该主体部件11a、11b相当于本申请的电极支架），该电极部件10有旋转对称结构，并有在较大直径的前侧部分和后侧部分之间的中间凹入部分（相当于本申请的较小外径的凹槽形式部分），该主体部件11a、11b有中空空间，电极部件10旋入该中空空间中。
该权利要求所要求保护的技术方案与该对比文件所公开的技术内容相比，其区别在于：1.该电极用于等离子割炬，该等离子炬具有至少一个等离子炬头，该等离子炬头具有电极、喷嘴和用于等离子体气体的气体进口；2.冷却剂通入电极支架的中空空间中，以便冷却电极；3.凹槽的外径或横截面比相邻的任一部分小至少20%；4. 电极支架由Ag或Cu或者两者的合金制成，发射插入件由实心材料制成且没有内孔或者没有贯穿通道，并且该实心材料为钨、铪、钨合金或铪合金。基于上述区别技术特征可以确定，权利要求11实际所要解决的技术问题是将电极用于等离子割炬以及如何有效冷却该电极和增加在电极前部和后部之间的热阻和电阻。
对于区别技术特征1，对比文件1已经公开了将电极用于电焊枪的电弧喷嘴中，而电弧喷嘴和等离子割炬属于相近的技术领域，电极部件在电弧喷嘴和等离子割炬中的使用环境和操作要求都基本类似，因此，本领域普通技术人员很容易想到将用于电弧喷嘴的电极用于等离子割炬中，这只是相近技术领域的一种简单转用，并未产生预料不到的技术效果，而对于等离子炬有等离子炬头，该等离子炬头有电极、喷嘴和用于等离子体气体的气体进口，这些技术特征显然是本领域的公知常识。
对于区别技术特征2，使用冷却剂来冷却等离子割炬中的高温电极部件是本领域的公知常识，复审请求人也在本申请的说明书背景技术部分中明确提出了在现有技术中已经利用水冷来冷却等离子割炬中的电极支架，因此本领域技术人员很容易想到将冷却剂引入电极支架的中空空间中来用于冷却。
对于区别技术特征3，对比文件1中明确表示了在电极中提供在前侧部分和后侧部分之间的凹入部分，相当于本申请中的凹槽，显然，该凹入部分也将增加在电极的前部和后部之间的电阻和热阻，其作用与本申请中相同，且如对比文件1的图2中所示，该凹入部分与其相邻的后侧部分相比明显更小，据此本领域技术人员利用常规试验即可将该凹入部分的直径或横截面具体选择设置为比相邻的后侧部分小至少20%，这不需要创造性的劳动的付出，且并不能产生预料不到的技术效果。
对于区别技术特征4，使用Ag或Cu或者两者的合金来制造电极支架以及使用钨、铪、钨合金或铪合金来制造发射插入件是本领域的常规选择，而当电极用于等离子体矩时将发射插入件制造成实心件也是本领域技术人员很容易想到的，均不需要付出创造性的劳动，且并不能产生预料不到的技术效果，而且，复审请求人在本申请说明书的背景技术部分中也明确提到了在现有技术中已经使用钨来构成电极材料（也就是发射插入件）和使用铜或银来制造电极支架。
因此，在对比文件1的基础上结合本领域的常规技术，以得到权利要求11的技术方案，对本领域技术人员而言是显而易见的。权利要求11请求保护的技术方案不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、关于复审请求人的陈述意见
复审请求人在意见陈述书中认为：对比文件1没有公开以下特征：1.用于等离子体割炬的电极；2.冷却剂导入电极支架的中空空间中以便冷却电极；以及3. 电极的减小外径或减小横截面的部分与其相邻的后侧部分相比明显更小，且该凹入部分的直径或横截面比相邻部分小至少20%；因此权利要求1-11具备创造性。
对此，合议组认为：1.电弧喷嘴和等离子割炬属于相近的技术领域，且电极部件在电弧喷嘴和等离子割炬中的使用环境和操作要求都基本类似，因此，本领域普通技术人员很容易想到将用于电弧喷嘴的电极用于等离子割炬中，这只是相近技术领域的一种简单转用，并未产生预料不到的技术效果；2.使用冷却剂来冷却等离子割炬中的高温电极部件是本领域的公知常识，而且，复审请求人在本申请的说明书背景技术部分中已经明确提出在DE10144516A1中公开了利用水冷来冷却电极支架，也就是使用冷却剂来冷却电极支架，在此基础上，本领域普通技术人员很容易想到在电极支架中形成用于通入冷却剂的中空空间，并利用冷却管来将冷却剂引入以及利用该冷却管外部的空间来引导冷却剂返回，这是本领域中的一种常规设置，并不需要付出创造性的劳动；3.对比文件1中明确公开了在电极的前侧部分和后侧部分之间的中间凹入部分，这与本申请中的减小外径的凹槽部分相对应，且在对比文件1中，该中间凹入部分显然将增大电阻和热阻，从而使得电极的前侧部分能够保持较高温度，同时减少热量向后侧部分的传导，这与本申请中的凹槽部分的作用相同，而且，如对比文件1中的图2中所示，电极的中间凹入部分与其相邻的后侧部分相比明显更小，本领域技术人员很容易想到使得该凹入部分的直径或横截面比相邻的后侧部分小至少20%，这是本领域的常规技术手段，不需要创造性的劳动，且并不能产生预料不到的技术效果。因此，复审请求人陈述的意见没有说服力，权利要求1-11不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
综上，合议组作出如下复审请求审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2017年04月06日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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