发明创造名称：基板支撑装置
外观设计名称：
决定号：182796
决定日：2019-07-04
委内编号：1F264202
优先权日：
申请（专利）号：201280077307.0
申请日：2012-11-27
复审请求人：盛美半导体设备(上海)有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：吴海涛
合议组组长：杨子芳
参审员：田书凤
国际分类号：H01L21/67,H01L21/687
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点：如果一项权利要求所请求保护的技术方案相对于作为最接近现有技术的对比文件存在区别技术特征，该区别技术特征部分在其它对比文件中公开、部分属于本领域的公知常识，并且该区别技术特征也并未带来任何意料不到的技术效果，该权利要求所请求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，则该权利要求所请求保护的技术方案不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201280077307.0，名称为“基板支撑装置”的PCT发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为盛美半导体设备(上海)有限公司，申请日为2012年11月27日，进入中国国家阶段日为2015年05月26日，公开日为2015年07月29日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年08月03日发出驳回决定，以权利要求1-15不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由驳回了本申请，其理由是：（1）独立权利要求1与对比文件1（CN1577762A，公开日为2005年02月09日）的区别技术特征分别在对比文件2（US4874273A，公开日为1989年10月17日）、对比文件3（US5492566A，公开日为1996年02月20日）、对比文件4（CN102376532A，公开日为2012年03月14日）、对比文件5（US7056392B1，公告日为2006年06月06日）中公开，因此权利要求1不具备创造性。（2）从属权利要求2-15的附加技术特征或者在对比文件1、2、4中公开、或者属于本领域的公知常识，因此权利要求2-15不具备创造性。驳回决定所依据的文本为：申请人于进入中国国家阶段日2015年05月26日提交的说明书第1-23段、说明书附图图1-7F、说明书摘要、摘要附图；和于2018年02月09日提交的权利要求第1-15项。驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种基板支撑装置，其特征在于，包括：
旋转夹盘，用于支撑基板，所述旋转夹盘开设有数个第一注入口和数个第二注入口，所述数个第一注入口呈倾斜状且与旋转夹盘的底面之间形成一角度，所述数个第一注入口与第一气体通道连接以向基板供应气体并利用伯努利原理吸附保持基板，所述数个第二注入口与第二气体通道连接以向基板供应气体并吹浮起基板，所述数个第一注入口相对于旋转夹盘的中心位于所述数个第二注入口的外围；
第一流量控制器安装在所述第一气体通道上以控制供应至所述数个第一注入口的气体的流量，第一注入口斜向外地向基板的正面吹气，使得向基板背面喷洒的清洗液不会到达基板的正面；
第二流量控制器安装在所述第二气体通道上以控制供应至所述数个第二注入口的气体的流量，以调节基板与旋转夹盘之间的间隙的大小；
数个定位销布置在所述旋转夹盘的顶表面以在所述基板进行预定工艺时防止基板的水平移动，定位销接触基板的外周边缘，定位销分成两组，两组定位销交替布置，两组定位销交替固定基板；
数个导柱布置在所述旋转夹盘的顶表面，每个导柱凸伸形成支撑基板的支撑部；及
驱动器，用于旋转所述旋转夹盘。
2. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述数个第一注入口设置在旋转夹盘上的一个圆周上且远离旋转夹盘的中心，所述数个第二注入口设置在旋转夹盘上的一个圆周上且靠近旋转夹盘的中心。
3. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述每个第一注入口呈倾斜状且与旋转夹盘的底面之间形成一定角度。
4. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述每个第二注入口垂直于旋转夹盘。
5. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述第一气体通道由第一内气管路和第一外气管路构成，所述第一内气管路与第一注入口连接，第一外气管路与第一内气管路及气体源连接，所述第二气体通道由第二内气管路和第二外气管路构成，所述第二内气管路与第二注入口连接，第二外气管路与第二内气管路及气体源连接。
6. 根据权利要求5所述的基板支撑装置，其特征在于，所述旋转夹盘的底面与中空腔体连接，旋转轴与中空腔体连接，旋转轴的上端与中空腔体的底部固定且旋转轴的下端与驱动器固定，第一内气管路和第二内气管路收容在中空腔体内，第一内气管路和第二内气管路分别穿过中空腔体并收容在旋转轴内。
7. 根据权利要求5所述的基板支撑装置，其特征在于，进一步包括第一过滤器安装在第一内气管路内以净化通过第一注入口向基板供应的气体，以及第二过滤器安装在第二内气管路内以净化通过第二注入口向基板供应的气体。
8. 根据权利要求5所述的基板支撑装置，其特征在于，所述第一内气管路和第一外气管路的连接处采用磁流体密封以防止气体泄漏，第二内气管路和第二外气管路的连接处采用另一磁流体密封以防止气体泄漏。
9. 根据权利要求5所述的基板支撑装置，其特征在于，所述第一流量控制器安装在第一外气管路上，第二流量控制器安装在第二外气管路上。
10. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述每个定位销开设有定位槽，基板的外周边缘卡设在定位槽内以限制基板的水平移动。
11. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述每个定位销均由一独立的气缸驱动向内运动以固定基板或向外运动以释放基板。
12. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述每个导柱的侧表面作为引导面引导基板准确地放置在支撑部上。
13. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，进一步包括传输基板的终端执行器。
14. 根据权利要求13所述的基板支撑装置，其特征在于，所述终端执行器具有基部，基部的底面向下延伸形成抵接部，抵接部的一部分向下延伸形成止挡部，推移部推动基板紧靠止挡部以将基板固定在终端执行器内或拉动基板以释放基板。
15. 根据权利要求14所述的基板支撑装置，其特征在于，所述抵接部的底面安装有接触传感器以检测基板是否与抵接部接触。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年10月30日向国家知识产权局提出了复审请求，并提交了经修改的权利要求书（共包括14项权利要求），其修改为：将从属权利要求4中的附加技术特征增加到独立权利要求1中，并删除了从属权利要求4。复审请求人认为：本申请中基板与夹盘并不接触，夹盘通过倾斜的第一注入口产生的气流，利用伯努利原理吹起并吸附基板，通过第二注入口产生的垂直气流来调节夹盘与基板之间间隙的大小；对比文件4晶圆的边缘是由夹持装置夹持的，因此其晶圆并不是漂浮的，而是固定在夹持装置上，所以不存在气流互相干扰的问题，其倾斜喷口可以被布置在晶圆的中心位置，且对比文件1、2和4中的晶片固定方式不同，并不能带来互相的启示。其修改后的权利要求1的内容如下：
“1. 一种基板支撑装置，其特征在于，包括：
旋转夹盘，用于支撑基板，所述旋转夹盘开设有数个第一注入口和数个第二注入口，所述数个第一注入口呈倾斜状且与旋转夹盘的底面之间形成一角度，所述数个第一注入口与第一气体通道连接以向基板供应气体并利用伯努利原理吸附保持基板，所述数个第二注入口与第二气体通道连接以向基板供应气体并吹浮起基板，每个第二注入口垂直于旋转夹盘，所述数个第一注入口相对于旋转夹盘的中心位于所述数个第二注入口的外围；
第一流量控制器安装在所述第一气体通道上以控制供应至所述数个第一注入口的气体的流量，第一注入口斜向外地向基板的正面吹气，使得向基板背面喷洒的清洗液不会到达基板的正面；
第二流量控制器安装在所述第二气体通道上以控制供应至所述数个第二注入口的气体的流量，以调节基板与旋转夹盘之间的间隙的大小；
数个定位销布置在所述旋转夹盘的顶表面以在所述基板进行预定工艺时防止基板的水平移动，定位销接触基板的外周边缘，定位销分成两组，两组定位销交替布置，两组定位销交替固定基板；
数个导柱布置在所述旋转夹盘的顶表面，每个导柱凸伸形成支撑基板的支撑部；及
驱动器，用于旋转所述旋转夹盘。”
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年11月05日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为：基于伯努利原理，不管气体是垂直吹向晶片还是倾斜吹向晶片，只要有气体吹向晶片，在二者界面就会有伯努利效应，且通过调整气体流量，都可使晶片悬浮。因此本申请中晶片应在第一注入口和第二注入口共同吹气作用下，吸附晶片并保持晶片漂浮，并且，调整第一注入口或第二注入口的气体流量应都可调节晶片和基板之间的距离。由于垂直的吹气口的气体吹至晶片后，应向四周分散，气体在晶片边缘同样可以起到防止清洗液溅射到晶片下表面的效果，只是这种防止清洗液溅射的效果不如将出气口设置为倾斜的更好。而对比文件4中公开了将气体喷头222中的出气口设置为多个倾斜状，可以防止清洗液溅射到晶片下表面，在此基础上，将位于中间位置的垂直状的出气口设置为多个，这是本领域的常规设置。因此，虽然对比文件4和对比文件1、2的固定方式不同，但对比文件4中将出气口设置为倾斜状的作用和在本申请中将周围的第一注入口设置为倾斜状的作用都为可以防止清洗液溅射到晶片的下表面，因此对比文件4是给出了结合启示的。因而坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年03月29日向复审请求人发出复审通知书，指出权利要求1-14不具备专利法第22条第3款规定的创造性，理由为：（1）独立权利要求1与对比文件4的区别技术特征部分在对比文件1、5中公开、部分属于本领域的公知常识，因此权利要求1不具备创造性。（2）从属权利要求2-14的附加技术特征部分在对比文件1和4中公开、部分属于本领域的公知常识，因此权利要求2-14不具备创造性。
复审请求人于2019年04月11日提交了复审无效宣告程序意见陈述书，提交了经修改的权利要求书（共12项权利要求），其修改为：在独立权利要求1中加入了从属权利要求12-14的附加技术特征，以及技术特征“其中，在基本背面清洗完成后，终端执行器移至基板背面的上方，第一注入口停止向基板喷射气体，第二注入口保持向基板喷射气体以吹浮起基板，终端执行器向下移动靠近基板的背面，第二注入口的气流增加使得基板上升并抵靠在抵接部的底面，接触传感器检测到基板与抵接部接触，推移部从基板的一侧推动基板移动直至基板抵达止挡部，基板被固定在终端执行器内，第二注入口停止向基板喷射气体”，并增加了新的从属权利要求12。复审请求人认为：修改后的权利要求1记载了终端执行器抓取基板的方式，利用第二注入口持续喷射气体，将基板吹起并紧靠终端执行器，再利用推移部将基板推向止挡部，然后将基板固定在终端执行器内，终端执行器对基板的抓取完成后，第二注入口停止向基板喷射气体。这种方式没有被对比文件所揭示，也不是本领域中的公知常识或者惯用技术手段。复审请求人于2019年04月11日提交的权利要求书如下：
“1. 一种基板支撑装置，其特征在于，包括：
旋转夹盘，用于支撑基板，所述旋转夹盘开设有数个第一注入口和数个第二注入口，所述数个第一注入口呈倾斜状且与旋转夹盘的底面之间形成一角度，所述数个第一注入口与第一气体通道连接以向基板供应气体并利用伯努利原理吸附保持基板，所述数个第二注入口与第二气体通道连接以向基板供应气体并吹浮起基板，每个第二注入口垂直于旋转夹盘，所述数个第一注入口相对于旋转夹盘的中心位于所述数个第二注入口的外围；
第一流量控制器安装在所述第一气体通道上以控制供应至所述数个第一注入口的气体的流量，第一注入口斜向外地向基板的正面吹气，使得向基板背面喷洒的清洗液不会到达基板的正面；
第二流量控制器安装在所述第二气体通道上以控制供应至所述数个第二注入口的气体的流量，以调节基板与旋转夹盘之间的间隙的大小；
数个定位销布置在所述旋转夹盘的顶表面以在所述基板进行预定工艺时防止基板的水平移动，定位销接触基板的外周边缘，定位销分成两组，两组定位销交替布置，两组定位销交替固定基板；
数个导柱布置在所述旋转夹盘的顶表面，每个导柱凸伸形成支撑基板的支撑部；及
驱动器，用于旋转所述旋转夹盘；
终端执行器，终端执行器传输基板，终端执行器具有基部，基部的底面向下延伸形成抵接部，抵接部的一部分向下延伸形成止挡部，推移部推动基板紧靠止挡部以将基板固定在终端执行器内或拉动基板以释放基板，抵接部的底面安装有接触传感器以检测基板是否与抵接部接触；
其中，在基本背面清洗完成后，终端执行器移至基板背面的上方，第一注入口停止向基板喷射气体，第二注入口保持向基板喷射气体以吹浮起基板，终端执行器向下移动靠近基板的背面，第二注入口的气流增加使得基板上升并抵靠在抵接部的底面，接触传感器检测到基板与抵接部接触，推移部从基板的一侧推动基板移动直至基板抵达止挡部，基板被固定在终端执行器内，第二注入口停止向基板喷射气体。
2. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述数个第一注入口设置在旋转夹盘上的一个圆周上且远离旋转夹盘的中心，所述数个第二注入口设置在旋转夹盘上的一个圆周上且靠近旋转夹盘的中心。
3. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述每个第一注入口呈倾斜状且与旋转夹盘的底面之间形成一定角度。
4. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述第一气体通道由第一内气管路和第一外气管路构成，所述第一内气管路与第一注入口连接，第一外气管路与第一内气管路及气体源连接，所述第二气体通道由第二内气管路和第二外气管路构成，所述第二内气管路与第二注入口连接，第二外气管路与第二内气管路及气体源连接。
5. 根据权利要求4所述的基板支撑装置，其特征在于，所述旋转夹盘的底面与中空腔体连接，旋转轴与中空腔体连接，旋转轴的上端与中空腔体的底部固定且旋转轴的下端与驱动器固定，第一内气管路和第二内气管路收容在中空腔体内，第一内气管路和第二内气管路分别穿过中空腔体并收容在旋转轴内。
6. 根据权利要求4所述的基板支撑装置，其特征在于，进一步包括第一过滤器安装在第一内气管路内以净化通过第一注入口向基板供应的气体，以及第二过滤器安装在第二内气管路内以净化通过第二注入口向基板供应的气体。
7. 根据权利要求4所述的基板支撑装置，其特征在于，所述第一内气管路和第一外气管路的连接处采用磁流体密封以防止气体泄漏，第二内气管路和第二外气管路的连接处采用另一磁流体密封以防止气体泄漏。
8. 根据权利要求4所述的基板支撑装置，其特征在于，所述第一流量控制器安装在第一外气管路上，第二流量控制器安装在第二外气管路上。
9. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述每个定位销开设有定位槽，基板的外周边缘卡设在定位槽内以限制基板的水平移动。
10. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述每个定位销均由一独立的气缸驱动向内运动以固定基板或向外运动以释放基板。
11. 根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述每个导柱的侧表面作为引导面引导基板准确地放置在支撑部上。
12. 如权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，终端执行器向上移动，从第二注入口喷射出的气体使基板随着终端执行器上升并一直抵靠在终端执行器的抵接部的底表面。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
复审请求人于2019年04月11日提交复审无效宣告程序意见陈述书时对权利要求书进行了修改，其修改符合专利法第33条的规定。本复审请求审查决定所依据的文本为：复审请求人于进入中国国家阶段日2015年05月26日提交的说明书第1-23段、说明书附图图1-7F、说明书摘要、摘要附图；和于2019年04月11日提交的权利要求第1-12项。
具体理由的阐述
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求所请求保护的技术方案相对于作为最接近现有技术的对比文件存在区别技术特征，该区别技术特征部分在其它对比文件中公开、部分属于本领域的公知常识，并且该区别技术特征也并未带来任何意料不到的技术效果，该权利要求所请求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，则该权利要求所请求保护的技术方案不具备创造性。
本复审请求审查决定中引用的对比文件与复审通知书中的相同，为驳回决定中的对比文件1、4-、5，即：
对比文件1：CN1577762A，公开日为2005年02月09日；
对比文件4：CN102376532A，公开日为2012年03月14日；
对比文件5：US7056392B1，公告日为2006年06月06日。
其中对比文件4为最接近的现有技术。
2-1.、权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求1请求保护一种基板支撑装置，对比文件4公开了一种晶片清洁装置（参见说明书第21-31段，附图1-3），包括：可旋转的支撑座211（相当于旋转夹盘）用于支撑晶片20，支撑座211具有多个倾斜的气体喷头222（相当于第一注入口），该多个气体喷头222与支撑座211成一角度；气体供给装置225、气体流量控制器224、气体过滤装置223、气体供给管路221、气体喷头222依次连接，气体供给装置225用以控制到达晶片20正面的气体的流量，使晶片20背面进行清洗时，避免晶片20背面的污染物流至晶片20正面；多个定位件212布置在支撑座211的顶表面，接触晶片20的外周边缘，用以夹持晶片20（即防止晶片20水平移动）；马达240用于驱动支撑座211旋转，进而带动晶片20旋转。当气体喷头222向晶片20的背面喷射气体时，势必在晶片20的不同位置带来不同的气体流速，因此晶片20的不同区域的压力是不同的，因此其可以起到利用伯努利原理吸附保持基板的作用。
由于权利要求1中的技术特征“其中，在基本背面清洗完成后，终端执行器移至基板背面的上方，第一注入口停止向基板喷射气体，第二注入口保持向基板喷射气体以吹浮起基板，终端执行器向下移动靠近基板的背面，第二注入口的气流增加使得基板上升并抵靠在抵接部的底面，接触传感器检测到基板与抵接部接触，推移部从基板的一侧推动基板移动直至基板抵达止挡部，基板被固定在终端执行器内，第二注入口停止向基板喷射气体”为方法技术特征，因此其对于产品权利要求1的基板支撑装置的具体限定为“具有可以从基板背面移动到基板的终端执行器、第一注入口、第二注入口、接触传感器、抵接部、推动部，基板固定于终端执行器内”。
因此，权利要求1与对比文件4的区别技术特征在于：①数个第二注入口与第二气体通道连接以向基板供应气体并吹浮起基板，每个第二注入口垂直于旋转夹盘，所述数个第一注入口相对于旋转夹盘的中心位于所述数个第二注入口的外围，第二流量控制器安装在所述第二气体通道上以控制供应至所述数个第二注入口的气体的流量，以调节基板与旋转夹盘之间的间隙的大小；数个导柱布置在所述旋转夹盘的顶表面，每个导柱凸伸形成支撑基板的支撑部；终端执行器，终端执行器传输基板，终端执行器具有基部，基部的底面向下延伸形成抵接部，抵接部的一部分向下延伸形成止挡部，推移部推动基板紧靠止挡部以将基板固定在终端执行器内或拉动基板以释放基板，抵接部的底面安装有接触传感器以检测基板是否与抵接部接触；终端执行器可以从基板背面向基板移动，且基板固定在终端执行器内。②定位销分成两组，两组定位销交替布置，两组定位销交替固定基板。基于此，权利要求1实际所要解决的技术问题是：用不同方式支撑基板，及彻底清洁基板。
对于区别技术特征①，对比文件1公开了一种基板支持装置（参见说明书第3页第3段到第6页第5段，附图1-3），包括：支持基板6的可旋转的卡盘3，其上表面具有呈垂直方向突出的多个卡爪5（相当于导柱）用于支撑基板6，位于中心处的一个垂直的喷嘴孔7（相当于第二注入口）将氮气13喷到基板6的下表面，利用伯努利定理使基板6非接触性地保持在卡盘3上面，氮气13在基板6和卡盘3的间隙14流动（因为具有间隙14，相当于基板6被气体吹浮起），喷嘴孔7与气体通道相连接，氮气13的流量根据基板6的大小及重量而有所不同（相当于具有第二流量控制器，调节间隙的大小）；处理结束之后，拨叉20（相当于终端执行器）的叉齿21从基板6和卡盘3之间的间隙14插入（即从基板6的背面向基板6移动），将基板6承载到拨叉20上（相当于基板6固定在终端执行器内），从基板支持装置1上取出。本领域技术人员为了避免对比文件4中多个定位件212接触晶片20的外周边缘时，给晶片20的外周边缘带来的应力损伤，可以将对比文件1的结构应用于对比文件4，在支撑座211的中心位置处设置对比文件1中的喷嘴孔7，用以将晶片20吹浮起来。同时为了使支撑更加平稳，可以将喷嘴孔7的数量设置为多个；为了避免基板6由于在拨叉20上移动时所带来的基板脱落损坏等问题，可以在拨叉20上设置夹紧部件，使拨叉20的基部向下延伸形成抵接部、止挡部、推移部，使基板6可以固定在拨叉20内或者拉动基板6以释放；为了检测基板6是否被夹紧，还可以在抵接部底面设置接触传感器以检测基板6是否与抵接部接触，这属于本领域的公知常识。
对于区别技术特征②，对比文件5公开了一种用于旋转处理的晶片夹持装置和方法（参见说明书第3栏第31-54行、第4栏第30-44行，附图1），包括：晶片102被定位销104-109定位，分为两组，第一组104、106、108沿着晶片外周等位布置，第二组105、107、109沿着晶片外周等位布置，在清洗（刻蚀）过程中两组定位销可以交替固定晶片。可见对比文件5公开了上述区别技术特征②，且该特征在对比文件5中的作用与其在权利要求1中的作用相同，都是使得全面清洗基板，可见对比文件5给出了将上述特征应用到对比文件1以解决其技术问题的技术启示。
因此，在对比文件4的基础上结合对比文件1、5和本领域公知常识得到权利要求1的技术方案，对本领域技术人员来说是显而易见的，权利要求1的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-2.、从属权利要求2-12不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对于权利要求2-3，对比文件4（参见附图2-3）公开了：多个气体喷头222与支撑座211成一角度。而且，在对比文件4的支撑座211的中心位置处设置多个对比文件1中的喷嘴孔7后，为了避免靠近支撑座211中心处的部分气体喷头222的气流对临近的该多个喷嘴孔7的气流带来影响，使对比文件4中的晶片20正常浮起以避免应力损伤，可以省略掉该部分气体喷头222，同时为了使剩余的气体喷头222可以获得均匀的气流，可以使这些剩余的气体喷头222形成在一个以支撑座211中心处为圆心的圆周上。这一做法属于本领域的公知常识。
对于权利要求4-8，对比文件4（参见说明书第21-31段，附图1-3）公开了气体供给装置225、气体流量控制器224、气体过滤装置223、气体供给管路221、气体喷头222（相当于第一注入口）依次连接；对比文件1（参见说明书第3页第3段到第6页第5段，附图1-3）公开了由供气源8通过位于喷嘴部件4中的管路，将气体送到喷嘴孔7（相当于第二注入口），氮气13的流量根据基板6的大小及重量而有所不同（相当于具有第二流量控制器）。并且对本领域技术人员来说，为了使从气源和气体供给装置输送过来的气体能够更为平缓，不会因为突变的压力而影响基板的起伏，因此可以通过设置中空腔体并与支撑座211相连的方式，使气体得到过渡；同时为了节约装置的空间，可以使旋转轴的上端与该腔体连接、下端与驱动器连接，气体管路收纳在该腔体中的方式；本领域技术人员在对比文件4的气体管路中具有气体过滤装置223的技术启示下，为了避免气体对基板带来影响，可以在对比文件1的气体管路中也安装气体过滤装置以净化气体；采用磁流体密封的方式，可以有效地阻止气体泄露。这些做法都属于本领域的公知常识。
对于权利要求9-10，对比文件4（参见说明书第21-31段，附图1-3）公开了多个定位件212布置在支撑座211顶表面，接触晶片20的外周边缘，用以夹持晶片20。为了防止晶片20移动，在定位销上加工出槽状结构以卡合工件，以及由独立气缸来提供机械部件运动的动力，都属于本领域公知常识。
对于权利要求11，对比文件1（参见说明书第2页第4段，第3页第3段到第6页第5段，附图1-3）公开了支持基板6的可旋转的卡盘3，其上表面具有呈垂直方向突出的多个卡爪5（相当于导柱），卡爪5可在与基板6的外周接触支持基板6的状态和脱离基板6的外周的状态之间移动。
对于权利要求12，其附加技术特征“终端执行器向上移动，从第二注入口喷射出的气体使基板随着终端执行器上升并一直抵靠在终端执行器的抵接部的底表面”属于方法技术特征，是独立权利要求1中“第二注入口的气流增加使得基板上升并抵靠在抵接部的底面，接触传感器检测到基板与抵接部接触，推移部从基板的一侧推动基板移动直至基板抵达止挡部”的一个中间状态，在最终的“基板支撑装置”中并不存在上述的中间状态。因此，上述附加技术特征对于产品权利要求的“基板支撑装置”的来说，其限定只是“基板、终端执行器、终端执行器的抵接部”，而上述技术特征已经在独立权利要求1中被评述过，在此不再重复。
因此，在权利要求2-12所引用的权利要求不具备创造性的基础上，权利要求2-12也不备创造性。
3、对复审请求人相关意见的评述
针对复审请求人在复审无效宣告程序意见陈述书中所陈述的意见，合议组认为：复审请求人在权利要求1中所增加的关于终端执行器抓取基板方式的技术特征，属于方法技术特征，其对于主题类型为“基板支撑装置”的产品权利要求的独立权利要求1的限定范围，仅体现在产品本身。基于此，这些特征对于产品权利要求1的具体限定为“具有可以从基板背面移动到基板的终端执行器、第一注入口、第二注入口、接触传感器、抵接部、推动部，基板固定于终端执行器内”，而关于上述特征的评述，具体参见针对权利要求1的评述内容。因此，复审请求人陈述的意见不具有说服力。
在上述程序的基础上，合议组依法作出如下审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年08月03日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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