发明创造名称：用于双侧化学机械平面化垫调节器的工具
外观设计名称：
决定号：183032
决定日：2019-07-03
委内编号：1F260654
优先权日：2012-05-04
申请（专利）号：201380030940.9
申请日：2013-05-03
复审请求人：圣戈班磨料磨具有限公司 法国圣戈班磨料磨具公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：田书凤
合议组组长：罗崇举
参审员：吴海涛
国际分类号：H01L21/304
外观设计分类号：
法律依据：专利法第33条
决定要点：如果某项权利要求中经修改所增加的技术特征仅在原始说明书中有记载，但是整体来说，增加了该技术特征的该权利要求的技术方案没有在原始说明书和权利要求书中记载，也不能由原始说明书和权利要求书记载的信息直接地、毫无疑义地确定，则该权利要求的修改超出了原始说明书和权利要求书记载的范围。
全文：
本复审请求审查决定涉及申请号为201380030940.9、名称为“用于双侧化学机械平面化垫调节器的工具”的PCT发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为圣戈班磨料磨具有限公司、法国圣戈班磨料磨具公司，申请日为2013年05月03日，优先权日为2012年05月04日，公开日为2015年03月25日，进入中国国家阶段日为2014年12月11日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年06月27日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-11不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定认为：（1）独立权利要求1与最接近的现有技术对比文件1（US2010/0248595A1，公开日为2010年09月30日）的区别技术特征属于本领域公知常识，因此权利要求1相对于对比文件1与本领域公知常识的结合不具备创造性。（2）从属权利要求2-11的附加技术特征属于本领域公知常识，因此权利要求2-11也不具备创造性。
驳回决定所依据的文本为：申请人于2017年12月04日提交的权利要求第1-11项，以及于进入中国国家阶段日2014年12月11日提交的说明书第[0001]-[0252]段、说明书附图图1-29和图32A-44、说明书摘要、摘要附图；依据专利合作条约第28条或者第41条提交的修改的说明书附图图30-31C。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种工具，其包括：
保持器，所述保持器具有被构造成用以联接到双侧化学机械平面化(CMP)垫调节器的第一表面、与所述第一表面相对的第二表面、位于所述保持器内的内部腔体、位于所述内部腔体内的磁性材料，封装所述内部腔体的顶盖、和被构造以在所述内部腔体上密封所述顶盖的焊接，其中所述第二表面相对于所述内部腔体是无缝的，并且所述内部腔体容纳磁性材料。
2. 根据权利要求1所述的工具，其中所述第二表面被抛光，使得所述顶盖和第二表面是平齐的且无缝的。
3. 根据权利要求2所述的工具，其中所述保持器和顶盖由相同的材料形成，其中所述保持器和顶盖由不同的材料形成。
4. 根据权利要求1或2所述的工具，其中所述第二表面不含宏观凹槽和突起。
5. 根据权利要求1或2所述的工具，其中所述第二表面具有的表面粗糙度不大于32微英寸。
6. 根据权利要求2所述的工具，其中所述第二表面和所述顶盖具有表面粗糙度，在所述第二表面和所述顶盖的表面粗糙度之间存在表面粗糙度相对差，所述第二表面和所述顶盖之间的所述表面粗糙度相对差不大于20％。
7. 根据权利要求1或2所述的工具，其还包括双侧CMP垫调节器，所述保持器和双侧CMP垫调节器可移除地联接，使得所述双侧CMP垫调节器相对于所述保持器具有可翻转的取向。
8. 根据权利要求1或2所述的工具，其中所述双侧CMP垫调节器包括基底，所述基底具有接合结构，所述接合结构被构造成用以与所述保持器接合。
9. 根据权利要求1或2所述的工具，其中所述磁性材料包括永磁体。
10. 根据权利要求1或2所述的工具，其中所述双侧CMP垫调节器包括基底，所述基底具有接合结构，所述接合结构被构造成用以与所述保持器接合。
11. 根据权利要求1或2所述的工具，其中所述磁性材料是与所述保持器分开的磁性物体。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年09月13日向国家知识产权局提出了复审请求，未对申请文件进行修改。复审请求人认为：（1）对比文件1中的靠近板1201的第二面的部分不能相当于本申请权利要求1中的顶盖。在本申请权利要求1中，顶盖焊接至内部腔体，但可与内部腔体分离；在对比文件1中，板1201是完整的部件，对比文件1没有任何内容教导靠近板1201的第二面的部分可视为板1201的单独的部分。（2）本申请中的被构造以在内部腔体上密封顶盖的焊接保护磁体免受腐蚀，并可在不损害工具的本体的情况下通过移除焊接而被移除；对比文件1中的靠近板1201的第二面的部分不具有这种功能。（3）对比文件1没有必要插入焊接以密封工具，本领域技术人员没有理由将额外的且无用的焊接插入到对比文件1附图12A所示的工具中。由于对比文件1没有意识到设置可移除的顶盖的需求，本领域技术人员不会以破坏完整工具的方式修改对比文件1附图12A所示的工具以实现发明。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年09月19日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为：首先对比文件1与本申请都是用于化学机械平面化垫调节器的工具，且对比文件1与本申请都是通过在保持器的第二表面附近设置磁体材料以避免CMP垫调节器损伤被抛光的敏感电子部件，可见对比文件1公开了本申请的主要发明构思。其次在对比文件1的附图22实施例中公开了（参见说明书第[0158]段、附图22）：磁体2209在板2201（即保持器）的底表面（即第二表面）处被定向，使得它并不在所有侧面上被该板2201包围并且是从该板2201的背表面2255可接近的，这可能有助于移除该磁体2209用于维护或更换。也就是说实际上该实施例的板2201是具有腔体的，磁体2209放置于该腔体中，如此才可以方便地维护和更换磁体2209，而该实施例与本申请权利要求1的区别仅在于“封装所述内部腔体的顶盖、和被构造以在所述内部腔体上密封所述顶盖的焊接，其中所述第二表面相对于所述内部腔体是无缝的”。基于该区别技术特征，本申请的权利要求1所要保护的技术方案实际要解决的技术问题是：如何保护磁体免受腐蚀。对比文件1的附图12A的实施例公开了（参见说明书第[0135]-[0137]段、附图12A）：在板1201（即保持器）的第二表面附近埋有磁体材料1213-1215，所述磁体材料1213-1215在所有侧面上被板1201的材料完全包围，而通过将磁体材料的所有侧面被板1201的材料完全包围同样能够使磁体免受腐蚀。也就是在该实施例中给出了将磁体材料设置于一封闭的环境中以保护磁体材料免受腐蚀的技术启示，在此启示下，当本领域的技术人员在附图22实施例中面对如何保护磁体免受腐蚀的技术问题时，有动机在磁体2209的暴露面上设置一密封腔体的顶盖，使所述磁体材料处于一封闭的腔体环境中，从而保护磁体材料免受腐蚀。另外，为保证腔体内的密闭性，而将腔体与顶盖进行焊接，以实现第二表面相对于所述内部腔体是无缝的，是本领域的惯用技术手段，对比文件1的板2201包括金属材料，采用无缝焊接的方式也是易于想到和实现的。由此可见，在对比文件1的附图22实施例的基础上结合附图12A的实施例以及本领域的惯用技术手段以获得本申请权利要求1所要求保护的技术方案，对所属技术领域的技术人员来说是显而易见的，因此该权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备创造性。因而坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2018年11月22日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1-2、4-11不具备专利法第22条第3款规定的创造性，具体为：（1）独立权利要求1与最接近的现有技术对比文件1的区别技术特征属于本领域常规技术手段，因此权利要求1相对于对比文件1与本领域常规技术手段的结合不具备创造性。（2）从属权利要求2、4-6的附加技术特征属于本领域技术人员的常规做法，从属权利要求7-8、10的附加技术特征被对比文件1公开，从属权利要求9、11的附加技术特征属于本领域常规技术手段，因此权利要求2、4-11也不具备创造性。此外，还指出了从属权利要求3的保护范围不清楚，因而不符合专利法第26条第4款的规定，即使克服该缺陷，由于其附加技术特征或被对比文件1公开，或属于本领域技术人员的常规做法，权利要求3也不具备创造性。
复审请求人于2019年01月04日提交了意见陈述书，同时提交了经修改的权利要求书（包括权利要求第1-11项），其中在独立权利要求1中增加了技术特征“所述保持器包括在第一表面处的第一磁场强度(H1)、在与所述第一表面相对的第二表面处的第二磁场强度(H2)，并且其中所述第一磁场强度(H1)和所述第二磁场强度(H2)限定的比率(H1:H2)为至少约1.1:1”。复审请求人认为：对比文件1没有公开、教导或建议CMP垫具有在第一表面处的第一磁场强度（H1）、在与所述第一表面相对的第二表面处的第二磁场强度（H2），并且所述第一磁场强度（H1）和所述第二磁场强度（H2）限定的比率（H1：H2）为至少约1.1:1。至少基于以上理由，修改后的权利要求1相比于对比文件1具有创造性。同理，权利要求2-11相比于对比文件1也具有创造性。复审请求人新修改的权利要求1如下：
“1. 一种工具，其包括：
保持器，所述保持器具有被构造成用以联接到双侧化学机械平面化(CMP)垫调节器的第一表面、与所述第一表面相对的第二表面、位于所述保持器内的内部腔体、位于所述内部腔体内的磁性材料，封装所述内部腔体的顶盖、和被构造以在所述内部腔体上密封所述顶盖的焊接，其中所述第二表面相对于所述内部腔体是无缝的，并且所述内部腔体容纳磁性材料，其中所述保持器包括在第一表面处的第一磁场强度(H1)、在与所述第一表面相对的第二表面处的第二磁场强度(H2)，并且其中所述第一磁场强度(H1)和所述第二磁场强度(H2)限定的比率(H1:H2)为至少约1.1:1。”
合议组于2019年02月14日向复审请求人发出复审通知书，指出：（1）虽然权利要求1中所增加的技术特征在原始说明书中有记载，但是增加了该技术特征的权利要求1技术方案的整体仍不能由原始说明书和权利要求书记载的信息直接地、毫无疑义地确定，权利要求1的修改不符合专利法第33条的规定。同时提醒复审请求人，国家知识产权局原审查部门在2016年04月25日发出的第一次审查意见通知书中已经引用对比文件2（US2004/0137829A1，公开日为2004年07月15日）评述过关于磁场强度的特征，对于保持器的第一表面处的第一磁场强度与第二表面处的第二磁场强度之间的大小关系的具体设置，本领域技术人员为了使保持器更好地吸附保持双侧CMP垫调节器，很容易想到将靠近双侧CMP垫调节器的第一表面处的第一磁场强度设置为大于远离双侧CMP垫调节器的第二表面处的第二磁场强度，这不需付出创造性劳动。（2）从属权利要求3的保护范围不清楚，因而不符合专利法第26条第4款的规定。
复审请求人于2019年03月25日提交了意见陈述书，同时提交了经修改的权利要求书（包括权利要求第1-11项），其修改为：删除独立权利要求1中的技术特征“所述内部腔体容纳磁性材料”且将所述第一磁场强度(H1)和所述第二磁场强度(H2)限定的比率(H1:H2)修改为“至少约5:1”；删除从属权利要求3的技术特征“其中所述保持器和顶盖由不同的材料形成”。复审请求人认为：（1）尽管本申请说明书中关于附图42的部分没有文字记载第一磁场强度和第二磁场强度，但保持器4202被描述为具有磁性材料，其必然会在保持器4202的任一面上产生磁场强度。因此，本领域技术人员能够直接地、毫无疑义地确定针对保持器3002（其基本上包括与保持器4202相同的磁体/磁性材料）所公开的H1和H2之间的关系可以应用于附图42中的保持器4202。此外，将权利要求1中的H1：H2限定为“至少约5：1”。综上，修改后的权利要求1没有超出原说明书和权利要求书记载的范围，符合专利法第33条的规定。（2）对比文件1没有公开、教导或建议CMP垫具有在第一表面处的第一磁场强度（H1）、在与所述第一表面相对的第二表面处的第二磁场强度（H2），并且所述第一磁场强度（H1）和所述第二磁场强度（H2）限定的比率（Hl：H2）为至少约5：1。此外，对比文件1或本领域公知常识均没有提供教导或建议使得本领域技术人员有动机改变磁体位置从而使一面相对于另一面的磁场强度不同。至少基于以上理由，修改后的权利要求1相比于对比文件1具有创造性。同理，权利要求2-11相比于对比文件1也具有创造性。
复审请求人新提交的权利要求书如下：
“1. 一种工具，其包括：
保持器，所述保持器具有被构造成用以联接到双侧化学机械平面化(CMP)垫调节器的第一表面、与所述第一表面相对的第二表面、位于所述保持器内的内部腔体、位于所述内部腔体内的磁性材料，封装所述内部腔体的顶盖、和被构造以在所述内部腔体上密封所述顶盖的焊接，其中所述第二表面相对于所述内部腔体是无缝的，并且其中所述保持器包括在第一表面处的第一磁场强度(H1)、在与所述第一表面相对的第二表面处的第二磁场强度(H2)，并且其中所述第一磁场强度(H1)和所述第二磁场强度(H2)限定的比率(H1:H2)为至少约5:1。
2. 根据权利要求1所述的工具，其中所述第二表面被抛光，使得所述顶盖和第二表面是平齐的且无缝的。
3. 根据权利要求2所述的工具，其中所述保持器和顶盖由相同的材料形成。
4. 根据权利要求1或2所述的工具，其中所述第二表面不含宏观凹槽和突起。
5. 根据权利要求1或2所述的工具，其中所述第二表面具有的表面粗糙度不大于32微英寸。
6. 根据权利要求2所述的工具，其中所述第二表面和所述顶盖具有表面粗糙度，在所述第二表面和所述顶盖的表面粗糙度之间存在表面粗糙度相对差，所述第二表面和所述顶盖之间的所述表面粗糙度相对差不大于20％。
7. 根据权利要求1或2所述的工具，其还包括双侧CMP垫调节器，所述保持器和双侧CMP垫调节器可移除地联接，使得所述双侧CMP垫调节器相对于所述保持器具有可翻转的取向。
8. 根据权利要求1或2所述的工具，其中所述双侧CMP垫调节器包括基底，所述基底具有接合结构，所述接合结构被构造成用以与所述保持器接合。
9. 根据权利要求1或2所述的工具，其中所述磁性材料包括永磁体。
10. 根据权利要求1或2所述的工具，其中所述双侧CMP垫调节器包括基底，所述基底具有接合结构，所述接合结构被构造成用以与所述保持器接合。
11. 根据权利要求1或2所述的工具，其中所述磁性材料是与所述保持器分开的磁性物体。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以依法作出复审请求审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人于2019年03月25日答复复审通知书时提交了经修改的权利要求书（包括权利要求第1-11项），上述修改符合专利法实施细则第61条第1款的规定。因此，本复审请求复审决定依据的文本为：复审请求人于2019年03月25日提交的权利要求第1-11项，以及于进入中国国家阶段日2014年12月11日提交的说明书第[0001]-[0252]段、说明书附图图1-29和图32A-44、说明书摘要、摘要附图；依据专利合作条约第28条或者第41条提交的修改的说明书附图图30-31C。
2、具体理由的阐述
专利法第33条规定：申请人可以对其专利申请文件进行修改，但是，对发明和实用新型专利申请文件的修改不得超出原说明书和权利要求书记载的范围，对外观设计专利申请文件的修改不得超出原图片或者照片表示的范围。
如果某项权利要求中经修改所增加的技术特征仅在原始说明书中有记载，但是整体来说，增加了该技术特征的该权利要求的技术方案没有在原始说明书和权利要求书中记载，也不能由原始说明书和权利要求书记载的信息直接地、毫无疑义地确定，则该权利要求的修改超出了原始说明书和权利要求书记载的范围。
修改后的权利要求1中增加了技术特征“其中所述保持器包括在第一表面处的第一磁场强度(H1)、在与所述第一表面相对的第二表面处的第二磁场强度(H2)，并且其中所述第一磁场强度(H1)和所述第二磁场强度(H2)限定的比率(H1:H2)为至少约5:1”，虽然这一技术特征在原始说明书中有记载，但是增加了该技术特征的权利要求1技术方案的整体仍不能由原始说明书和权利要求书记载的信息直接地、毫无疑义地确定，理由如下：权利要求1的具有“在所述内部腔体上密封所述顶盖的焊接”的保持器对应于说明书附图42的技术方案，如附图42所示，由于顶盖密封内部腔体，位于内部腔体中的磁性材料远离保持器的第一表面而更接近保持器的第二表面，附图42的技术方案中没有限定第一表面处的第一磁场强度与第二表面处的第二磁场强度之间的大小关系；如本申请说明书附图31A-31C所示，保持器的磁性材料的布置可以有多种情况，而对于每一种情况，本申请也未对应给出其中第一表面处的第一磁场强度与第二表面处的第二磁场强度之间的大小关系，因此，不能直接地、毫无疑义地确定如附图42布置的保持器的第一表面处的第一磁场强度与第二表面处的第二磁场强度之间的大小关系。权利要求1的修改超出了原说明书和权利要求书记载的范围，不符合专利法第33条的规定。
3、对复审请求人相关意见的评述
针对复审请求人的前述意见，合议组认为：
（1）由说明书的记载可以直接地、毫无疑义地确定的是，在保持器4202的任一面上产生磁场强度。但是保持器3002可以有不同的构成：附图31A的“磁性材料M是保持器的一部分”、附图31B的“磁性材料M是保持器的整个材料”、附图31C的“磁性材料M位于保持器内且与保持器分开”，其中附图31C的保持器与附图42中的保持器4202相类似。对于磁场强度的比率，说明书仅是针对笼统的保持器3002（附图30），并未给出每种具体构成的保持器（附图31A-31C）的磁场强度的比率，而且，说明书还记载了第一磁场强度(H1)可大于也可小于第二磁场强度(H2)，因此，不能直接地、毫无疑义地由笼统的保持器3002的不确定的磁场强度比率得到附图42中的保持器4202两表面处的磁场强度比率的大小关系以及具体比值。
（2）针对创造性：国家知识产权局原审查部门在2016年04月25日发出的第一次审查意见通知书中已经引用对比文件2（US2004/0137829A1，公开日为2004年07月15日）评述过关于磁场强度的特征，对于保持器的第一表面处的第一磁场强度与第二表面处的第二磁场强度之间的大小关系的具体设置，本领域技术人员为了使保持器更好地吸附保持双侧CMP垫调节器，很容易想到将靠近双侧CMP垫调节器的第一表面处的第一磁场强度设置为大于远离双侧CMP垫调节器的第二表面处的第二磁场强度，这不需付出创造性劳动。复审请求人在针对创造性陈述意见时未考虑对比文件2。
综上，复审请求人所陈述的理由不能被接受。
基于上述理由，合议组依法作出如下复审请求审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年06月27日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
郑重声明：本文版权归原作者所有，转载文章仅为传播更多信息之目的，如作者信息标记有误，请第一时间联系我们修改或删除，多谢。
