发明创造名称：柔性OLED的制作方法及柔性OLED
外观设计名称：
决定号：182656
决定日：2019-06-28
委内编号：1F258611
优先权日：
申请（专利）号：201610439643.5
申请日：2016-06-17
复审请求人：深圳市华星光电技术有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：赵颖
合议组组长：徐颖
参审员：张念国
国际分类号：H01L51/00;H01L51/56;H01L51/52
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果权利要求与作为最接近现有技术的对比文件相比，存在区别技术特征，而该区别技术特征是本领域的公知常识，那么获得权利要求请求保护的技术方案对于本领域技术人员来说是显而易见的，该权利要求不具有创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201610439643.5，名称为“柔性OLED的制作方法及柔性OLED”的发明专利申请(下称本申请)。申请人为深圳市华星光电技术有限公司。本申请的申请日为2016年06月17日，公开日为2016年08月17日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年05月04日发出驳回决定，驳回了本申请，其中引用了对比文件1：CN105428393A，公开日为2016年03月23日。
驳回理由是：权利要求1-9不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
具体的：权利要求1与对比文件1的区别为：柔性磁性薄膜为金属薄膜，金属薄膜的材料为因瓦合金，金属薄膜的厚度为10μm～100μm；及对OLED器件进行封装。然而，在柔性OLED器件中，常用的柔性基底为金属薄膜、聚合物薄膜和超薄玻璃，这是本领域的公知常识，在对比文件1的基础上结合此公知常识，在为了实现承载基板与柔性基底的无损分离时，也就是要求第一柔性基底具有磁性时，本领域技术人员容易想到选择磁性金属薄膜作为第一柔性基底，以达到柔性基底与刚性承载基板的无损分离，还可以避免水汽对OLED功能层的影响，提高其可靠性，其技术效果是可以预期的；而对于具有磁性金属薄膜具体选择为因瓦合金即镍铁合金，及金属薄膜的厚度选择10μm～100μm，这是本领域的常规选择；同时，在制备完柔性OLED的功能层之后，对其进行封装以防外界环境干扰，提高可靠性，这是本领域的公知常识。因此，权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。对于其他并列技术方案，对比文件1公开了第二柔性基底可以为有机树脂，故选择聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚醚醚酮中的一种或多种，也是本领域的常规选择。权利要求2是权利要求1的从属权利要求。对比文件1已经公开了对刚性基板进行消磁处理，使刚性基板的磁性消失，将刚性基板从第一柔性基底上移除。然而，选择在形成OLED器件之后封装之前或OLED器件封装之后移除承载基底，这是本领域的常规选择。权利要求3-5的附加技术特征是本领域的常规技术手段或公知常识；权利要求2-5不具备创造性。权利要求6与对比文件1的区别在于：柔性磁性薄膜为金属薄膜，金属薄膜的材料为因瓦合金，金属薄膜的厚度为10μm～100μm；位于OLED器件及聚合物薄膜上且包覆OLED器件的顶面和侧面的封装薄膜。同样的区别特征的评述与权利要求1一致。同时，在制备完柔性OLED的功能层之后，对其进行封装以防外界环境干扰，提高可靠性，这是本领域的公知常识；对于封装结构具体设置为位于OLED器件及聚合物薄膜上且包覆OLED器件的顶面和侧面的封装薄膜，属于本领域的常规设计。因此，权利要求6不具备专利法第22条第3款规定的创造性。权利要求7的附加技术特征属于本领域的常规选择，权利要求7不具备创造性。权利要求8与对比文件1的区别在于柔性磁性薄膜为金属薄膜，金属薄膜的材料为因瓦合金，金属薄膜的厚度为10μm～100μm；封装结构：位于聚合物薄膜及OLED器件上方的封装盖板、位于聚合物薄膜与封装盖板之间且位于OLED器件外围的胶材、及位于聚合物薄膜与封装盖板之间且位于胶材内侧的干燥剂。同样的区别特征的评述与权利要求1一致。同时，在制备完柔性OLED的功能层之后，对其进行封装以防外界环境干扰，提高可靠性，这是本领域的公知常识；而封装结构具体设置为位于聚合物薄膜及OLED器件上方的封装盖板、位于聚合物薄膜与封装盖板之间且位于OLED器件外围的胶材、及位于聚合物薄膜与封装盖板之间且位于胶材内侧的干燥剂，属于本领域的常规设计。因此，权利要求8不具备专利法第22条第3款规定的创造性。权利要求9的附加技术特征属于本领域的常规选择，权利要求9不具备创造性。
驳回决定所依据的文本为：2016年06月17日提交的说明书摘要、说明书第1-90段、摘要附图、说明书附图图1-5；2018年03月22日提交的权利要求第1-9项。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种柔性OLED的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、提供磁性基板(10)与柔性磁性薄膜(20)，所述磁性基板(10)的磁性可控，通过磁力吸附使所述柔性磁性薄膜(20)固定于磁性基板(10)上；
步骤2、在所述柔性磁性薄膜(20)上形成聚合物薄膜(30)；
步骤3、在所述聚合物薄膜(30)上形成OLED器件(40)；
步骤4、对OLED器件(40)进行封装；
所述柔性磁性薄膜(20)为金属薄膜；所述聚合物薄膜(30)的材料包括聚酰亚胺、聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚醚醚酮中的一种或多种；
所述金属薄膜的材料为因瓦合金；
所述金属薄膜的厚度为10μm～100μm。
2. 如权利要求1所述的柔性OLED的制作方法，其特征在于，还包括：在步骤3之后步骤4之前、或者在步骤4之后，对磁性基板(10)进行消磁处理，使磁性基板(10)的磁性消失，将磁性基板(10)从柔性磁性薄膜(20)上移除。
3. 如权利要求1所述的柔性OLED的制作方法，其特征在于，所述步骤4为：在所述聚合物薄膜(30)及OLED器件(40)上形成封装薄膜(50)，所述封装薄膜(50)包覆所述OLED器件(40)的顶面和侧面，完成对OLED器件(40)的封装；所述封装薄膜(50)为由多层有机薄膜与多层无机薄膜交叠形成的复合薄膜。
4. 如权利要求1所述的柔性OLED的制作方法，其特征在于，所述步骤4包括：
步骤41、在聚合物薄膜(30)上位于所述OLED器件(40)外围的区域涂布一圈胶材(60)，在聚合物薄膜(30)上位于胶材(60)内侧的区域设置干燥剂(70)；
步骤42、提供一封装盖板(80)，将所述封装盖板(80)与所述聚合物薄 膜(30)上设有胶材(60)及干燥剂(70)的一面对应贴合；
步骤43、对所述胶材(60)进行固化，完成对OLED器件(40)的封装。
5. 如权利要求4所述的柔性OLED的制作方法，其特征在于，所述胶材(60)的粘度为100～1000Pa?s；
所述干燥剂(70)为液态干燥剂，所述液态干燥剂的粘度为0.4～0.5Pa?s，所述步骤41中，将所述液态干燥剂涂布于聚合物薄膜(30)上位于胶材(60)内侧的区域；
所述封装盖板(80)为透明柔性玻璃基板；
所述步骤43中，对所述胶材(60)进行固化的方法包括UV照射固化、及加热固化中的一种或多种。
6. 一种柔性OLED，其特征在于，包括柔性磁性薄膜(20)、设于所述柔性磁性薄膜(20)上的聚合物薄膜(30)、设于所述聚合物薄膜(30)上的OLED器件(40)、及位于所述OLED器件(40)及聚合物薄膜(30)上且包覆所述OLED器件(40)的顶面和侧面的封装薄膜(50)；
所述柔性磁性薄膜(20)为金属薄膜；所述聚合物薄膜(30)的材料包括聚酰亚胺、聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚醚醚酮中的一种或多种；
所述金属薄膜的材料为因瓦合金；
所述金属薄膜的厚度为10μm～100μm。
7. 如权利要求6所述的柔性OLED，其特征在于，所述封装薄膜(50)为由多层有机薄膜与多层无机薄膜交叠形成的复合薄膜。
8. 一种柔性OLED，其特征在于，包括柔性磁性薄膜(20)、设于所述柔性磁性薄膜(20)上的聚合物薄膜(30)、设于所述聚合物薄膜(30)上的OLED器件(40)、位于所述聚合物薄膜(30)及OLED器件(40)上方的封装盖板(80)、位于所述聚合物薄膜(30)与封装盖板(80)之间且位于OLED器件(40)外围的胶材(60)、及位于所述聚合物薄膜(30)与封装盖板(80)之间且位于胶材(60)内侧的干燥剂(70)；
所述柔性磁性薄膜(20)为金属薄膜；所述聚合物薄膜(30)的材料包括聚酰亚胺、聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚醚醚酮中的一种或多种；
所述金属薄膜的材料为因瓦合金；
所述金属薄膜的厚度为10μm～100μm。
9. 如权利要求8所述的柔性OLED，其特征在于，所述干燥剂(70)为液态干燥剂，所述液态干燥剂的粘度为0.4～0.5Pa?s；所述封装盖板(80)为透明柔性玻璃基板。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服,于2018年08月16日向国家知识产权局提出了复审请求，同时修改了权利要求书，将原权利要求2的附加技术特征补入原权利要求1形成新的权利要求1，在原权利要求6、8中补入特征：“如权利要求1所述的柔性OLED的制作方法制得的”形成新权利要求5、7，删除原权利要求2，修改权利要求的编号。复审请求人认为：新权利要求1与对比文件1相比，具有以下区别技术特征：1.1、柔性磁性薄膜为金属薄膜；1.2、金属薄膜的材料为因瓦合金，金属薄膜的厚度为10μm-100μm；1.3、对OLED器件进行封装；1.4、在形成OLED器件之后于封装之前，或在封装之后使磁性基板的磁性消失，将磁性基板从柔性磁性薄膜上移除。
复审请求人新提交的权利要求1、5、7如下：
“1. 一种柔性OLED的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、提供磁性基板(10)与柔性磁性薄膜(20)，所述磁性基板(10)的磁性可控，通过磁力吸附使所述柔性磁性薄膜(20)固定于磁性基板(10)上；
步骤2、在所述柔性磁性薄膜(20)上形成聚合物薄膜(30)；
步骤3、在所述聚合物薄膜(30)上形成OLED器件(40)；
步骤4、对OLED器件(40)进行封装；
所述柔性磁性薄膜(20)为金属薄膜；所述聚合物薄膜(30)的材料包括聚酰亚胺、聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚醚醚酮中的一种或多种；
所述金属薄膜的材料为因瓦合金；
所述金属薄膜的厚度为10μm～100μm；
所述柔性OLED的制作方法还包括：在步骤3之后步骤4之前、或者在步骤4之后，对磁性基板(10)进行消磁处理，使磁性基板(10)的磁性消失，将磁性基板(10)从柔性磁性薄膜(20)上移除。”
“5. 一种如权利要求1所述的柔性OLED的制作方法制得的柔性OLED，其特征在于，包括柔性磁性薄膜(20)、设于所述柔性磁性薄膜(20)上的聚合物薄膜(30)、设于所述聚合物薄膜(30)上的OLED器件(40)、及位于所述OLED器件(40)及聚合物薄膜(30)上且包覆所述OLED器件(40)的顶面和侧面的封装薄膜(50)；
所述柔性磁性薄膜(20)为金属薄膜；所述聚合物薄膜(30)的材料包括聚酰亚胺、聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚醚醚酮中的一种或多种；
所述金属薄膜的材料为因瓦合金；
所述金属薄膜的厚度为10μm～100μm。”
“7. 一种如权利要求1所述的柔性OLED的制作方法制得的柔性OLED，其特征在于，包括柔性磁性薄膜(20)、设于所述柔性磁性薄膜(20)上的聚合物薄膜(30)、设于所述聚合物薄膜(30)上的OLED器件(40)、位于所述聚合物薄膜(30)及OLED器件(40)上方的封装盖板(80)、位于所述聚合物薄膜(30)与封装盖板(80)之间且位于OLED器件(40)外围的胶材(60)、及位于所述聚合物薄膜(30)与封装盖板(80)之间且位于胶材(60)内侧的干燥剂(70)；
所述柔性磁性薄膜(20)为金属薄膜；所述聚合物薄膜(30)的材料包括聚酰亚胺、聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚 醚醚酮中的一种或多种；
所述金属薄膜的材料为因瓦合金；
所述金属薄膜的厚度为10μm～100μm。”
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年08月29日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。原审查部门在前置审查意见书中指出:首先，虽然对比文件1和本申请声称要解决的技术问题不同，但是对比文件1的技术方案本质上也能解决本申请要解决的技术问题，且能带来本申请的技术效果，即实现柔性基板与载体基板的无损分离。再者，在柔性OLED器件中，阻隔水汽是必然要考虑的因素，在对比文件1中是通过在第二柔性基底上引入包括氮化硅薄膜和氧化硅薄膜的平坦层来实现水汽阻隔。然而，本领域公知，在柔性OLED器件中，常用的柔性基底为金属薄膜、聚合物薄膜和超薄玻璃，这是本领域的公知常识，且上述柔性基底各有优缺点，其中，金属薄膜柔性基底只有在低于0.1mm时，才能展现优异的可弯曲性，且金属薄膜柔性基底具有致密的结构，对于水汽的阻挡效果比聚合物基底好。上述技术方案并不会增加切割难度，理由为：本领域技术人员知晓，该第一柔性衬底厚度很薄，例如对比文件1中公开第一柔性衬底为5微米~10微米，在本领域中，切割该厚度的金属薄膜，只需要利用常规工艺即可，其切割难度肯定低于包括氮化硅薄膜和氧化硅薄膜（氮化硅薄膜和氧化硅为陶瓷材料，其硬度比金属材料更高）的平坦层的切割难度和工艺要求，在将第一柔性基底设置为金属薄膜时，显而易见的可以省略氮化硅薄膜和氧化硅薄膜的设置，事实上切割难度不会增加。对于消磁处理的工艺，对比文件1公开在柔性母板的切割及绑定之后进行消磁处理，然而，在本领域中，在完成OLED的切割之后，往往需要进行封装等工艺，这与本申请限定的在对OLED器件封装之前进行消磁处理，并不矛盾，且是本领域常规的OLED制备工序流程。因此坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年02月01日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1-8不具备专利法第22条第3款规定的创造性。合议组认为：对比文件1（说明书第107段）中公开了“本发明实施例提供的柔性显示面板，在进行诸如切割、绑定以及后续的贴附功能膜层(如盖板保护层等)时，由于第一柔性基底的磁性作用，可以使得其与能产生磁性的刚性基板配合，使具有磁性的刚性基板吸附母板中具有磁性的第一柔性基底，可以防止母板在切割的过程中发生翘曲。”这意味着公开了封装工艺，而且在封装工艺时，具有磁性作用。而常用的柔性基底为金属薄膜、聚合物薄膜和超薄玻璃，利用金属薄膜替代另一种柔性材料基底，是一种常规选择。金属薄膜的具体材料和厚度也同样是本领域的常规选择。这种选择没有带来预料不到的技术效果。因此复审请求人的理由不具有说服力。
复审请求人于2019年03月15日提交了意见陈述书，并提交了修改的权利要求书，在权利要求1中增加了技术特征“所述OLED器件(40)包括TFT层(41)、位于TFT层(41)上的有机发光层(42)、及位于所述有机发光层(42)上的保护层(43)”。复审请求人认为：新权利要求1具有的区别：（1）柔性磁性薄膜为金属薄膜；金属薄膜的材料为因瓦合金，金属薄膜的厚度为10μm-100μm；（2）、OLED器件包括TFT层、位于TFT层上的有机发光层、及位于所述有机发光层上的保护层。（3）、聚合物薄膜的材料还可包括聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚醚醚酮中的一种或多种；（4）、还可以在形成OLED器件之后于封装之前移除磁性基底。
复审请求人新提交的权利要求1如下：
“1. 一种柔性OLED的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、提供磁性基板(10)与柔性磁性薄膜(20)，所述磁性基板(10)的磁性可控，通过磁力吸附使所述柔性磁性薄膜(20)固定于磁性基板(10)上；
步骤2、在所述柔性磁性薄膜(20)上形成聚合物薄膜(30)；
步骤3、在所述聚合物薄膜(30)上形成OLED器件(40)；
步骤4、对OLED器件(40)进行封装；
所述柔性磁性薄膜(20)为金属薄膜；所述聚合物薄膜(30)的材料包括聚酰亚胺、聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚醚醚酮中的一种或多种；
所述金属薄膜的材料为因瓦合金；
所述金属薄膜的厚度为10μm～100μm；
所述柔性OLED的制作方法还包括：在步骤3之后步骤4之前、或者在步骤4之后，对磁性基板(10)进行消磁处理，使磁性基板(10)的磁性消失，将磁性基板(10)从柔性磁性薄膜(20)上移除；
所述OLED器件(40)包括TFT层(41)、位于TFT层(41)上的有机发光层(42)、及位于所述有机发光层(42)上的保护层(43)。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
复审请求人答复复审通知书时提交了新修改的权利要求第1-8项。经审查，上述修改符合专利法第33条和专利法实施细则第61条第1款的规定。本决定所针对的文本是：2016年06月17日提交的说明书摘要、摘要附图、说明书第1-90段、说明书附图图1-5、2019年03月15日提交的权利要求第1-8项。
关于创造性
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果权利要求与作为最接近现有技术的对比文件相比，存在区别技术特征，而区别技术特征是本领域的公知常识，那么获得权利要求请求保护的技术方案对于本领域技术人员来说是显而易见的，该权利要求不具有创造性。
在本复审决定中引用驳回决定和复审通知书中所引用的对比文件1，
即：对比文件1：CN105428393A 公开日：2016年03月23日
权利要求1-8不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（1）权利要求1请求保护一种柔性OLED的制作方法。对比文件1（参见说明书第[0052]-[0110]段及图1-7）公开了一种柔性显示面板，其具体可以为柔性有机电致发光器件（即柔性OLED）；并公开了其制作方法包括以下步骤：提供可具有磁性的刚性基板（即磁性基板），在刚性基板上形成具有磁性的第一柔性基底（即柔性磁性薄膜）；刚性基板的磁性可根据需要施加或消除（即刚性基板的磁性可控）；通过磁力吸附使第一柔性基底固定于具有磁性的刚性基板上；在具有磁性的第一柔性基底上形成聚酰亚胺或有机树脂的第二柔性基底（即聚合物薄膜）；在其上形成多个柔性OLED器件；对OLED器件进行封装。在封装和切割工艺之后，对刚性基板进行消磁处理，使刚性基板的磁性消失，将刚性基板从第一柔性基底上移除。OLED器件包括薄膜晶体管（即TFT层）、位于薄膜晶体管上的有机发光层。
因此，权利要求1与对比文件1相比，其区别在于：（1）柔性磁性薄膜为金属薄膜，金属薄膜的材料为因瓦合金，金属薄膜的厚度为10μm～100μm。（2）、位于有机发光层上的保护层。其实际解决的技术问题是选择替代的柔性材料以及保护有机发光器件。
然而，在柔性OLED器件中，常用的柔性基底为金属薄膜、聚合物薄膜和超薄玻璃，这是本领域的公知常识，而金属薄膜具体选择为因瓦合金，及金属薄膜的厚度选择10μm～100μm，这是本领域的常规选择；为了保护有机发光器件设置位于有机发光层上的保护层是本领域的公知常识。因此，在该对比文件1的基础上结合上述公知常识以获得该权利要求所要求保护的技术方案，对所属技术领域的技术人员来说是显而易见的，因此该权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，因而不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对于权利要求1的其他并列技术方案，聚合物薄膜的材料选择聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚醚醚酮中的一种或多种，是本领域的常用材料。选择在形成OLED器件之后封装之前移除承载基底，这是本领域的常规选择。因此权利要求1的其他并列技术方案也不具有突出的实质性特点和显著的进步，因而不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（2）、权利要求2是权利要求1的从属权利要求。对比文件1（参见说明书第[0052]-[0110]段及图1-7）公开了后续贴附功能膜层，如盖板保护层（即封装薄膜）。此外，使封装薄膜包覆OLED器件的顶面和侧面，完成对OLED器件的封装，这是本领域的公知常识；而选择封装薄膜为由多层有机薄膜与多层无机薄膜交叠形成的复合薄膜，这属于本领域的常规选择。因此，在其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（3）、权利要求3和4的附加技术特征涉及封装工艺步骤和封装部件的材料选择等。然而，这些步骤和材料选择，属于本领域的常规技术手段。因此，在其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（4）、权利要求5请求保护一种如权利要求1所述的柔性OLED的制作方法制得的柔性OLED。对比文件1（参见说明书第[0052]-[0110]段及图1-7））公开了一种柔性显示面板，其具体可以为柔性有机电致发光器件（即柔性OLED）；其中包括：具有磁性的第一柔性基底（即柔性磁性薄膜），设于磁性第一柔性基底上的第二柔性基底，为聚酰亚胺或有机树脂，即聚合物薄膜；在第二柔性基底之上的OLED器件。后续贴附功能膜层，如盖板保护层（即封装薄膜）。权利要求1的特征被对比文件1公开的部分参见上文评述。
由此可知，权利要求5与对比文件1相比，其区别在于：柔性磁性薄膜为金属薄膜，金属薄膜的材料为因瓦合金，金属薄膜的厚度为10μm～100μm；包覆OLED器件的顶面和侧面的封装薄膜。其实际解决的技术问题是选择替代的柔性材料以及保护OLED。
然而，在柔性OLED器件中，常用的柔性基底为金属薄膜、聚合物薄膜和超薄玻璃，这是本领域的公知常识，而金属薄膜具体选择为因瓦合金，及金属薄膜的厚度选择10μm～100μm，这是本领域的常规选择；使封装薄膜包覆OLED器件的顶面和侧面，完成对OLED器件的封装，这是本领域的公知常识；因此，在该对比文件1的基础上结合上述公知常识以获得该权利要求所要求保护的技术方案，对所属技术领域的技术人员来说是显而易见的，因此该权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，因而不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对于权利要求5的其他并列技术方案，聚合物薄膜的材料选择聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚醚醚酮中的一种或多种，是本领域的常用材料。选择在形成OLED器件之后封装之前移除承载基底，这是本领域的常规选择。因此权利要求5的其他并列技术方案也不具有突出的实质性特点和显著的进步，因而不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（5）、权利要求6是权利要求5的从属权利要求。封装薄膜选择为由多层有机薄膜与多层无机薄膜交叠形成的复合薄膜，属于本领域的常规选择。因此，在其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（6）、权利要求7请求保护一种如权利要求1所述的柔性OLED的制作方法制得的柔性OLED。对比文件1（参见说明书第[0052]-[0110]段及图1-7））公开了一种柔性显示面板，其具体可以为柔性有机电致发光器件（即柔性OLED）；其中包括：具有磁性的第一柔性基底（即柔性磁性薄膜），设于磁性第一柔性基底上的第二柔性基底，为聚酰亚胺或有机树脂，即聚合物薄膜；在第二柔性基底之上的OLED器件, 后续贴附功能膜层，如盖板保护层（即封装盖板）。权利要求1的特征被对比文件1公开的部分参见上文评述。
因此，权利要求7与对比文件1相比，其区别在于：柔性磁性薄膜为金属薄膜，金属薄膜的材料为因瓦合金，金属薄膜的厚度为10μm～100μm；位于聚合物薄膜与封装盖板之间且位于OLED器件外围的胶材、及位于聚合物薄膜与封装盖板之间且位于胶材内侧的干燥剂。其实际解决的技术问题是选择替代的柔性材料以及保护OLED。
然而，在柔性OLED器件中，常用的柔性基底为金属薄膜、聚合物薄膜和超薄玻璃，这是本领域的公知常识，而金属薄膜具体选择为因瓦合金，及金属薄膜的厚度选择10μm～100μm，这是本领域的常规选择；胶材和干燥剂等封装材料的设置也是本领域的公知常识；因此，在该对比文件1的基础上结合上述公知常识以获得该权利要求所要求保护的技术方案，对所属技术领域的技术人员来说是显而易见的，因此该权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，因而不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对于权利要求7的其他并列技术方案，聚合物薄膜的材料选择聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚醚醚酮中的一种或多种，是本领域的常用材料。选择在形成OLED器件之后封装之前移除承载基底，这是本领域的常规选择。因此权利要求7的其他并列技术方案也不具有突出的实质性特点和显著的进步，因而不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（7）、权利要求8是权利要求7的从属权利要求。然而，选择干燥剂和封装盖板的材料等参数，属于本领域的常规选择。因此，在其引用的权利要求不具备创造性时，该从属权利要求也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、对复审请求人相关意见的评述
复审请求人认为：新修改的权利要求1具有的区别：（1）柔性磁性薄膜为金属薄膜；金属薄膜的材料为因瓦合金，金属薄膜的厚度为10μm-100μm；（2）、OLED器件包括TFT层、位于TFT层上的有机发光层、及位于所述有机发光层上的保护层。（3）、聚合物薄膜的材料还可包括聚氨酯、聚醚砜树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯醇、及聚醚醚酮中的一种或多种；（4）、还可以在形成OLED器件之后于封装之前移除磁性基底。
合议组认为：（1）常用的柔性基底为金属薄膜、聚合物薄膜和超薄玻璃，利用金属薄膜替代另一种柔性材料基底，是一种常规选择。金属薄膜的具体材料和厚度也同样是本领域的常规选择。这种选择没有带来预料不到的技术效果。（2）复审请求人新增加的特征“OLED器件包括TFT层、位于TFT层上的有机发光层”被对比文件1公开，而“位于所述有机发光层上的保护层”是本领域的公知常识。（3）对比文件1公开了权利要求1中的聚合物薄膜材料“聚酰亚胺”，其它并列技术方案中采用类似材料是本领域的常规选择。（4）对比文件1公开了在封装之后移除磁性基底，其它并列技术方案中采用在形成OLED器件之后于封装之前移除磁性基底是本领域的常规选择。因此，复审请求人的意见陈述不具有说服力，合议组不予接受。
基于上述事实和理由，合议组依法作出如下审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年05月04日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,复审请求人可自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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