发明创造名称：基片导波的光学装置
外观设计名称：
决定号：182309
决定日：2019-06-26
委内编号：1F239198
优先权日：2006-08-22
申请（专利）号：201410512924.X
申请日：2007-08-21
复审请求人：鲁姆斯有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：杨婷
合议组组长：魏嵬
参审员：李闻
国际分类号：G02B27/00,G02B6/00,G02B27/28,G02B27/01
外观设计分类号：
法律依据：专利法实施细则第43条第1款
决定要点
：如果分案申请修改后的权利要求的技术方案在母案原申请文件中没有记载，也不能由母案原申请文件记载的内容直接地、毫无疑义地确定，则该修改超出母案原申请文件记载的范围，不符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
全文：
本复审请求涉及申请号为201410512924.X、名称为“基片导波的光学装置”的发明专利申请（下称本申请）。本申请是申请号为200780035587.8的PCT发明专利申请的分案申请。申请人为鲁姆斯有限公司。本申请的申请日为2007年08月21日，优先权日为2006年08月22日，分案申请递交日为2014年09月29日，公开日为2014年12月10日。
国家知识产权局专利实质审查部门以本申请权利要求1-42不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由于2017年08月23日驳回了本申请。驳回决定所针对的文本为：2016年10月25日提交的权利要求第1-42项、分案申请递交日2014年09月29日提交的说明书第1-18页、说明书附图第1-9页、说明书摘要及摘要附图。
驳回决定中引用了如下对比文件：
对比文件1：WO 2006/013565A1，公开日：2006年02月09日；
对比文件2：CN 1650215A，公开日：2005年08月03日。
驳回决定针对的权利要求书如下：
“1. 一种光学装置，包括：
光传输基片，具有输入孔径、以及互相平行的至少第一主要表面和第二主要表面、和边缘；
用于从所述基片耦出光波的至少一个部分反射面，该部分反射面位于所述基片中并且不平行于所述基片的主要表面；
光学设备，位于所述基片外部，用于耦合光波进入利用全内反射的所述基片中，
其中，所述光学设备具有输出孔径，所述光学设备的输出孔径按照光学方式被粘结到所述基片的输入孔径，位于紧邻基片输入孔径处的基片部分是基本透明的；以及
所述基片的输入孔径位于所述基片的两个主要表面之一的邻近，使得所述光波通过所述基片的主要表面被耦合进入所述基片中。
2. 权利要求1的光学装置，其中位于紧邻基片输入孔径处的基片部分不含任何光学元件。
3. 权利要求1的光学装置，其中所述光学设备包括有多个表面的至少一个透明棱镜。
4. 权利要求3的光学装置，还包括有至少两个表面的至少一个成像透镜。
5. 权利要求1的光学装置，还包括输入光波源。
6. 权利要求5的光学装置，还包括位于所述输入孔径与所述输入光波源之间光路中的至少一个延迟片。
7. 权利要求6的光学装置，其中所述延迟片是四分之一波片。
8. 权利要求4的光学装置，还包括输入光波源和位于所述输入孔径与所述输入光波源之间的光路中的至少一个延迟片，其中所述成像透镜和延迟片被放置在所述棱镜的一个表面邻近。
9. 权利要求6的光学装置，其中所述延迟片被放置在成像透镜与构成所述光学设备的棱镜的一个表面之间。
10. 权利要求4的光学装置，其中所述成像透镜的一个表面被用反射涂层覆盖。
11. 权利要求4的光学装置，其中所述成像透镜是平凸透镜。
12. 权利要求7的光学装置，还包括有至少两个表面的至少一个成像透镜，其中所述成像透镜按照光学方式被固定到所述四分之一波片。
13. 权利要求4的光学装置，其中所述成像透镜是准直透镜。
14. 权利要求3的光学装置，还包括至少一个附加的透明棱镜。
15. 权利要求14的光学装置，还包括至少一个偏振分束器。
16. 权利要求15的光学装置，其中所述偏振分束器被放置在第一透明棱镜的一个表面邻近。
17. 权利要求15的光学装置，其中所述偏振分束器被放置在所述第一透明棱镜与附加的透明棱镜之间。
18. 权利要求15的光学装置，其中所述偏振分束器是线栅偏振分束器。
19. 权利要求1的光学装置，还包括显示源，其中所述显示源产生图像光波，该光波被光学设备耦合进入利用全内反射的所述基片。
20. 权利要求19的光学装置，其中所述光波是线偏振的。
21. 权利要求19的光学装置，其中输入光波源被放置在一个所述透明棱镜的表面邻近。
22. 权利要求19的光学装置，其中所述光波被所述反射面耦合到所述基片之外。
23. 权利要求19的光学装置，还包括光源。
24. 权利要求23的光学装置，其中所述光源被放置在输入光波源邻近。
25. 权利要求23的光学装置，其中光学设备包括有多个表面的至少一个透明棱镜，而所述光源被放置在一个所述透明棱镜的表面邻近。
26. 权利要求15的光学装置，还包括至少一个附加的偏振分束器。
27. 权利要求3的光学装置，其中所述透明棱镜的一个表面是反射面。
28. 权利要求3的光学装置，其中所述透明棱镜的一个表面被以不透明的阻挡层涂敷。
29. 权利要求3的光学装置，其中所述透明棱镜的一个表面按照光学方式被固定到所述基片的一个主要表面。
30. 权利要求29的光学装置，其中所述透明棱镜在所述基片输入孔径处按照光学方式被固定到所述基片。
31. 权利要求4的光学装置，其中所述透明棱镜按照光学方式被固定到所述基片的第一主要表面，而所述成像透镜位于所述第一主要表面的相同侧。
32. 权利要求4的光学装置，其中所述透明棱镜按照光学方式被固定到所述基片的第一主要表面，而所述成像透镜位于第二主要表面侧。
33. 权利要求1的光学装置，其中至少一个所述部分反射面被用角度灵敏涂层涂敷。
34. 权利要求3的光学装置，还包括至少一个反射元件。
35. 权利要求34的光学装置，还包括位于所述基片与所述反射元件之间光路中的至少一个延迟片。
36. 权利要求35的光学装置，其中所述延迟片是四分之一波片。
37. 权利要求36的光学装置，其中所述透明棱镜按照光学方式 被固定到所述基片的第一主要表面，而所述反射元件位于第二主要表面侧。
38. 权利要求27的光学装置，其中所述反射面相对于所述基片的主要表面以一个角度倾斜。
39. 权利要求38的光学装置，其中所述反射面与所述基片的主要表面的法线之间的角度是在50°至60°之间。
40. 权利要求1的光学装置，其中所述部分反射面与所述基片的主要表面的法线之间的角度是在50°至60°之间。
41. 权利要求1的光学装置，其中中心耦合光波在基片内的离轴角是在62°至80°之间。
42. 一种光学装置，包括：
光传输基片，具有输入孔径、以及互相平行的至少第一主要表面和第二主要表面、和边缘；
用于从所述基片耦出光波的至少一个部分反射面，该部分反射面位于所述基片中并且不平行于所述基片的主要表面；
光学设备，用于耦合光波进入利用全内反射的所述基片中，
其中，具有输出孔径的所述光学设备位于所述基片外部，所述光学设备的输出孔径按照光学方式被粘结到该基片的该输入孔径，并且位于紧邻基片输入孔径处的基片部分是基本透明的并且不含有任何反射面，以及
所述基片的输入孔径位于所述基片的两个主要表面之一的邻近，使得所述光波通过所述基片的主要表面被耦合进入所述基片中。”
驳回决定中指出：（1）权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征在于：该权利要求所要求保护的光学装置中，光学设备的输出孔径是按照光学方式被粘接到基片的输入孔径，基片的输入孔径位于基片的两个主要表面之一的邻近，使得光波通过基片的主要表面被耦合进入基片中。上述区别技术特征的一部分被对比文件2公开了且给出技术启示、其他部分属于本领域的常用技术手段，因此，权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）权利要求2-41直接或间接引用了权利要求1，它们的附加技术特征或者被对比文件1公开、或者被对比文件2公开、或者属于本领域的常用技术手段，因此，权利要求2-41也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（3）权利要求42与对比文件1相比，区别技术特征在于：该权利要求所要求保护的光学装置中，光学设备的输出孔径是按照光学方式被粘接到基片的输入孔径，基片的输入孔径位于基片的两个主要表面之一的邻近，使得光波通过基片的主要表面被耦合进入基片中。上述区别技术特征的一部分被对比文件2公开了且给出技术启示、其他部分属于本领域常用技术手段，因此，权利要求42不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人鲁姆斯有限公司（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2017年12月04日向国家知识产权局提出了复审请求，同时提交了权利要求书的全文修改替换页，其中仅对权利要求1，42进行了修改，具体修改涉及：将权利要求1，42中的“所述基片的输入孔径位于所述基片的两个主要表面之一的邻近”修改为“所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的继续部分并且与所述基片的两个主要表面之一邻近”。修改后的权利要求1，42如下：
“1. 一种光学装置，包括：
光传输基片，具有输入孔径、以及互相平行的至少第一主要表面和第二主要表面、和边缘；
用于从所述基片耦出光波的至少一个部分反射面，该部分反射面位于所述基片中并且不平行于所述基片的主要表面；
光学设备，位于所述基片外部，用于耦合光波进入利用全内反射的所述基片中，
其中，所述光学设备具有输出孔径，所述光学设备的输出孔径按照光学方式被粘结到所述基片的输入孔径，位于紧邻基片输入孔径处的基片部分是基本透明的；以及
所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的继续部分并且与所述基片的两个主要表面之一邻近，使得所述光波通过所述基片的主要表面被耦合进入所述基片中。
42. 一种光学装置，包括：
光传输基片，具有输入孔径、以及互相平行的至少第一主要表面和第二主要表面、和边缘；
用于从所述基片耦出光波的至少一个部分反射面，该部分反射面位于所述基片中并且不平行于所述基片的主要表面；
光学设备，用于耦合光波进入利用全内反射的所述基片中，
其中，具有输出孔径的所述光学设备位于所述基片外部，所述光学设备的输出孔径按照光学方式被粘结到该基片的该输入孔径，并且位于紧邻基片输入孔径处的基片部分是基本透明的并且不含有任何反射面，以及
所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的继续部分并且与所述基片的两个主要表面之一邻近，使得所述光波通过所述基片的主要表面被耦合进入所述基片中。”
复审请求人指出：（1）权利要求1，42的修改依据是母案原说明书第5页倒数第2段至第8页第1段和第11页第2-3段记载的内容以及说明书附图12a和12b。说明书上述部分记载了光波“通过下表面26”被耦合进入基片20中；由附图12a可知输入孔径21是基片上表面28的一部分（即，继续部分），由附图12b可知输入孔径是基片下表面26的一部分（即，继续部分）。可见，输入孔径21是基片20的主要表面（上表面28或下表面26）的一部分（即继续部分）。因此，权利要求1，42的修改不超范围。（2）对比文件1未公开修改后的权利要求1，42的如下区别技术特征：①光学设备的输出孔径按照光学方式粘结到基片的输入孔径、②所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的继续部分并且与所述基片的两个主要表面之一邻近，使得所述光波通过所述基片的主要表面被耦合进入所述基片中。对比文件2也没有公开上述区别技术特征。对比文件2的附图17-19及其相应的说明书文字部分仅公开了光学装置70位于基片20的下方，并没有公开其输出孔径按照光学方式被粘结到基片20的输入孔径，并且附图18所示的准直/折叠透镜70的前表面72不是平坦的、而是与基片20之间有空气间隙，二者并不是按照光学方式被粘结在一起的。而且，根据对比文件2中的光学部件70的形式（终止于透镜中），可知出光学部件70是要与空气间隙一起作用的，将光学部件70的前表面做成平坦并按照光学方式粘结到基片的输入孔径会破坏所需要的光学特性。因此，对比文件2没有给出有关上述区别技术特征的任何技术启示。本申请的上述区别技术特征带来了有益的技术效果：制作过程简单、在组装过程中能够确定LOE的准确取向和输入孔径的准确位置。因此，上述区别技术特征也不属于本领域的常用技术手段，权利要求1，42具备创造性。
经形式审查合格，国家知识产权局于2017年12月13日依法受理了该复审请求，并将其转送至专利实质审查部门进行前置审查。
国家知识产权局专利实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2018年08月27日向复审请求人发出了复审通知书，指出：（1）权利要求1和42均限定了“所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的继续部分并且与所述基片的两个主要表面之一邻近”，而母案的申请文件中未记载过基片主要表面之具有“继续部分”，更没有记载过“基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的继续部分”；并且，根据母案申请文件的记载，本领域技术人员也不能直接地、毫无疑义地确定“基片的输入孔径是基片两个主要表面之一的继续部分”，因此权利要求1和42的修改不符合专利法实施细则第43条第1款的规定。（2）假设复审请求人将权利要求1、42恢复为驳回决定针对的权利要求1、42，权利要求1-42仍然不具备创造性。其中，权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征在于：基片的输入孔径位于基片的两个主要表面之一的邻近，使得光波通过基片的主要表面被耦合进入基片中。对比文件2公开了以基片下表面作为光线入射面的技术方案，给出了将输入孔径设置于基片主要表面、将光线从基片的主要表面耦合进入基片的技术启示。在这种启示下，本领域技术人员有动机将对比文件1中的光学设备设置于基片的主要表面之一的邻近，以使光线从基片的主要表面之一耦合进入基片中。因此权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。权利要求2-41直接或间接引用了权利要求1，它们的附加技术特征或者被对比文件1公开、或者被对比文件2公开、或者属于本领域常用技术手段，因此权利要求2-41也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。权利要求42与对比文件1相比，区别技术特征在于：基片的输入孔径位于基片的两个主要表面之一的邻近，使得光波通过基片的主要表面被耦合进入基片中。对比文件2公开了以基片下表面作为光线入射面的技术方案，给出了将输入孔径设置于基片主要表面、将光线从基片的主要表面耦合进入基片的技术启示。在这种启示下，本领域技术人员有动机将对比文件1中的光学设备设置于基片的主要表面之一的邻近，以使光线从基片的主要表面之一耦合进入基片中。因此权利要求42不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（3）合议组针对复审请求人的意见陈述进行了答复。
针对上述复审通知书，复审请求人于2018年11月27日提交了意见陈述书和权利要求书的全文修改替换页，其中仅对权利要求1，42进行了修改。具体修改涉及：将权利要求1，42中的“所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的继续部分并且与所述基片的两个主要表面之一邻近，使得所述光波通过所述基片的主要表面被耦合进入所述基片中”修改为“所述基片输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的一部分，使得所述光波通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度被耦合进入所述基片中，从而使所述光波被俘获在利用全内反射的所述基片内”。修改后的权利要求1，42如下：
“1. 一种光学装置，包括：
光传输基片，具有输入孔径、以及互相平行的至少第一主要表面和第二主要表面、和边缘；
用于从所述基片耦出光波的至少一个部分反射面，该部分反射面位于所述基片中并且不平行于所述基片的主要表面；
光学设备，位于所述基片外部，用于耦合光波进入利用全内反射的所述基片中，
其中，所述光学设备具有输出孔径，所述光学设备的输出孔径按照光学方式被粘结到所述基片的输入孔径，位于紧邻基片输入孔径处的基片部分是基本透明的；以及
所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的一部分，使得所述光波通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度被耦合进入所述基片中，从而使所述光波被俘获在利用全内反射的所述基片内。
42. 一种光学装置，包括：
光传输基片，具有输入孔径、以及互相平行的至少第一主要表面和第二主要表面、和边缘；
用于从所述基片耦出光波的至少一个部分反射面，该部分反射面位于所述基片中并且不平行于所述基片的主要表面；
光学设备，用于耦合光波进入利用全内反射的所述基片中，
其中，具有输出孔径的所述光学设备位于所述基片外部，所述光学设备的输出孔径按照光学方式被粘结到该基片的该输入孔径，并且位于紧邻基片输入孔径处的基片部分是基本透明的并且不含有任何反射面，以及
所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的一部分，使得所述光波通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度 被耦合进入所述基片中，从而使所述光波被俘获在利用全内反射的所述基片内。”
复审请求人指出：对比文件1和本申请修改后的权利要求1或42相比，具有如下区别技术特征：“所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的一部分，使得所述光波通过所述基处的主要表面、相对于主要表面以一个角度被耦合进入所述基片中，从而使得所述光波被俘获在利用全内反射的所述基片内”。对比文件2也没有公开或教导上述区别技术特征。上述区别技术特征能带来有益的技术效果，使得在输入孔径处耦入到基片中的光波已经相对于基片的主要表面被正确地倾斜成一定角度，从而直接进入利用全内反射的传播。而对比文件1和对比文件2中，至少一次反射必然发生在基片的厚度内，以便在光沿着基板传播之前改变光的方向。而且关于这样的“嵌入在基片中的输入反射镜”的问题，本申请的母案说明书中记载了如下内容“所以，在空气中能够被耦合到LOE内的最大FOV是小于～33°。因此，利用现有技术的输入反射镜，该反射镜被嵌入在LOE内，用于耦入输入波，它对图像的FOV以及LOE内耦合波的角度范围施加限制”。因此，从这个意义上来说，上述区别技术特征也不属于本领域的常用技术手段。
针对上述意见陈述书，合议组于2019年02月20日向复审请求人发出了复审通知书，指出：（1）权利要求1与对比文件1相比，区别技术特征在于：基片的输入孔径是基片的两个主要表面的一部分，使得光波通过基片的主要表面被耦合进入基片中。对比文件2公开了光波通过基片下方主表面被耦合进入基片中的技术方案，给出了将输入孔径设置于基片的主要表面、将光线从基片的主要表面耦合进入基片的技术启示。在这种启示下，本领域技术人员有动机将对比文件1中的光学设备的输出孔径粘结到基片的主要表面的一部分，以使光线从基片的主要表面耦合进入基片之中从而得到权利要求1的技术方案。因此权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（2）权利要求2-41直接或间接引用了权利要求1，它们的附加技术特征或者被对比文件1公开、或者被对比文件2公开、或者属于本领域常用技术手段，因此权利要求2-41也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（3）权利要求42与对比文件1相比，区别技术特征在于：基片的输入孔径是基片的两个主要表面之一的一部分，使得光波通过基片的主要表面被耦合进入基片中。对比文件2公开了光波通过基片下方主表面被耦合进入基片中的技术方案，给出了将输入孔径设置于基片的主要表面、将光线从基片的主要表面耦合进入基片的技术启示。在这种启示下，本领域技术人员有动机将对比文件1中的光学设备的输出孔径粘结到基片的主要表面的一部分，以使光线从基片的主要表面耦合进入基片之中从而得到权利要求42的技术方案。因此权利要求42不具备专利法第22条第3款规定的创造性。（4）合议组针对复审请求人的意见陈述进行了答复。
针对上述复审通知书，复审请求人于2019年06月04日提交了意见陈述书和权利要求书的全文修改替换页。具体修改涉及：（1）将权利要求1中的“光学设备，位于所述基片外部，用于耦合光波进入利用全内反射的所述基片中，其中，所述光学设备具有输出孔径，所述光学设备的输出孔径按照光学方式被粘结到所述基片的输入孔径，位于紧邻基片输入孔径处的基片部分是基本透明的；以及所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的一部分，使得所述光波通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度被耦合进入所述基片中，从而使所述光波被俘获在利用全内反射的所述基片内”修改为“光学设备，位于所述基片外部，用于耦合光波进入所述基片中以便被俘获在利用全内反射的所述基片中，其中，所述光学设备是具有输出孔径的棱镜，所述棱镜的输出孔径按照光学方式被粘结到所述基片的输入孔径，与所述基片的主要表面相比较，所述棱镜还具有在离轴角上的输入表面，位于紧邻基片输入孔径处的基片部分是基本透明的；以及所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的一部分，使得所述光波通过穿过所述输入表面被耦合进入所述棱镜中，并且通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度进入所述基片中而不需要所述输入表面与所述基片之间的所述光波的反射，从而使所述光波被俘获在利用全内反射的所述基片内”；（2）将权利要求42中的“光学设备，用于耦合光波进入利用全内反射的所述基片中，其中，具有输出孔径的所述光学设备位于所述基片外部，所述光学设备的输出孔径按照光学方式被粘结到该基片的该输入孔径，并且位于紧邻基片输入孔径处的基片部分是基本透明的并且不含有任何反射面，以及所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的一部分，使得所述光波通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度被耦合进入所述基片中，从而使所述光波被俘获在利用全内反射的所述基片内”修改为“光学设备，用于耦合光波进入所述基片中以便被俘获在利用全内反射的所述基片中，所述光学设备是具有输出孔径、位于所述基片外部的棱镜，其中，所述棱镜的输出孔径按照光学方式被粘结到该基片的该输入孔径，与所述基片的主要表面相比较，所述棱镜还具有在离轴角上的输入表面，并且位于紧邻基片输入孔径处的基片部分是基本透明的并且不合有任何反射面，以及所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的一部分，使得所述光波通过穿过所述输入表面被耦合进入所述棱镜中，并且通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度进入所述基片中而不需要所述输入表面与所述基片之间的所述光波的反射，从而使所述光波被俘获在利用全内反射的所述基片内”；（3）删除权利要求31中的“所述透明棱镜按照光学方式被固定到所述基片的第一主要表面”；（4）删除权利要求3，6-9，11-12，14-30，32，34-40；（5）对权利要求的编号及引用关系进行适应性修改。修改后的权利要求书如下：
“1. 一种光学装置，包括：
光传输基片，具有输入孔径、以及互相平行的至少第一主要表面和第二主要表面、和边缘；
用于从所述基片耦出光波的至少一个部分反射面，该部分反射面位于所述基片中并且不平行于所述基片的主要表面；
光学设备，位于所述基片外部，用于耦合光波进入所述基片中以便被俘获在利用全内反射的所述基片中，
其中，所述光学设备是具有输出孔径的棱镜，所述棱镜的输出孔径按照光学方式被粘结到所述基片的输入孔径，与所述基片的主要表面相比较，所述棱镜还具有在离轴角上的输入表面，位于紧邻基片输入孔径处的基片部分是基本透明的；以及
所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的一部分，使得所述光波通过穿过所述输入表面被耦合进入所述棱镜中，并且通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度进入所述基片中而不需要所述输入表面与所述基片之间的所述光波的反射，从而使所述光波被俘获在利用全内反射的所述基片内。
2. 权利要求1的光学装置，其中位于紧邻基片输入孔径处的基片部分不合任何光学元件。
3. 权利要求1的光学装置，还包括有至少两个表面的至少一个成像透镜。
4. 权利要求1的光学装置，还包括输入光波源。
5. 权利要求3的光学装置，其中所述成像透镜的一个表面被用反射涂层覆盖。
6. 权利要求3的光学装置，其中所述成像透镜是准直透镜。
7. 权利要求3的光学装置，其中所述成像透镜位于所述第一主要表面的相同侧。
8. 权利要求1的光学装置，其中至少一个所述部分反射面被用角度灵敏涂层涂敷。
9. 权利要求1的光学装置，其中中心耦合光波在基片内的离轴角是在62°至80°之间。
10. 一种光学装置，包括：
光传输基片，具有输入孔径、以及互相平行的至少第一主要表面和第二主要表面、和边缘；
用于从所述基片耦出光波的至少一个部分反射面，该部分反射面位于所述基片中并且不平行于所述基片的主要表面；
光学设备，用于耦合光波进入所述基片中以便被俘获在利用全内反射的所述基片中，所述光学设备是具有输出孔径、位于所述基片外部的棱镜，
其中，所述棱镜的输出孔径按照光学方式被粘结到该基片的该输入孔径，与所述基片的主要表面相比较，所述棱镜还具有在离轴角上的输入表面，并且位于紧邻基片输入孔径处的基片部分是基本透明的并且不合有任何反射面，以及
所述基片的输入孔径是所述基片的两个主要表面之一的一部分，使得所述光波通过穿过所述输入表面被耦合进入所述棱镜中，并且通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度进入所述基片中而不需要所述输入表面与所述基片之间的所述光波的反射，从而使所述光波被俘获在利用全内反射的所述基片内。”
复审请求人指出：（1）权利要求1和42的修改基于原说明书第5页倒数第1段至第6页第1段等处记载的内容以及说明书附图2。因此，其修改未超出母案说明书及权利要求书记载的范围。（2）修改后的权利要求1限定了光学设备“具有输出孔径的棱镜……与所述基片的主要表面相比较，所述棱镜还具有在离轴角上的输入表面”以及光波“通过穿过所述输入表面被耦合进入所述棱镜中，并且通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度被耦合进入所述基片中而不需要所述输入表面与所述基片之间的所述光波的反射”。上述区别技术特征既未被对比文件1、2公开，也不属于本领域常用技术手段。并且，上述区别技术特征带来了有益的技术效果：通过使用具有在离轴角上的输入表面的棱镜，使得光波直接通过棱镜进入到基片并被俘获在基片中，而不需要输入表面与基片之间的光波或图像照射的任何反射以使光波重定向，由此可以简化构造。因此，权利要求1具备创造性。基于同样的理由，权利要求42也具备创造性。
在以上审查程序的基础上，合议组认为，本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
复审请求人于2019年06月04日提交了权利要求书的全文修改替换页。本复审请求审查决定所针对的审查文本为：复审请求人于2019年06月04日提交的权利要求第1-10项、分案申请递交日2014年09月29日提交的说明书第1-18页、说明书附图第1-9页、说明书摘要及摘要附图。
（二）关于专利法实施细则第43条第1款
专利法实施细则第43条第1款规定：依照本细则第四十二条规定提出的分案申请，可以保留原申请日，享有优先权的，可以保留优先权日，但是不得超出原申请记载的范围。
如果分案申请修改后的权利要求的技术方案在母案原申请文件中没有记载，也不能由母案原申请文件记载的内容直接地、毫无疑义地确定，则该修改超出母案原申请文件记载的范围，不符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
具体到本案：
1、修改后的权利要求1，42中均限定了技术特征“与所述基片的主要表面相比较，所述棱镜还具有在离轴角上的输入表面”、“使得光波通过穿入输入表面被耦合进入所述棱镜中，并且通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度进入所述基片中而不需要所述输入表面与所述基片之间的所述光波的反射”。然而，上述技术特征在本申请母案的说明书及权利要求书中并未记载，母案说明书第5页倒数第1段至第6页第1段仅记载了：“图2说明耦合这些光线进入基片20的最简单的可能性。此处，与基片20的主平面比较，输入光波源38，以及准直透镜40的取向是在所要求的离轴角上。中继棱镜44位于准直透镜40与基片20之间，并按照光学方式被粘结到下表面26，因此，来自显示源的光被俘获在利用全内反射的基片内。”可见，母案说明书仅记载了“输入光波源”和“准直透镜”的取向在所要求的离轴角上、“棱镜”只是“位于准直透镜和基片之间”，而并未记载棱镜的“输入表面”如何设置，更没有记载棱镜的输入表面“在离轴角上”并且能够“使得光波通过穿入输入表面被耦合进入所述棱镜中，并且通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度进入所述基片中而不需要所述输入表面与所述基片之间的所述光波的反射”。同时，母案说明书附图2也只是一种示意图，本领域技术人员从附图2中仅能够得知棱镜设置于准直透镜和基片之间，而并不能直接地、毫无疑义地确定棱镜的输入表面的设置角度，即：本领域技术人员也不能根据附图2直接地、毫无疑义地确定棱镜输入表面“在离轴角上”并且能够“使得光波通过穿入输入表面被耦合进入所述棱镜中，并且通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度进入所述基片中而不需要所述输入表面与所述基片之间的所述光波的反射”。综上所述，修改后的权利要求1和42的技术方案在母案说明书和权利要求书中均没有记载，并且本领域技术人员也不能根据母案原申请文件的记载直接地、毫无疑义地确定。因此，权利要求1和42修改后的技术方案超出了母案记载的范围，不符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
（三）针对复审请求人意见陈述的答复
复审请求人认为权利要求1和42的修改的依据是原说明书第5页倒数第1段至第6页第1段以及附图2，因此其修改符合专利法实施细则第43条第1款的规定。
本申请母案说明书第5页倒数第1段至第6页第1段仅记载了“输入光波源”和“准直透镜”的取向在所要求的离轴角上、“棱镜”只是“位于准直透镜和基片之间”，而并未记载棱镜的“输入表面”如何设置，更没有记载棱镜的输入表面“在离轴角上”并且能够“使得光波通过穿入输入表面被耦合进入所述棱镜中，并且通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度进入所述基片中而不需要所述输入表面与所述基片之间的所述光波的反射”。同时，母案说明书附图2也只是一种示意图，本领域技术人员从附图2中仅能够得知棱镜设置于准直透镜和基片之间，而并不能直接地、毫无疑义地确定棱镜输入表面“在离轴角上”并且能够“使得光波通过穿入输入表面被耦合进入所述棱镜中，并且通过所述基片的主要表面、相对于主要表面以一个角度进入所述基片中而不需要所述输入表面与所述基片之间的所述光波的反射”。可见，修改后的权利要求1和42的技术方案在母案说明书和权利要求书中均没有记载，并且本领域技术人员也不能根据母案原申请文件的记载直接地、毫无疑义地确定。
因此，复审请求人有关权利要求1，42的修改符合专利法实施细则第43条第1款的意见陈述不能被接受。
根据以上事实和理由，本案合议组依法作出如下审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2017年08月23日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本复审请求审查决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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