发明创造名称：一种On-cell消隐结构及其制备方法
外观设计名称：
决定号：181424
决定日：2019-06-20
委内编号：1F242493
优先权日：
申请（专利）号：201510024672.0
申请日：2015-01-19
复审请求人：北京理工大学
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：宋芸芸
合议组组长：曾威
参审员：郑嘉青
国际分类号：G06F3/044
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求所要求保护的技术方案与作为最接近的现有技术的对比文件存在区别技术特征，但是，在该对比文件公开内容的基础上结合本领域的常用技术手段，本领域技术人员容易想到将上述区别技术特征限定的手段应用到该对比文件中以解决该权利要求实际解决的技术问题，则相对于该对比文件和本领域的常用技术手段，该权利要求所要求保护的技术方案是显而易见的，该权利要求不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201510024672.0，名称为“一种On-cell消隐结构及其制备方法”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为北京理工大学。本申请的申请日为2015年01月19日，公开日为2015年06月10日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2017年09月30日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-3不具备专利法第22条第3款规定的创造性。具体而言，权利要求1与对比文件1（CN104238816A，公开日：2014年12月24日）的区别在于：（1）该消隐结构应用于on-cell，所述膜层为ITO膜，所述层单元为有机树脂层；（2）所述有机树脂层单元下端间距与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述有机树脂层单元上端间距与有机树脂层单元下表面宽度相等；所述ITO膜层设置于有机树脂层单元之间间隙中的宽度与有机树脂层单元上端间距相等，所述有机树脂层的折射率为1.5。上述区别是本领域的常用技术手段，因此，相对于对比文件1和本领域的常用技术手段而言，权利要求1不具备创造性。权利要求2的附加技术特征是本领域的常用技术手段，则权利要求2也不具备创造性。权利要求3与对比文件2（CN103456392A，公开日：2013年12月18日）的区别在于：一种On-cell消隐结构，a.保证有机树脂层的厚度大于2.0um，所述有机树脂包括树脂骨架acryl（腈纶）、感光成分DNQ和溶剂PGMEA；b. 进行减压干燥处理，利用快速(小于30秒)高压（小于26pa），实现树脂表面的快速干燥；c. 进行曝光和显影处理，曝光剂量为40~100mj，利用365、405、436nm波长光线进行曝光；d.温度为130℃的预固化，持续15分钟；e.温度为250℃正式固化，持续30分钟；f. 进行ITO沉积，通过sputter设备进行沉积，Ar流量为100sccm，He流量为3sccm，沉积时间10s左右。上述区别是本领域的常用技术手段。则相对于对比文件2和本领域的常用技术手段，权利要求3不具备创造性。驳回决定所依据的文本为申请日2015年01月19日提交的说明书摘要、说明书第[0001]-[0021]段、摘要附图、说明书附图图1-4；2017年08月17日提交的权利要求第1-3项 。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种On-cell消隐结构，包括ITO膜层和有机树脂层，其特征在于：所述有机树脂层设置于CF基板上表面，所述有机树脂层包括多个倒梯形或类似倒梯形的有机树脂层单元，所述多个有机树脂层单元之间为等间距的间隙，所述ITO膜层设置于有机树脂层单元的上表面及所述间隙中；形成所述有机树脂层的有机树脂包括树脂骨架acryl（腈纶）、感光成分DNQ 和溶剂PGMEA；
所述有机树脂层单元下端间距与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述有机树脂层单元上端间距与有机树脂层单元下表面宽度相等；
所述ITO膜层设置于有机树脂层单元上表面的宽度与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述ITO膜层设置于有机树脂层单元之间间隙中的宽度与机树脂层单元上端间距相等；所述有机树脂层的折射率为1.5。
2. 根据权利要求1所述的On-cell消隐结构，其特征在于：所述有机树脂层厚度大于2um。
3. 一种On-cell消隐结构的制备方法，制备如权利要求1或2所述的On-cell消隐结构，具体包括以下步骤：
a.首先在CF背面沉积一层有机树脂，固化后保留，保证有机树脂层的厚度大于2.0um，所述有机树脂包括树脂骨架acryl（腈纶）、感光成分DNQ和溶剂PGMEA；
b.进行减压干燥处理，利用快速(小于30秒)高压（小于26pa），实现树脂表面的快速干燥；
c.进行曝光和显影处理，曝光剂量为40~100mj，利用365、405、436nm波长光线进行曝光；
d.进行温度为130℃的预固化，持续15分钟；
e.进行温度为250℃正式固化，持续30分钟；
f.进行ITO沉积，通过sputter设备进行沉积，Ar流量为100sccm，He流量为3sccm，沉积时间10s左右。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年01月15日向专利复审委员会提出了复审请求，并未修改权利要求书。复审请求人认为：（1）对比文件1没有公开“膜层设置于有机树脂层单元上表面的宽度与有机树脂层单元上表面宽度相等”，因为：对比文件1并未具体公开凸起结构2以及间隙的尺寸；且对比文件1的触控电极3和浮空电极4的结构和作用完全不同。（2）对比文件1中的触控电极3和浮空电极4的结构与作用完全不同，因此，二者不可能使用同一膜层来制备。此外，也没有证据表明采用ITO膜层为本领域惯用手段。其次，对比文件1公开了凸起结构2图形采用的材料，一般地可以采用氮化硅、二氧化硅等绝缘材料，并没有给出采用有机树脂来制备凸起结构2这样的启示，从而也不可能采用包括树脂骨架acryl（腈纶）、感光成分DNQ 和溶剂PGMEA的有机树脂来制备凸起结构2。（3）在对比文件1的基础上，本领域技术人员完全没有动机得到：所述膜层设置于有机树脂层单元之间间隙中的宽度与机树脂层单元上端间距相等、所述有机树脂层单元下端间距与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述有机树脂层单元上端间距与有机树脂层单元下表面宽度相等。也没有动机将有机树脂层的折射率为设置为1.5。
经形式审查合格，专利复审委员会于2018年02月05日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为：（1）从对比文件1的图中可以看出，层单元之间是等间距的。另外，对比文件1公开的倒梯形结构与本申请是一致的，至于不同的倒梯形结构之间的间距，本申请也并未具体描述该等间距所起的作用。（2）关于特征“所述膜层设置于层单元上表面的宽度与层单元上表面宽度相等”，该特征表明ITO层设置于有机树脂层上表面的宽度与有机树脂层上表面宽度相等（对比文件1公开了将触控电极3的图形设置为与凸起结构2的图形互补。因此，触控电极3设置于凸起结构2上表面的宽度与凸起结构上表面的宽度相等），这一点与浮空电极4无关。（3）本申请的设置于有机树脂层单元的上表面的膜层及所述间隙中的膜层都是ITO膜层，覆盖了整个基板；对比文件1也是从俯视图来看触控电极与浮空电极的图形又覆盖了整个衬底基板。尽管对比文件1的浮空电极未写明电极的作用；但是，对比文件1公开了消隐结构与本申请的消隐结构的作用相同，都是为了避免用户看到触控面板出现金属触控电极的图案，提高触控面板的视觉效果。因而坚持原驳回决定。
随后，专利复审委员会成立合议组对本案进行审理。
合议组于2018年08月24日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1-2相对于对比文件1和本领域的常用技术手段不具备专利法第22条第3款规定的创造性；权利要求3相对于对比文件1、对比文件2和本领域的常用技术手段不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
复审请求人于2018年09月26日提交了意见陈述书，同时修改了权利要求书，其中将原权利要求2的技术特征补充到权利要求1中，并将“当入射光入射到触摸屏表面时，玻璃基板上各个位置均设置有ITO膜层，因此光线的透射、反射不会有明显的差异，从而使得ITO膜层不可见，达到On-cen图形消隐的目的”添加到权利要求1中；将“所述ITO膜层厚度为1．3um，在有机树脂层的有机树脂单元上表面间隔处发生断裂，使一部分ITO沉积到有机树脂单元的间隙中，从而可以形成所需要的On-cen消隐结构”添加到原权利要求3中，形成新的权利要求2。复审请求人认为：1、权利要求1与对比文件1的区别为：（1）一种On-cell消隐结构，包括ITO膜层和有机树脂层；（2）所述多个有机树脂层单元之间为等间距的间隙，所述ITO膜层设置于有机树脂层单元的上表面及所述间隙中，所述ITO膜层厚度为1.3um；（3）所述有机树脂层单元下端间距与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述有机树脂层单元上端间距与有机树脂层单元下表面宽度相等；（4）所述ITO膜层设置于有机树脂层单元上表面的宽度与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述ITO膜层设置于有机树脂层单元之间间隙中的宽度与机树脂层单元上端间距相等；（5）形成所述有机树脂层的有机树脂包括树脂骨架acryl(腈纶)、感光成分DNQ和溶剂PGMEA；（6）所述有机树脂层的折射率为1.5， 其中，所述有机树脂层厚度大于2um；（7）当入射光入射到触摸屏表面时，玻璃基板上各个位置均设置有ITO膜层，因此光线的透射、反射不会有明显的差异，从而使得ITO膜层不可见，达到On-cell图形消隐的目的。2、触控单元一般制作在显示屏的上方，所使用的ITO折射率偏高，一般为1.9左右，而触控ITO走线有不同形状的排布，使得人眼较容易在屏幕表面看到ITO触控图形。本发明修改后的权利要求1的技术方案通过特殊制作方式，使得ITO整面性的排布，只是在有机树脂层上进行断裂分割，最大限度的改善ITO走线的可视性。正是基于以上区别技术特征的组合，实现了“本发明的结构中，玻璃所有位置均有高折射率的ITO膜层存在，使得整体透过率均一化，可以达到ITO膜层不可见的效果”，则上述区别（7）不是本领域的常用技术手段。 3、本申请针对的是制作完CF的基板，对比文件中的氮化硅、氧化硅，由于其成膜温度高，不适合制作CF基板上的触控ITO图形，只能选择树脂材料。本申请所指定的一系列参数，例如减压干燥的时间、压力，预固化和固化温度，以及ITO的成膜功率，都是针对不耐高温的CF基板，所选择的相对低温、低功率的工艺条件，不是本领域的常用技术手段。以ITO和负性树脂常用技术手段而言，其较高的制程温度是很难形成所需的负性树脂倒梯形图形，以及正常的ITO图形的。另外，有机树脂厚度大于2um，其所针对的是ITO和断裂ITO图形间的距离，以实验数据来看，小于2um的ITO间距容易造成信号之间的串扰，干扰正常触控功能。
合议组于2019年01月24日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1相对于对比文件1和本领域的常用技术手段不具备专利法第22条第3款规定的创造性；权利要求2相对于对比文件1、对比文件2和本领域的常用技术手段不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
复审请求人于2019年03月08日提交了意见陈述书，同时修改了权利要求书，将特征“与CF基板的折射率相同”加入独立权利要求1。复审请求人认为：（一）权利要求1与对比文件1的区别为：（1）一种On-cell消隐结构，包括ITO膜层和有机树脂层；（2）所述多个有机树脂层单元之间为等间距的间隙，所述ITO膜层设置于有机树脂层单元的上表面及所述间隙中，所述ITO膜层厚度为1.3um；（3）所述有机树脂层单元下端间距与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述有机树脂层单元上端间距与有机树脂层单元下表面宽度相等；（4）所述ITO膜层设置于有机树脂层单元上表面的宽度与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述ITO膜层设置于有机树脂层单元之间间隙中的宽度与机树脂层单元上端间距相等；（5）形成所述有机树脂层的有机树脂包括树脂骨架acryl(腈纶)、感光成分DNQ和溶剂PGMEA；（6）所述有机树脂层的折射率为1.5，与CF基板的折射率相同，其中，所述有机树脂层厚度大于2um；（7）当入射光入射到触摸屏表面时，玻璃基板上各个位置均设置有ITO膜层，因此光线的透射、反射不会有明显的差异，从而使得ITO膜层不可见，达到On-cell图形消隐的目的。（二）触控单元一般制作在显示屏的上方，所使用的ITO折射率偏高，一般为1.9左右，而触控ITO走线有不同形状的排布，使得人眼较容易在屏幕表面看到ITO触控图形。本发明修改后的权利要求1的技术方案通过特殊制作方式，使得ITO整面性的排布，只是在有机树脂层上进行断裂分割，最大限度的改善ITO走线的可视性。则对比文件1没有公开特征“当入射光入射到触摸屏表面时，玻璃基板上各个位置均设置有ITO膜层，因此光线的透射、反射不会有明显的差异，从而使得ITO膜层不可见，达到On-cell图形消隐的目的”，且其不是本领域的常用技术手段。（三）本申请所针对的是制作完CF的基板，在其背面形成触控图形。CF基板的特征是耐热性不高，所以对比文件1中的氮化硅、氧化硅， 由于其成膜温度高，所以不适合制作CF基板上的触控ITO图形，只能选择树脂材料。并且本发明所指定的一系列参数，例如减压干燥的时间、压力，预固化和固化温度，以及ITO的成膜功率，都是针对不耐高温的CF基板，所选择的相对低温，低功率的工艺条件，并非本领域技术人员常用技术手段。以ITO和负性树脂常用技术手段而言，其较高的制程温度是很难形成所需的负性树脂倒梯形图形，以及正常的ITO图形的。另外，有机树脂厚度大于2um，其所针对的是ITO和断裂ITO图形间的距离，以实验数据来看，小于2um的ITO间距容易造成信号之间的串扰，干扰正常触控功能。（四）对于“与CF基板的折射率相同”，通过将“有机树脂层”和“CF基板”的折射率设置为相同，使得玻璃所有位置均有高折射率的ITO膜层存在，使得整体透过率均一化，可以达到ITO膜层不可见的效果。
此次修改的权利要求1如下：
“1. 一种On-cell消隐结构，包括ITO膜层和有机树脂层，其特征在于：所述有机树脂层设置于CF基板上表面，所述有机树脂层包括多个倒梯形或类似倒梯形的有机树脂层单元，所述多个有机树脂层单元之间为等间距的间隙，所述ITO膜层设置于有机树脂层单元的上表面及所述间隙中，所述ITO膜层厚度为1.3um；形成所述有机树脂层的有机树脂包括树脂骨架acryl(腈纶)、感光成分DNQ和溶剂PGMEA；
所述有机树脂层单元下端间距与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述有机树脂层单元上端间距与有机树脂层单元下表面宽度相等；
所述ITO膜层设置于有机树脂层单元上表面的宽度与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述ITO膜层设置于有机树脂层单元之间间隙中的宽度与机树脂层单元上端间距相等；所述有机树脂层的折射率为1.5，与CF基板的折射率相同，
其中，所述有机树脂层厚度大于2um，
当入射光入射到触摸屏表面时，玻璃基板上各个位置均设置有ITO膜层，因此光线的透射、反射不会有明显的差异，从而使得ITO膜层不可见，达到On-cell图形消隐的目的。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人在答复第二次复审通知书时提交了权利要求书的全文修改替换页，经审查，以上修改符合专利法第33条和专利法实施细则第61条第1款的规定。本次复审决定针对的审查文本为：2019年03月08日提交的权利要求第1-2项，申请日2015年01月19日提交的说明书摘要、说明书第[0001]-[0021]段、摘要附图、说明书附图图1-4。
2、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求所要求保护的技术方案与作为最接近的现有技术的对比文件存在区别技术特征，但是，在该对比文件公开内容的基础上结合本领域的常用技术手段，本领域技术人员容易想到将上述区别技术特征限定的手段应用到该对比文件中以解决该权利要求实际解决的技术问题，则相对于该对比文件和本领域的常用技术手段，该权利要求所要求保护的技术方案是显而易见的，该权利要求不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备创造性。
本复审决定使用了驳回决定、复审通知书中使用的对比文件，如下：
对比文件1：CN 104238816A 公开日：2014年12月24日；
对比文件2：CN 103456392A 公开日：2013年12月18日。
对比文件1为最接近的现有技术。
权利要求1-2不符合专利法第22条第3款规定的创造性。
1. 权利要求1请求保护一种On-cell消隐结构，对比文件1公开了一种触控面板，并具体公开了以下技术内容（参见说明书第0002-0004段，0041-0064段，图1-3）：衬底基板，位于所述衬底基板之上的凸起结构，所述凸起结构的材料为负性光刻胶材料（由于负性光刻胶是一种由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体，因此相当于公开了“有机树脂层”，则对比文件1公开了：所述有机树脂层设置于基板上表面），以及位于所述凸起结构和所述衬底基板之上且相互绝缘的触控电极和浮空电极，凸起结构的截面宽度沿衬底基板指向远离衬底基板的方向逐渐递增，形成类似一个倒梯形的图形；凸起结构的材料还可以是有机光阻材料、无机材料，以及通过曝光刻蚀可以形成截面为倒梯形图形、且能满足绝缘、透明的要求的材料都可以（相当于“所述有机树脂层包括多个倒梯形或类似倒梯形的有机树脂层单元”），触控电极的图形和浮空电极的图形通过凸起结构的断差而断开，从俯视图来看触控电极与浮空电极的图形覆盖了整个衬底基板，使整个触控面板表面具有相同的光学特性，从而可以削弱或消除触控面板中触控电极的图案对视觉效果的影响，提高触控面板整体的观看效果（由此可见：“消隐结构”被对比文件1公开了，则根据上述内容，本领域技术人员可以直接且毫无疑义地确定：当入射光入射到触摸屏表面时，基板上各个位置均设置有电极，因此光线的透射、反射不会有明显的差异，从而使得触控电极图形不可见，达到图形消隐的目的）。如图1所示，可以将触控电极3的图形设置为与凸起结构2的图形一致（则对比文件1公开了：触控电极设置于有机树脂层单元上表面的宽度与有机树脂层单元上表面宽度相等），浮空电极4的图形设置为与凸起结构2的图形互补；也可以如图2所示，浮空电极4的图形设置为与凸起结构2的图形一致。采用上述两种排布方式排布的触控电极3与浮空电极4覆盖了整个衬底基板1（由此可见，对比文件1公开了：浮空电极设置于有机树脂层单元之间间隙中的宽度与机树脂层单元上端间距相等）。本发明实施例提供的上述触控面板的制作方法可以应用于外挂式触控技术或内嵌式触控技术等多种触控技术方案中。
对比文件1还公开了（参见说明书第0053段）：在形成有凸起结构的图形的衬底基板上形成一层厚度小于凸起结构的厚度的导电材料。
由此可见，该权利要求与对比文件1的区别在于：（1）该消隐结构为on-cell消隐结构，触控电极和浮空电极的膜层为ITO膜层，ITO膜层厚度为1.3um；基板为CF基板，也为玻璃基板；（2）所述有机树脂层单元下端间距与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述有机树脂层单元上端间距与有机树脂层单元下表面宽度相等；有机树脂层单元之间的间隙为等间距的，形成所述有机树脂层的有机树脂包括树脂骨架acryl（腈纶）、感光成分DNQ 和溶剂PGMEA，所述有机树脂层的折射率为1.5，与CF基板的折射率相同，有机树脂层厚度大于2um。
因此，相对于对比文件1，该权利要求实际解决的技术问题是：如何选择具体的触摸屏类型、电极层材料及厚度、和基板类型，以及如何设置消隐结构的具体结构。
关于区别（1），on-cell触摸屏是本领域中常见的内嵌式触摸屏，则本领域技术人员很容易想到将对比文件1的消隐结构应用到on-cell触摸屏中，形成on-cell消隐结构。触控电极、浮空电极通常采用ITO，本领域技术人员可根据消隐效果，设定合理的ITO膜层厚度为1.3um。另外，CF基板，也叫彩色遮光片基板，其原材料是玻璃基板，用于液晶显示器，以用作彩色显示，是本领域中常见的基板。因此区别（1）为本领域的常用技术手段。
关于区别（2）：
首先，对比文件1已经公开了触控电极与浮空电极的图形覆盖了整个衬底基板，使整个触控面板表面具有相同的光学特性，从而可以削弱或消除触控面板中触控电极的图案对视觉效果的影响，也就是说，只要触控电极与浮空电极的图形覆盖了整个衬底基板，使整个触控面板表面具有相同的光学特性，便能达到消隐效果。在这个前提下，本领域技术人员可合理设置有机树脂层单元之间的间距。则有机树脂层单元下端间距与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述有机树脂层单元上端间距与有机树脂层单元下表面宽度相等，是本领域中设置有机树脂层单元之间的间距的常见方式，是本领域的常用技术手段。
另外，对比文件1中的有机树脂层单元之间的间隙实际上也就是浮空电极的宽度，本领域中触摸屏中各浮空电极的宽度通常是相同的，这是本领域的常用技术手段。也就是说，有机树脂层单元之间的间隙通常也是等间距的。
其次，对比文件1已经公开了负性光刻胶，负性光刻胶是一种由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体，而树脂骨架acryl（腈纶）是一种常见的感光树脂；感光成分DNQ是一种常见的增感剂；溶剂PGMEA是常见的溶剂，因此，形成所述有机树脂层的有机树脂包括树脂骨架acryl（腈纶）、感光成分DNQ和溶剂PGMEA是本领域的常用技术手段。
再次，对比文件1公开了使整个触控面板表面具有相同的光学特性，且对比文件1中入射光要么从电极透射到基板上，要么从电极透射到有机树脂层上，在此基础上，本领域技术人员很容易想到：有机树脂层的折射率与基板的折射率相同。并且，1.5是CF基板的常见折射率，这是本领域的常用技术手段，则本领域技术人员很容易想到将有机树脂层的折射率选择为1.5，与CF基板的折射率相同。
并且，在对比文件1已经公开了导电结构的厚度小于凸起结构的厚度的基础上，本领域技术人员很容易想到当ITO膜层厚度为1.3um时，凸起结构的厚度大于2um。
因此，区别（2）也为本领域的常用技术手段。
因此，在对比文件1的基础上结合本领域的常用技术手段以获得该权利要求所要求保护的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的。因此，权利要求1不具备突出的实质性特点和显著的进步，不符合专利法第22条第3款规定的创造性。
2.权利要求2请求保护一种On-cell消隐结构的制备方法。对比文件1还公开了（参见说明书第0002-0004段，0041-0064段，图1-3）：凸起结构的材料为负性光刻胶材料，在衬底基板上形成一层负性光刻胶材料；采用第一掩膜板对负性光刻胶材料进行曝光显影。触控电极的图形和浮空电极的图形通过凸起结构的断差而断开，从俯视图来看触控电极与浮空电极的图形覆盖了整个衬底基板，使整个触控面板表面具有相同的光学特性，从而可以削弱或消除触控面板中触控电极的图案对视觉效果的影响，提高触控面板整体的观看效果（则对比文件1公开了：在有机树脂层的有机树脂单元上表面间隔处发生断裂，使一部分电极沉积到有机树脂单元的间隙中，从而可以形成所需要的消隐结构）。
则权利要求2与对比文件1的区别除了权利要求1与对比文件1的区别之外，还进一步包括区别：（3）首先在CF背面沉积一层有机树脂，固化后保留；b.进行减压干燥处理，利用快速(小于30秒)高压（小于26pa），实现树脂表面的快速干燥； c.曝光剂量为40~100mj，利用365、405、436nm波长光线进行曝光；d.进行温度为130℃的预固化，持续15分钟；e.进行温度为250℃正式固化，持续30分钟； f.进行ITO沉积，通过sputter设备进行沉积，Ar流量为100sccm，He流量为3sccm，沉积时间10s左右。
则进一步，基于以上区别（3），该权利要求还要解决的技术问题是：如何具体选择制作消影结构的工艺。
对比文件2公开了一种透明导电体的制造方法，并具体公开了以下技术内容（参见说明书第0056-0112段）：透明基底的材质为玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯等光学透明材料；在透明基底的上表面和下表面各覆设一层包含导电材料和树脂材料的混合油墨，混合油墨形成油墨层；将上述预烘后的油墨层放在主波长为365nm、功率为1000W的紫外灯下同时进行曝光处理得到网格状图案，曝光能量在80～120mJ/cm2之间；步骤4，将上述显影后的产品进行烘干，烘干温度为130℃，烘干时间为 30min；并对上述绝缘树脂进行固化，固化后的绝缘树脂形成消影层40。先进行预烘，预烘温度60-120℃，烘干时间在10-60min；将显影后的产品于100-150℃ 下进行固烤，固烤时间10-60min（由此可见，对比文件2公开了：在玻璃基板背面沉积一层有机树脂，固化后保留；曝光剂量为40~100mj，利用365nm波长光线进行曝光；进行温度为130℃的预固化；持续30分钟）。
另外，进行减压干燥处理，利用快速(小于30秒)高压（小于26pa），实现树脂表面的快速干燥，是触摸屏制造中进行干燥的常见工艺；进行温度为130℃的预固化，持续15分钟；进行温度为250℃正式固化，持续30分钟，是触摸屏制造中进行固化的常见工艺；进行ITO沉积，通过sputter设备进行沉积，Ar流量为100sccm，He流量为3sccm，沉积时间10s左右，是制作ITO膜层的常见工艺；405、436nm波长的光线也是进行曝光时常用的光线，这些都是本领域的常用技术手段。
因此，在对比文件1的基础上结合对比文件2和本领域的常用技术手段以获得权利要求2请求保护的技术方案，对于本领域技术人员来说是显而易见的。权利要求2不具备突出的实质性特点和显著的进步，不符合专利法第22条第3款规定的创造性。
3、对复审请求人相关意见的评述
合议组认为：
（1）、关于第（一）点意见，已在第二次复审通知书中已进行了相应的答复，意见如下：参见对权利要求1的评述可见，权利要求1与对比文件1的区别技术特征仅仅为：（1）该消隐结构为on-cell消隐结构，触控电极和浮空电极的膜层为ITO膜层，ITO膜层厚度为1.3um；基板为CF基板，也为玻璃基板；（2）所述有机树脂层单元下端间距与有机树脂层单元上表面宽度相等；所述有机树脂层单元上端间距与有机树脂层单元下表面宽度相等；有机树脂层单元之间的间隙为等间距的，形成所述有机树脂层的有机树脂包括树脂骨架acryl（腈纶）、感光成分DNQ 和溶剂PGMEA，所述有机树脂层的折射率为1.5，与CF基板的折射率相同，有机树脂层厚度大于2um，复审请求人所认定的区别中的一部分实际上并不构成区别。
（2）、关于第（二）点意见，也已在第二次复审通知书中已进行了相应的答复，意见如下：参见上述对权利要求1的评述可见，对比文件1已经公开了：触控电极的图形和浮空电极的图形通过凸起结构的断差而断开，从俯视图来看触控电极与浮空电极的图形覆盖了整个衬底基板，使整个触控面板表面具有相同的光学特性，从而可以削弱或消除触控面板中触控电极的图案对视觉效果的影响，提高触控面板整体的观看效果。由此可见：对比文件1已经实现了电极整面性的排布，只是在凸起结构上进行断裂分割，则根据上述内容，本领域技术人员可以直接且毫无疑义地确定：当入射光入射到触摸屏表面时，基板上各个位置均设置有电极，因此光线的透射、反射不会有明显的差异，从而使得触控电极图形不可见，达到图形消隐的目的。而至于触控电极、浮空电极通常采用ITO，这是本领域的常用技术手段。
（3）、关于第（三）点意见，同样已在第二次复审通知书中已进行了相应的答复，意见如下：对比文件1不仅公开了凸起结构的材料可以选用氮化硅、二氧化硅等绝缘材料，也公开了其凸起结构的材料优选负性光刻胶材料（相当于权利要求1中的“有机树脂层”）。由此可见，对比文件1中公开的方案是适用于CF基板上的。并且，CF基板是本领域中常见的基板，其原材料主要是玻璃基板，参见对权利要求2的评述可见，对比文件2已经公开了在玻璃基板上形成消影层的部分工艺条件，且权利要求2中其余未被对比文件2公开的关于CF基板的工艺条件是本领域技术人员所熟知的，是本领域的常用技术手段。另外，参见上述对权利要求1与对比文件1的区别（2）的评述可见，本领域技术人员很容易想到：有机树脂厚度大于2um。
（4）、关于第（四）点意见，对比文件1公开了使整个触控面板表面具有相同的光学特性，且对比文件1中入射光要么从电极透射到基板上，要么从电极透射到有机树脂层上，在此基础上，本领域技术人员很容易想到：有机树脂层的折射率与基板的折射率相同。并且，1.5是CF基板的常见折射率，这是本领域的常用技术手段，则本领域技术人员很容易想到将有机树脂层的折射率选择为1.5，与CF基板的折射率相同。
综上，合议组对复审请求人陈述的理由不予支持。
三、决定
维持国家知识产权局于2017年09月30日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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