发明创造名称：一种掩膜板及其实现曝光接合的方法
外观设计名称：
决定号：181132
决定日：2019-06-13
委内编号：1F258465
优先权日：
申请（专利）号：201210545317.4
申请日：2012-12-14
复审请求人：京东方科技集团股份有限公司 北京京东方显示技术有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：扈燕
合议组组长：刘文治
参审员：陈凯
国际分类号：G03F1/38,G03F7/20
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点：如果一项权利要求请求保护的技术方案与最接近的对比文件相比虽然存在区别技术特征，但上述技术特征均属于本领域的常规设计，其效果也是可以预期的，那么该项权利要求请求保护的技术方案不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201210545317.4，名称为“一种掩膜板及其实现曝光接合的方法”的发明专利申请（下称“本申请”），其申请日为2012年12月14日，申请公布日为2014年06月18日，申请人为京东方科技集团股份有限公司和北京京东方显示技术有限公司。
国家知识产权局专利实质审查部门依法对本申请进行了实质审查，于2018年03月23日以本申请权利要求1、5、6、7的部分技术方案不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由作出驳回决定，此外，在其他说明部分还指出权利要求1-7的部分技术方案不具备专利法第22条第2款规定的新颖性或专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所针对的文本为：申请人于2017年11月06日提交的权利要求第1-7项，于申请日2012年12月14日提交的说明书第1-54段、说明书附图图1-8、说明书摘要和摘要附图。其中，在实质审查过程中共使用了如下对比文件：
对比文件1：CN1490674A，公开日为2004年04月21日；
对比文件2：CN101183213A，公开日为2008年05月21日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种掩膜板，其特征在于，该掩膜板用于曝光接合的部位设置有图形，该图形用于：结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形，所述图形是孔，或包含孔；其中，所述掩膜板上的所述图形包含第一图形、以及通过所述掩膜板对所述基板进行曝光接合后在所述基板上能够与在所述基板上形成的第一图形重叠或存在错位的第二图形；或，
所述掩膜板包括第一掩膜板、第二掩膜板；在所述第一掩膜板用于曝光接合的部位设置有第一图形，在所述第二掩膜板用于曝光接合的部位设置有第二图形，所述第一图形和第二图形用于通过所述第一掩膜板和第二掩模板对所述基板进行曝光接合后在所述基板上形成具有重叠或错位的位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形。
2. 根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一图形设置于所述第一掩膜板的一端，所述第二图形设置于所述第二掩膜板上与所述第一掩膜板相同的一端或对端。
3. 根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一图形设置于所述掩膜板的一端，所述第二图形设置于所述掩膜板的对端。
4. 根据权利要求1至3任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述第一图形和/或第二图形的数量为一个、两个或更多。
5. 一种基于权利要求1至4任一项所述的掩膜板实现曝光接合的方法，其特征在于，该方法包括：
步骤一、结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的图形；
步骤二、根据该图形对所述掩膜板进行位置上的调校。
6. 根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的图形包括以下方式中至少一种：
方式一、应用所述掩膜板对所述基板进行曝光，在所述基板上形成所述图形中的第一图形；在后续应用该掩膜板对所述基板进行曝光接合时，在所述基板上形成与所述第一图形重叠或存在错位的第二图形；或，
应用所述掩膜板对所述基板进行曝光，在所述基板上形成所述图形中的第一图形；在后续应用该掩膜板对所述基板进行曝光接合时，在所述基板上形成与所述第一图形重叠或存在错位的第二图形，还形成用于实现下一次曝光接合的第一图形；
方式二、应用所述掩膜板中的一块掩膜板对所述基板进行曝光，在所述基板上形成所述图形中的第一图形，在后续应用所述掩膜板中的另一块掩膜板对所述基板进行曝光接合时，在所述基板上形成与所述第一图形重叠或存在错位的第二图形；或，
应用所述掩膜板中的一块掩膜板对所述基板进行曝光，在所述基板上形成所述图形中的第一图形，在后续应用所述掩膜板中的另一块掩膜板对所述基板进行曝光接合时，在所述基板上形成与所述第一图形重叠或存在错位的第二图形，还形成用于实现下一次曝光接合的第一图形。
7. 根据权利要求6所述的方法，其特征在于，
所述第一图形与第二图形之间的特定位置关系为重叠时，所述进行位置上的调校的方法为：当完成曝光接合后在基板上形成的第一图形与第二图形没能重叠在一起时，根据第一图形与第二图形之间相差的尺寸对用于曝光接合的掩膜板进行位置上的调校，使通过该掩膜板完成曝光接合后的第一图形与第二图形重叠在一起；
所述第一图形与第二图形之间的特定位置关系为存在错位时，所述进行位置上的调校的方法为：当完成曝光接合后在基板上形成的第一图形与第二图形之间不具有所述错位时，对用于曝光接合的掩膜板进行位置上的调校，使通过该掩膜板完成曝光接合后的第一图形与第二图形之间存在所述错位。”
驳回决定中指出，本申请权利要求1的第一种并列技术方案与对比文件1公开的内容相比，其区别在于：掩膜板上的图形包含第一图形以及通过掩膜板对基板进行曝光接合后在基板上能够与在基板上形成的第一图形重叠或存在错位的第二图形；所述图形是孔，或包含孔。而上述区别技术特征被对比文件2与本领域惯用手段的结合所公开，因此，本申请权利要求1的第一种并列技术方案不具备专利法第22条第3款规定的创造性。独立权利要求5引用了在前的权利要求1-4，在其引用的权利要求1的第一并列技术方案不具备创造性的情况下，其进一步限定的技术特征被证据1公开，因此，其引用权利要求1的第一种并列技术方案时的技术方案同样不具备创造性。从属权利要求6、7的附加技术特征或者被对比文件2公开，或者属于本领域的公知常识，因此，在其引用的权利要求技术方案不具备创造性的情况下，其相应的技术方案同样不具备创造性。此外，在其他说明部分还指出权利要求1-7的其余部分技术方案不具备专利法第22条第2款规定的新颖性或专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人京东方科技集团股份有限公司和北京京东方显示技术有限公司（下称复审请求人）不服上述驳回决定，于2018年06月29日提出复审请求，并提交了权利要求书的全文修改替换页，其中，在独立权利要求1中增加了技术特征“其中，所述掩膜板是用来形成栅极图案的掩膜板，所述第一图形与所述第二图形的形状相同”。修改后的独立权利要求1如下：
“1. 一种掩膜板，其特征在于，该掩膜板用于曝光接合的部位设置有图形，该图形用于：结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形，所述图形是孔，或包含孔；其中，所述掩膜板上的所述图形包含第一图形、以及通过所述掩膜板对所述基板进行曝光接合后在所述基板上能够与在所述基板上形成的第一图形重叠或存在错位的第二图形；或，
所述掩膜板包括第一掩膜板、第二掩膜板；在所述第一掩膜板用于曝光接合的部位设置有第一图形，在所述第二掩膜板用于曝光接合的部位设置有第二图形，所述第一图形和第二图形用于通过所述第一掩膜板和第二掩模板对所述基板进行曝光接合后在所述基板上形成具有重叠或错位的位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形；
其中，所述掩膜板是用来形成栅极图案的掩膜板，所述第一图形与所述第二图形的形状相同。”
此后，复审请求人于2018年08月13日，再次提交了复审请求书，随该复审请求人再次提交了权利要求书的全文修改替换页。经核对，本次提交的权利要求书的修改文本与复审请求人于2018年06月29日提交的修改文本相同。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年08月20日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为修改后的权利要求仍然不具备创造性，因而坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
本案合议组于2019年03月25日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1的修改不符合专利法第33条的规定，并且，即使复审请求人将权利要求1中的上述技术特征“其中，所述掩膜板是用来形成栅极图案的掩膜板，所述第一图形与所述第二图形的形状相同”修改为“所述掩膜板上用于进行曝光结合的部位设置的图形是栅极图案，所述第一图形与所述第二图形的形状相同”或类似表述以克服有关专利法第33条的缺陷，权利要求1包含的两个技术方案分别相对于对比文件2与公知常识的结合，或者对比文件1与公知常识的结合仍然不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求2-4的附加技术特征或者被对比文件1或对比文件2公开，或者属于本领域的公知常识，因此，从属权利要求2-4同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。独立权利要求5引用了在前的权利要求1-4，其进一步限定的技术特征被对比文件1或对比文件2公开，因此，在其引用的权利要求不具备创造性的情况下，权利要求5也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。从属权利要求6、7的附加技术特征或者被对比文件1或对比文件2公开，或者属于本领域的公知常识，因此，从属权利要求6、7同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
针对上述复审通知书，复审请求人于2019年05月05日提交了意见陈述书，并提交了权利要求书的修改替换页。其中，将原权利要求1中的技术特征“其中，所述掩膜板是用来形成栅极图案的掩膜板，所述第一图形与所述第二图形的形状相同”修改为“所述掩膜板上的所述图形是设置有钩状图形的栅极图形，所述栅极图形包括的第一图形包含孔，所述栅极图形包括的第二图形不包含孔”，同时删除了原权利要求1中的技术特征“所述图形是孔，或包含孔”。修改后的权利要求1如下：
“1. 一种掩膜板，其特征在于，该掩膜板用于曝光接合的部位设置有图形，该图形用于：结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形；其中，所述掩膜板上的所述图形包含第一图形、以及通过所述掩膜板对所述基板进行曝光接合后在所述基板上能够与在所述基板上形成的第一图形重叠或存在错位的第二图形；或，
所述掩膜板包括第一掩膜板、第二掩膜板；在所述第一掩膜板用于曝光接合的部位设置有第一图形，在所述第二掩膜板用于曝光接合的部位设置有第二图形，所述第一图形和第二图形用于通过所述第一掩膜板和第二掩模板对所述基板进行曝光接合后在所述基板上形成具有重叠或错位的位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形；
其中，所述掩膜板上的所述图形是设置有钩状图形的栅极图形，所述栅极图形包括的第一图形包含孔，所述栅极图形包括的第二图形不包含孔。”
结合上述修改后的权利要求书，复审请求人认为：（1）本申请是针对如何在保证曝光接合的精度的前提下，避免曝光接合不良的发生的问题而提出的，而对比文件1是针对现有技术中难以有效侦测出光罩的接合程度，以正确识别出发生错误的光罩的问题而提出的，二者的发明构思不同，对比文件1、2均未教导本申请实质解决上述技术问题，发现技术问题本身就是对于现有技术的贡献，从而本领域技术人员没有动机基于对比文件1和对比文件2实现通向本申请技术方案的改进；（2）对比文件2中的两个像素图案的位置是互补的关系，而本申请修改后的权利要求1的方案一中的第一图形与第二图形在对基板进行曝光接合后的位置关系是重叠或错位，两者的位置关系不同；（3）对比文件1涉及的是标记图形206与216会曝出分别形成于指针两侧的标记，并未直接或间接指出位于指针两侧的标记图形206、216在对基板进行曝光接合后的位置关系为重叠或错位，其是在光罩中央一侧配置标记图形，而本申请修改后的权利要求1的方案二是在第一掩膜板和第二掩膜板用于曝光接合的部位设置第一图形和第二图形，可见，二者设置位置不同；（4）对比文件1未直接或间接指出位于指针两侧的标记图案的形状是否相同，更未涉及是否都为具有钩状图形的栅极图形，对比文件2未直接或间接指出掩膜板上设置的图形的形状为具有钩状图形的栅极图形，也未涉及栅极图形包括的第一图形包含孔，栅极图形包括的第二图形不包含孔，栅极图形设置为具有钩状图形的栅极图形，可以用于提高图形的可辨别性。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以依法作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本的认定
复审请求人在答复复审通知书时提交了修改文本，经审查，上述修改符合专利法第33条的规定，因此，本复审决定所针对的文本为：复审请求人于2019年05月05日提交的权利要求第1-7项，于申请日2012年12月14日提交的说明书第1-54段，说明书附图图1-8，说明书摘要和摘要附图。
2、关于创造性
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
2.1关于独立权利要求1
本申请权利要求1请求保护一种掩膜板，其大体上包含两个并列的技术方案：方案一：同一掩膜板上同时包含第一图形和第二图形的方案；方案二：第一掩膜板上包含第一图形，第二掩膜板上包含第二图形的方案。
（1）关于方案一：
本申请权利要求1请求保护一种掩膜板，对比文件2公开了一种光掩模及薄膜晶体管基板的制造方法，二者均属于光掩模技术领域。对比文件2公开了如下技术内容（参见说明书具体实施方式部份第一实施例，图1-5）：光掩模110具有一第一曝光区A11、一第二曝光区A12及一第三曝光区A13，第二曝光区A12位于第一曝光区A11及第三曝光区A13之间，光掩模110包括一第一周边线路图案L11、一第二周边线路图案L12、一第一虚拟引线图案D11、一第二虚拟引线图案D12、一第一重合像素图案P11、一第二重合像素图案P12、一第三重合像素图案P13、一第四重合像素图案P14、一第五重合像素图案P15、一第六重合像素图案P16及一中央像素图案P10。第二重合像素图案P12及第五重合像素图案P15位于光掩模110的第二曝光区A12的一侧边缘处，且第五重合像素图案P15位于外侧，第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16位于光掩模110的第二曝光区A12的另一侧边缘处，且第六重合像素图案P16位于外侧，在第一至第六重合像素图案P11-P16中，仅有斜线区域配置像素图案，空白区域则未配置像素图案，举例来说，第一重合像素图案P11与第二重合像素图案P12互补，也就是说，第一重合像素图案P11的斜线区域恰好对应于第二重合像素图案P12的空白区域；第一重合像素图案P11的空白区域恰好对应于第二重合像素图案P12的斜线区域，当第一重合像素图案P11与第二重合像素图案P12重叠曝光后，斜线区域与空白区域相互迭合，使得第一重合像素图案P11与第二重合像素图案P12所曝光的图案相互接合成完整的像素图案。第六重合像素图案P16与第二重合像素图案P12互补。同理，当第六重合像素图案P16与第二重合像素图案P12重叠曝光后，斜线区域与空白区域相互迭合，使得第六重合像素图案P16与第二重合像素图案P12所曝光的图案相互接合成完整的像素图案。此外，第四重合像素图案P14与第三重合像素图案P13互补，同理，当第四重合像素图案P14与第三重合像素图案P13重叠曝光后，斜线区域与空白区域相互迭合，使得第四重合像素图案P14与第三重合像素图案P13所曝光的图案相互接合成完整的像素图案。第五重合像素图案P15与第三重合像素图案P13互补，同理，当第五重合像素图案P15与第三重合像素图案P13重叠曝光后，斜线区域与空白区域相互迭合，使得第五重合像素图案P15与第三重合像素图案P13所曝光的图案相互接合成完整的像素图案。采用该光掩模110进行重复曝光以形成薄膜晶体管基板130的过程中，参照图4E，在步骤S12中，移动光掩模110，以使光掩模110的第五重合像素图案P15及第二重合像素图案P12对应于基板131上的第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16的位置，并以遮光板111遮蔽光掩模110的部分区域，以使光掩模110暴露出第五重合像素图案P15、第二重合像素图案P12、中央像素图案P10、第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16，同时，并以光掩模110的第五重合像素图案P15、第二重合像素图案P12、中央像素图案P10、第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16曝光光刻胶层132，由于光掩模110的第五重合像素图案P15及第二重合像素图案P12对应于基板131上的第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16的位置，因此第五重合像素图案P15及第二重合像素图案P12重迭曝光于第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16。
基于对比文件2公开的上述内容可知，其中的光掩模110相当于本申请中的掩膜板；基板131相当于本申请中的基板；位于第二曝光区A12的第五重合像素图案P15、第二重合像素图案P12、第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16相当于本申请中的用于结合的部位设置有图形，该图形用于：结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形，其中位于中央像素图案P10一侧的第五重合像素图案P15和第二重合像素图案P12相当于本申请中的第一图形，位于中央像素图案P10另一侧的第三重合像素图案P13和第六重合像素图案P16相当于本申请中的通过所述掩膜板对所述基板进行曝光接合后在所述基板上能够与在所述基板上形成的第一图形重叠的第二图形，并且二者能够重迭，且结合附图1、4E可看出，上述各重合像素图案区域均呈矩形，且在曝光时上述区域两两重叠，则显然其形状相同。
由此，本申请权利要求1的方案一与对比文件2公开的内容相比，其区别技术特征在于：（1）所述掩膜板上的所述图形是设置有钩状图形的栅极图形，所述栅极图形包括的第一图形包含孔，所述栅极图形包括的第二图形不包含孔；（2）所述第二图形还可以是在进行曝光接合后与所述第一图形存在错位的图形。
对本领域技术人员而言，在对比文件2公开内容的基础上，根据需要设计用于接合对准的第一和第二图形的具体图案，将其设计为包括具有钩状图形的栅极图形在内的各种合适的图案并根据需要在栅极图形的不同部分内设置孔或不设置孔以及设计图案使其在接合对准时重叠或存在错位均属于本领域的常规设计，只要其能够达到接合对准的目的即可，并且其效果均是可以预期的。因此，本申请权利要求1的方案一相对于对比文件2与本领域的公知常识的结合不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（2）关于方案二
本申请权利要求1请求包含一种掩膜板，对比文件1公开了一种渐层遮光板曝光方法的光罩及其侦测方法，二者均属于光掩模技术领域。对比文件1具体公开了如下技术内容（参见说明书第3页第2段-第7页第1段，图1-4）：假使一液晶显示器面板的图案需要两个光罩才能曝出来，则设计两个光罩200与210用以分别曝成面板的完整图案，而在光罩200与210中分别有一重合部位202与212，其中的光罩图案相同但呈灰度状态，愈往外侧其曝光能量愈低，而且在重合部位202、212中具有十字形指针204与214，此外，在指针204靠近光罩200中央的一侧配置有相连指针204的标记图形206，以及在指针214靠近光罩210中央的一侧配置相连指针214的标记图形216，其中标记206与216形状大小皆同，且于本实施例中是一矩形标记，当然也可以是其他形状的标记，然后，当两光罩200与210分别曝光及显影后，其中的重合部位202与212将重叠成同一区域的相同图案，且十字型指针204曝出的图案也会与十字型指针214曝出的图案相重叠，而标记图形206与216会曝出分别形成于指针两侧的标记，采用该光罩接合对准的步骤包括：于步骤300中，提供具有一重合部位的第一部份光罩，且于重合部位的指针靠近光罩中央的一侧设置一标记图形，接着，于步骤302中，提供具有一重合部位的第二部份光罩，且于重合部位的指针靠近光罩中央的一侧设置另一标记图形，接着，于步骤304中，利用第一部份光罩与第二部份光罩对一基板进行曝光，之后，于步骤306中，进行显影，以于基板上形成标记与指针的图案，随后，于步骤308中，依照两部分图案重叠的光罩所曝出的量标记的清晰边缘间的距离，来判定其接合状况是否标准，当本发明的标记图形是矩形或是其它边缘清晰的图形时，不但可以测知光罩左右接合偏移量，还可同时获知光罩的上下接合偏移量。
基于对比文件1公开的上述内容可知，其中的光罩200和210相当于本申请中的掩膜板，其中，光罩200相当于本申请中的第一掩膜板，位于其上的十字型指针204及标记图形206的组合相当于本申请中的第一图形；光罩210相当于本申请中的第二掩膜板，位于其上的十字型指针214及标记图形216的组合相当于本申请中的第二图形；当两光罩200与210分别曝光及显影后，其中的重合部位202与212将重叠成同一区域的相同图案，且十字型指针204曝出的图案也会与十字型指针214曝出的图案相重叠，而标记图形206与216会曝出分别形成于指针两侧的标记，相当于本申请中的所述第一图形和第二图形用于通过所述第一掩膜板和第二掩膜板对所述基板进行曝光接合后在所述基板上形成具有错位的位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形。
由此，本申请权利要求1的方案二与对比文件1公开的内容相比，其区别技术特征在于：（1）所述掩膜板上的所述图形是设置有钩状图形的栅极图形，所述栅极图形包括的第一图形包含孔，所述栅极图形包括的第二图形不包含孔；（2）所述第二图形还可以是在进行曝光接合后与所述第一图形重叠的图形。
而如上所述，对本领域技术人员而言，在对比文件1公开内容的基础上，根据需要设计用于接合对准的第一和第二图形，将其设计为包括具有钩状图形的栅极图形在内的各种合适的图案并根据需要在栅极图形的不同部分内设置孔或不设置孔以及设计图案使其在接合对准时重叠或存在错位同样均属于本领域的常规设计，并且其效果均是可以预期的。因此，本申请权利要求1的方案二相对于对比文件1与本领域的公知常识的结合不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
关于请求人的意见，合议组经审查后认为：
（1）参见对比文件1说明书第3页第2段的记载“本发明因为在采用渐层遮光板曝光法的光罩的重合部位中的指针一侧设置标记图形，所以当光罩有偏移时，可以根据曝光显影后形成的两标记间距与其中心点的偏移量来判断光罩间的接合对准是否有偏差，进而改善其接合情况”，可见，对比文件1明确公开了其通过指针以及标记图形的使用，能够改善接合情况，也就是避免接合不良的发生。由此，对比文件1同样也能够解决本申请所要解决的技术问题。对比文件2虽然没有直接提及避免曝光接合不良的问题，但是，在光刻技术领域，提高曝光接合精度、避免曝光接合不良，是本领域技术人员一贯追求的目标，对比文件2需要采用同一光掩模的不同部分分次曝光形成拼合的图案以满足大尺寸薄膜晶体管的制造需求，其显然也需要保证接合精度、避免曝光接合不良的发生。因此，本领域在对比文件1、2公开的基础上，显然有动机对其进行改进。此外，如上所述，这一技术问题本身属于本领域技术人员一贯追求的目标，不属于本领域技术人员以前未意识到而在本申请中新提出的技术问题，因此，其发现技术问题本身亦不构成对现有技术的贡献。
（2）如上所述，对比文件2的步骤S12明确公开了“以光掩模110的第五重合像素图案P15、第二重合像素图案P12、中央像素图案P10、第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16曝光光刻胶层132，由于光掩模110的第五重合像素图案P15及第二重合像素图案P12对应于基板131上的第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16的位置，因此第五重合像素图案P15及第二重合像素图案P12重迭曝光于第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16”，即，其曝光过程中要求第五重合像素图案P15及第二重合像素图案P12重迭曝光于第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16，可见，对比文件2公开的光掩模，在具体应用过程中需要实现的是第五重合像素图案P15及第二重合像素图案P12与第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16的两两重迭，即为本申请所述的“重叠”，至于其各重合像素图案区域内的具体图样是互补亦或是其他图样，则属于重叠区域内部的差异，不影响接合图形整体的重叠与否，即类似于本申请说明书具体实施方式（第[0036]-[0038]段）中给出的重叠的两个图形中，图形7包含孔8，而图形9不包含孔的情形。
（3）如上所述，对比文件1中的光罩200相当于本申请中的第一掩膜板，光罩210相当于本申请中的第二掩膜板，当两光罩200与210分别曝光及显影后，其中的重合部位202与212将重叠成同一区域的相同图案，且十字型指针204曝出的图案也会与十字型指针214曝出的图案相重叠，而标记图形206与216会曝出分别形成于指针两侧的标记，相当于本申请中的所述第一图形和第二图形用于通过所述第一掩膜板和第二掩膜板对所述基板进行曝光接合后在所述基板上形成具有错位的位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形。并且，对比文件1中虽然文字描述的是“在指针204靠近光罩200中央的一侧配置有相连指针204的标记图形206，以及在指针214靠近光罩210中央的一侧配置相连指针214的标记图形216”，但上述指针204和图形标记206以及指针214和标记图形216均分别位于光罩200的重合部位202和光罩210的重合部位212内，该重合部位202和重合部位212均为该光罩用于接合的部位。可见，对比文件1中的指针及标记图形设置的位置实质上与本申请是相同的。
（4）合议组认可对比文件1或对比文件2并未公开本专利权利要求1中限定的技术特征“所述掩膜板上的所述图形是设置有钩状图形的栅极图形，所述栅极图形包括的第一图形包含孔，所述栅极图形包括的第二图形不包含孔”，但如上所述，这些内容均属于本领域的常规应用或常规设计，其图形的具体图案均可由本领域技术人员根据需要进行一定的设计和定义，例如，通过某种具体图案来标明该掩模板的具体用途是本领域技术人员容易想到的，其所达到的提高图形的可辨别性的效果也是本领域技术人员可以预期的。至于对比文件1中指针两侧的标记图案的形状是否相同的问题，修改后的权利要求1中已经将技术特征“所述第一图形与所述第二图形的形状相同”删除，在此不再回应。
综上，复审请求人的上述意见均不具有说服力，合议组不予支持。
2.2 关于从属权利要求2-4
权利要求2是权利要求1的从属权利要求，其附加技术特征为“所述第一图形设置于所述第一掩膜板的一端，所述第二图形设置于所述第二掩膜板上与所述第一掩膜板相同的一端或对端”。而对比文件1中十字型指针204和标记图形206显然位于光罩200的一端，而十字型指针214和标记图形216显然位于光罩210的与光罩200的对端。可见，对比文件1已经公开了权利要求2中限定的两图形分别位于两掩膜板“对端”的情况，至于位于“相同的一端”的情况则属于本领域技术人员根据需要所容易进行的常规设计。因此，在其引用的权利要求1的相应技术方案不具备创造性的情况下，从属权利要求2请求保护的技术方案同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求3是权利要求1的从属权利要求，其附加技术特征为“所述第一图形设置于所述掩膜板的一端，所述第二图形设置于所述掩膜板的对端”。而如上所述，对比文件2公开的光掩模中，第五重合像素图案P15和第二重合像素图案P12（相当于本申请的第一图形）位于中央像素图案P10一侧，也即位于光掩模110的一端，第三重合像素图案P13和第六重合像素图案P16（相当于本申请的第二图形）位于中央像素图案P10的另一侧，也即位于光掩模110的对端。可见，对比文件2还公开了权利要求3的附加技术特征。因此，在其引用的权利要求1的相应技术方案不具备创造性的情况下，从属权利要求3也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求4是权利要求1-3的从属权利要求，其附加技术特征为“所述第一图形和/或第二图形的数量为一个、两个或更多”。基于对比文件1公开的上述内容及其评述可知，分别位于两光罩上的十字型指针与标记图形组合在一起形成一个图案，即，对比文件1已经公开了权利要求4中限定的所述第一图形和/或第二图形的数量为一个的情况；基于对比文件2公开的上述内容及其评述可知，作为第一图形和第二图形的重合像素图案均为两个区域，即，对比文件2已经公开了权利要求4中限定的所述第一图形和/或第二图形的数量为两个的情况。至于所述第一图形和/或第二图形的数量为更多的情况则属于本领域技术人员根据需要而容易进行的常规设计。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的情况下，从属权利要求4同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.3 关于独立权利要求5
独立权利要求5请求保护一种基于权利要求1-4任一项所述的掩膜板实现曝光接合的方法，如上所述，权利要求1-4任一项所述的掩膜板的技术方案已经不具备创造性。此外，如上所述，对比文件2还公开了一种使用其公开的光掩模实现曝光接合的方法，并且在其步骤S10、S12中，已经公开了通过两次曝光使第五重合像素图案P15及第二重合像素图案P12重迭曝光于第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16的过程，即，其已经直接公开了利要求5中限定的“接合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的图形”的步骤一。此外，由于对比文件2公开的上述步骤中明确要求移动光掩模110进行两次曝光时的对应重合像素图案需要对准，则必然包含了权利要求5中限定的“根据该图形对所述掩膜板进行位置上的调校”的步骤二，即，这属于对比文件2隐含公开的内容。另外，对比文件1还公开了一种使用其公开的光罩实现曝光接合的方法，其中的步骤304中利用第一部份光罩与第二部份光罩对一基板进行曝光，即相当于本申请的步骤一，步骤308中依照两部分图案重叠的光罩所曝出的两标记的清晰边缘间的距离，来判定其接合状况是否标准，结合其说明书发明内容部分记载的“可以根据曝光显影后形成的两标记间距与其中心点的偏移量来判断光罩间的接合对准是否有偏差，进而改善其接合情况”的记载，显然隐含公开了当接合未达到标准时需要对掩膜板的位置进行调校的内容，即，对比文件1同样隐含公开了本申请的步骤二。可见，权利要求5中进一步限定的技术特征已经被对比文件1或对比文件2公开。因此，权利要求5请求保护的技术方案同样不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.4 关于从属权利要求6、7
权利要求6是权利要求5的从属权利要求，其采用两种方式对其引用的权利要求5中的步骤一进行了进一步的限定。
关于方式一：
如上所述，对比文件2已经公开了在同一光掩模上形成可进行接合对准的第一图形和第二图形以便在光刻过程中进行接合对准，其中，在其步骤S10中，以遮光板111遮蔽光掩模110的部份区域，使光掩模110暴露出包括第三重合像素图案P13和第六重合像素图案P16在内的区域，并以光掩模110的上述区域曝光基板131的光刻胶层132（相当于本申请中的应用所述掩膜板对所述基板进行曝光，在所述基板上形成所述图形中的第一图形）；在其步骤S12中，移动光掩模110，以使光掩模110暴露出第五重合像素图案P15、第二重合像素图案P12、中央像素图案P10、第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16，同时，并以光掩模110的第五重合像素图案P15、第二重合像素图案P12、中央像素图案P10、第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16曝光光刻胶层132，由于光掩模110的第五重合像素图案P15及第二重合像素图案P12对应于基板131上的第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16的位置，因此第五重合像素图案P15及第二重合像素图案P12重迭曝光于第三重合像素图案P13及第六重合像素图案P16（相当于本申请中的在后续应用该掩膜板对所述基板进行曝光接合时，在所述基板上形成于所述第一图形重叠的第二图形，还形成用于实现下一次曝光接合的第一图形）。此外，在上述接合对准曝光的过程中，在后续应用该掩膜板对基板进行曝光接合时无论是否还形成用于实现下一次曝光接合的第一图形都是本领域的常用技术手段，这取决于被曝光基板及光掩模的相对尺寸以及需要曝光的图样等因素。并且，如上所述，应用于接合对准的两图形是重叠或存在错位均是本领域的常规设计。因此，本申请权利要求6的方式一中限定的特征或者被对比文件2公开，或者属于本领域的常用技术手段和常规设计。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的情况下，本申请权利要求6的方式一所限定的技术方案同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
关于方式二：
如上所述，对比文件1已经给公开了在光罩200和210上分别形成十字型指针和标记图形的组合以便在光刻过程中进行对准，其中，在步骤300和302中分别提供了具有重合部位的第一和第二部份光罩之后，在步骤304中，利用第一部份光罩与第二部份光罩对一基板进行曝光，即相当于本申请中的应用所述掩膜板中的一块掩膜板对所述基板进行曝光，在所述基板上形成所述图形中的第一图形，在后续应用所述掩膜板中的另一块掩膜板对所述基板进行曝光接合时，在所述基板上形成于所述第一图形存在错位的第二图形。此外，如上所述，在上述接合对准曝光的过程中，在后续应用该掩膜板对基板进行曝光接合时无论是否还形成用于实现下一次曝光接合的第一图形都是本领域的常用技术手段，应用于接合对准的两图形是重叠或存在错位均是本领域的常规设计。因此，本申请权利要求6的方式二中限定的特征或者被对比文件1公开，或者属于本领域的常用技术手段和常规设计。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的情况下，本申请权利要求6的方式二所限定的技术方案同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
同时，在分别采用上述方式一或方式二限定的技术方案不具备创造性的情况下，根据需要同时采用方式一和方式二限定的方法在基板上形成具有特定位置关系的图形的方法同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求7是权利要求6的从属权利要求，其对其引用的权利要求6中的调校方法进行了进一步的限定。而如上所述，对比文件2公开了第一图形和第二图形的特定位置关系为重叠的情况，则对二者之间位置进行调校时必然是当二者未能重叠在一起时根据二者之间相差的尺寸对掩膜板位置进行调校使二者重叠；类似的，对比文件1公开了第一图形和第二图形的特定位置关系为存在错位的情况，则对二者之间位置进行调校时必然是当二者不具有所述错位时通过对掩膜板位置进行调校使二者之间存在指定的所述错位，即，对比文件2和对比文件1分别隐含公开了上述技术特征。此外，上述调节方法也属于本领域的公知常识。因此，在其引用的权利要求6不具备创造性的情况下，权利要求7请求保护的技术方案同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
综上，本申请权利要求1-7均不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年03月23日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定,请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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