发明创造名称：图像轮廓生成方法及装置
外观设计名称：
决定号：180762
决定日：2019-06-10
委内编号：1F272259
优先权日：
申请（专利）号：201610687770.7
申请日：2016-08-18
复审请求人：东方晶源微电子科技（北京）有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：钱丹娜
合议组组长：王文杰
参审员：张月
国际分类号：H01L21/66
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点：如果一项权利要求请求保护的技术方案和作为现有技术的对比文件相比具有区别技术特征，但该区别技术特征属于本领域常规技术手段，则现有技术给出了将该区别技术特征应用于该对比文件的技术启示，该权利要求相对于该对比文件和本领域常规技术手段的结合不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201610687770.7，名称为“图像轮廓生成方法及装置”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为东方晶源微电子科技（北京）有限公司，申请日为2016年08月18日，公开日为 2016年12月21日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年10月15日发出驳回决定，以权利要求1-10不符合专利法第22条第3款规定的创造性为由驳回了本申请。驳回决定所依据的文本为：申请日2016年08月18日提交的说明书第1-72段、说明书附图图1-10、说明书摘要、摘要附图，以及2018年02月07日提交的权利要求第1-10项。驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种生成图像轮廓的方法，其特征在于，包括：
基于用于制造集成电路的设计目标信息，生成一个掩模图；
基于在所述掩模图上的光刻效用的仿真和/或光致抗蚀仿真，生成一个基准图像；
基于对所述基准图像的边缘探测，生成一个基准图像轮廓图；
从存储器中取出一个所述集成电路的扫描图像；
生成一个扫描图像轮廓图，所述扫描图像轮廓图是所述基准图像轮廓图和所述集成电路的扫描图像的函数，包括：使用所述基准图像轮廓图来指引检查算法，所述检查算法将对所述扫描图像的特征检测功能限制在仅针对所述基准图像轮廓图存在的区域。
2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于在所述掩模图上的光刻效用的仿真和/或光致抗蚀仿真，生成一个基准图像包括：
生成光致抗蚀剂效用的仿真，所述光致抗蚀剂效用为一个光致抗蚀模型的函数，所述光致抗蚀模型是基于用于制造所述集成电路的一个光致抗蚀剂层的特性；
基于所述光刻效用的仿真及所述光致抗蚀剂效用的仿真的结合，生成所述基准图像。
3. 根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其特征在于，所述光刻效用的仿真是一个光学模型的函数，所述光学模型是基于用于制造所述集成电路的一个棱镜或一个光掩模的特性。
4. 根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其特征在于，进一步包括：
把所述扫描图像轮廓图和所述基准图像轮廓图划分成对应的区；
在每一个区内，分别比较所述扫描图像轮廓图和所述基准图像轮廓图，以检测所述集成电路是否存在缺陷。
5. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，进一步包括：
如果在一个区内，所述扫描图像轮廓图与所述基准图像轮廓图不一致，则确定在所述一个区所述集成电路存在缺陷。
6. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述比较是逐行或逐个对象执行的。
7. 根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其特征在于，进一步包括：
识别所述扫描图像轮廓图中的集成电路特征，并对所述集成电路特征进行测量。
8. 一种装置，其特征在于，包括：
存储器；
至少一个处理器，其执行储存在所述存储器内的指令以：
基于用于制造集成电路的设计目标信息，生成一个掩模图；
基于在所述掩模图上的光刻效用的仿真和/或光致抗蚀仿真，生成一个基准图像；
基于对所述基准图像的边缘探测，生成一个基准图像轮廓图；
从所述存储器中取出一个所述集成电路的扫描图像；
生成一个扫描图像轮廓图，所述扫描图像轮廓图是所述基准图像轮廓图和所述集成电路的扫描图像的函数，包括：使用所述基准图像轮廓图来指引检查算法，所述检查算法将对所述扫描图像的特征检测功能限制在仅针对所述基准图像轮廓图存在的区域。
9. 根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述处理器进一步执行储存在所述存储器内的指令以：
生成光致抗蚀剂效用的仿真，所述光致抗蚀剂效用为一个光致抗蚀模型的函数，所述光致抗蚀模型是基于用于制造所述集成电路的一个光致抗蚀剂层的特性；
基于所述光刻效用的仿真及所述光致抗蚀剂效用的仿真的结合，生成所述基准图像。
10. 根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述处理器进一步执行储存在所述存储器内的指令以：
将一个区域中的所述扫描图像轮廓图与相应区域中的所述基准图像轮廓图相比较，以检测在所述一个区域中所述集成电路的缺陷。”
驳回决定引用的对比文件如下：
对比文件1 CN1O4718428A，公开日为2015年06月17日。
驳回决定的理由为：权利要求1请求保护一种生成图像轮廓的方法，其与对比文件1的区别技术特征在于：（1）权利要求1中的扫描图像为从存储器中取出的，而对比文件1中的检查图像为检测器测量的；（2）权利要求1中还可以通过光致抗蚀仿真生成基准图像。基于上述区别技术特征，权利要求1实际要解决的技术问题为：（1）如何非实时进行轮廓生成；（2）如何选择另外一种生成基准图像的方式。但上述区别技术特征属于本领域常规技术手段。因此，权利要求1相对于对比文件1和本领域常规技术手段的结合不具备创造性。权利要求8请求保护一种装置。其包括：存储器；至少一个处理器，其执行储存在所述存储器内的指令以执行权利要求1对应的方法。基于对权利要求1相同理由，也不具备创造性。权利要求2-4的附加技术特征部分被对比文件1公开，部分属于本领域常规技术手段；权利要求5-7的附加技术特征属于本领域常规技术手段；权利要求9和10的附加技术特征与方法权利要求2和4的附加技术特征对应；因此，从属权利要求2-7,9-10也不具备创造性。
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2019年01月25日向国家知识产权局提出了复审请求，同时修改了权利要求书（包括权利要求第1-10项）。其中对权利要求1进行了修改，在前三个步骤中分别增加了执行主体“掩模图生成器”、“基准图像模拟器”以及“边缘探测器”。复审请求人认为：权利要求1相对于对比文件1具有区别特征：掩模图生成器基于用于制造集成电路的设计目标信息，生成一个掩模图；基准图像模拟器基于在所述掩模图上的光刻效用的仿真和/或光致抗蚀仿真，生成一个基准图像；边缘探测器基于对所述基准图像的边缘探测，生成一个基准图像轮廓图。对比文件1中的基准图像轮廓图是预存在存储装置130中的，基准轮廓线是通过对预存的轮廓形状等轮廓图进行变形处理而得出的。权利要求1中，仅有用于制造集成电路的最原始的设计目标信息是被获取的，而掩模图、基准图像以及基准图像轮廓图是通过掩模图生成器、基准图像模拟器以及边缘探测器根据设计目标信息临时生成的，极大地降低了存储空间的需求，减少了存储负担。复审请求时新修改的权利要求1如下：
“1. 一种生成图像轮廓的方法，其特征在于，包括：
掩模图生成器基于用于制造集成电路的设计目标信息，生成一个掩模图；
基准图像模拟器基于在所述掩模图上的光刻效用的仿真和/或光致抗蚀仿真，生成一个基准图像；
边缘探测器基于对所述基准图像的边缘探测，生成一个基准图像轮廓图；
从存储器中取出一个所述集成电路的扫描图像；
生成一个扫描图像轮廓图，所述扫描图像轮廓图是所述基准图像轮廓图和所述集成电路的扫描图像的函数，包括：使用所述基准图像轮廓图来指引检查算法，所述检查算法将对所述扫描图像的特征检测功能限制在仅针对所述基准图像轮廓图存在的区域。”。
经形式审查合格，国家知识产权局于2019年02月02日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为：对比文件1同样是从设计目标信息生成掩膜图、基准图像、进而生成基准图像轮廓图，而生成上述各个图像必然需要对应的生成模块，因此，“掩膜图生成器”、“基准图像模拟器”、“边缘探测器”分别被对比文件1隐含公开了。而对比文件1中将最终生成的基准图像轮廓图存入存储装置中并不影响其公开了上述生成基准图像轮廓图的步骤。因而坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年03月21 日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1-10相对于对比文件1和公知常识的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性。针对复审请求人的意见，合议组认为：对比文件1（参见说明书第85段）公开了，设计数据也可以是基于电子设备设计数据而形成的掩膜图案经过光刻模拟等方法求得的轮廓形状。其也可以仅是存储了设计目标信息，而根据该信息通过掩膜图以及利用模拟的手段临时生成的。以上特征已经被对比文件1所公开。
复审请求人于2019年04月20 日以及2019年04月26日提交了意见陈述书，未修改申请文件。复审请求人认为：本申请中的“存储器”不应当被理解为独立于计算设各以外的数据存储设备。这个错误的理解和推断使得本申请的核心被认定为“非实时的”。但基于近年来CPU计算能力的长足进步，在本申请的处理过程中，检测程序可以实时的将芯片设计数据转化为掩膜图。同时，本申请公开的方法可以应用于实时检测，也可以应用于非实时检测。而对比文件1中“设计数据”是由某非实时的离线过程预先准备的检测对象的轮廓形状和坐标尺寸信息，并存储于存储装置130中，这是一个准备阶段。“设计数据”是在检测阶段开始后才由演算处理装置110从存储装置130中提取。可见，对比文件1中的程序是非实时的。对比文件1中“设计数据”的准各需要大量人力去提取、或拍摄、或进行平均化处理检测区域的良品图片，或使用模拟装置，非实时地，进行光刻仿真而产生检测区域的图片。在对比文件1专利申请的时间光刻仿真是一个十分耗费时间的工作。而本专利申请揭示的方法在很大的程度上有赖于CPU的处理能力特别是GPU的处理能力在近年里所得到的巨大提升。计算光刻技术的进步，特别是其与GPU技术的结合，使得在电子束硅片图形检测中实时地使用光刻模拟成为可能。这也是本项目研发的目标和成果之一，而非本领域的常规技术手段。因此本申请符合专利法的规定。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本
复审请求人于2019年01月25日提交复审请求书提交了权利要求书修改替换页（共10项权利要求），经审查，该修改符合专利法第33条以及专利法实施细则第61条第1款的规定，因此，本复审通知书针对的审查文本为：2019年01月25日提交的权利要求第1-10项，以及申请日2016年08月18日提交的说明书第1-72段、说明书附图图1-10、说明书摘要、摘要附图。
2、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案和作为现有技术的对比文件相比具有区别技术特征，但该区别技术特征属于本领域常规技术手段，则现有技术给出了将该区别技术特征应用于该对比文件的技术启示，该权利要求相对于该对比文件和本领域常规技术手段的结合不具备创造性。
本复审决定引用如下对比文件：
对比文件1：CN104718428A，公开日为2015年06月17日。
2.1、权利要求1：请求保护一种生成图像轮廓的方法。对比文件1公开了图像的检查、测量装置及程序，具体公开了（参见说明书第85-95、131-141、152-170段、图1-3、9-10、14-16）设计数据可以是基于电子设备设计数据而形成的掩膜图案经过光刻模拟等方法求得的轮廓形状（相当于掩模图生成器基于用于制造集成电路的设计目标信息，生成一个掩模图；基准图像模拟器基于在所述掩模图上的光刻效用的仿真和/或光致抗蚀仿真，生成一个基准图像）。读取与检查图像对应范围的设计数据（该处设计数据与上面的设计数据指代的不同，相当于基准图像），根据需要，在进行对图案图形的拐角进行圆角处理等设计数据的变形处理之后，基于变形之后的设计数据求出基准轮廓线（相当于边缘探测器基于对所述基准图像的边缘探测，生成一个基准图像轮廓图。检查图像相当于集成电路的扫描图像）。初期设定部进一步从存储装置读取与检查图像相对应范围的辞典数据，进行基于基准轮廓线与检查图像之间的位置对准；利用在进行了位置对准状态下的检查图像与基准轮廓线，对于每个基准边缘求出一个边缘提取参数，轮廓线形成部利用所生成的边缘提取参数，提取测长边缘，形成测长轮廓线（相当于扫描图像轮廓图）；如图9所示的步骤5903中，边缘提取参数生成部113在与第5号分段的第N号基准边缘相关的亮度轮廓上，求得初期参数计算区间，初期参数计算区间可以为如下区间：向上凸起的1个区间与其两侧的向下凸起的区间的总集合之中，包含基准边缘的区间，如图10所示，轮廓1000中的基准边缘的位置对的像素值为像素值VC，针对像素值VC的边缘提取参数就是初期参数（由此可以看出，初期参数是包含基准边缘的区间，其是以基准边缘为基础确定的区间，故根据边缘提取参数提取的测长边缘同样是以基准边缘为基础得到的边缘，因此公开了生成一个扫描图像轮廓图，所述扫描图像轮廓图是所述基准图像轮廓图和所述集成电路的扫描图像的函数，包括：使用所述基准图像轮廓图来指引检查算法，所述检查算法将对所述扫描图像的特征检测功能限制在仅针对所述基准图像轮廓图存在的区域）。仅仅检查可以包含在检查范围内的基准边缘（相当于针对所述基准图像轮廓图存在的区域）。
权利要求1与对比文件1的区别为：权利要求1中的扫描图像为从存储器中取出的，而对比文件1中的检查图像为检测器测量的。
然而，通过将待处理数据存储在存储器中从而可以后续非实时的处理，此为本领域的常规技术手段。因此，在对比文件1的基础上结合本领域的常规技术手段得到权利要求1请求保护的技术方案是显而易见的，权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.2、权利要求2、3：在对比文件1公开了利用光刻模拟的情况下，权利要求2、3的附加技术特征为光刻模拟采用的常规技术手段。因此，在引用的权利要求不具备创造性时，权利要求2和3同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.3、权利要求4：对比文件1公开了（参见说明书第95段）：通过对测长轮廓线与基准轮廓线进行比较来检查图案，将被判断为缺陷区域的区域相关的信息作为检查结果输出。同时，在对图像进行比对时，通过分区或分块，并在各个区或块中进行两个图像对应区或块的比对，此为本领域的常规技术手段。因此，在引用的权利要求不具备创造性时，权利要求4同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.4、权利要求5、6：其分别引用权利要求4，然而，通过扫描图像轮廓与基准图像轮廓的比对结果是否相同判断集成电路是否存在缺陷，此为本领域的常规技术手段；同时，图像比对中，无论是逐行或逐对象比对，均为本领域的常规技术手段。因此，在引用的权利要求不具备创造性时，权利要求5和6同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.5、 权利要求7引用权利要求1或2，然而，通过对扫描图像轮廓图中特征的识别进行对应的测量，此为本领域的常规技术手段。因此，在引用的权利要求不具备创造性时，权利要求7同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.6、权利要求8请求保护一种装置。其包括：存储器；至少一个处理器，其执行储存在所述存储器内的指令以执行权利要求1对应的方法。对比文件1进一步公开了：演算处理装置中的处理可以分配给搭载有cpu的电子计算机来进行处理，演算处理装置中所实行的处理所必要的信息，作为检查用教程而存储在演算处理装置内的存储器中，教程是用于使图案检查装置自动动作的动作程序（公开了存储器和处理器）。因此，参考权利要求1的评述，权利要求8不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2.7、权利要求9和10的附加技术特征与方法权利要求2和4的附加技术特征对应，故权利要求9和10同样不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、关于复审请求人的意见
对此，合议组认为：权利要求1中限定的保护范围，并没有对存储器进行限定，而对比文件1所用的外部存储器显然属于存储器，对比文件1仍然被认为公开了存储器以及将芯片设计数据转化为掩膜图的相关内容。即便随着技术进步，可以做到实时检测，实时将检测数据转化为轮廓图并进行权利要求1的所述步骤，但该实时的检测也未记载于权利要求1中，无法对权利要求1的创造性作出贡献。进一步说，随着技术进步，可以做到实时扫描生成掩膜图的情况下，应用最新的CPU进行实时的检测、生成步骤，对本领域技术人员来说也是对现有的CPU技术的应用，属于本领域技术人员对本领域的设备的应用，设备具有该功能，对其应用也属于本领域的常规技术手段，是设备功能基础上的操作，但操作步骤也是可以由对比文件1和本领域常规技术手段所得到的。
因此，复审请求人的意见不予接受。
基于以上理由，合议组作出如下审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年10月15日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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