一种立式涡流分选装置-复审决定


发明创造名称:一种立式涡流分选装置
外观设计名称:
决定号:183456
决定日:2019-06-05
委内编号:1F270692
优先权日:
申请(专利)号:201710396781.4
申请日:2017-05-31
复审请求人:东北大学
无效请求人:
授权公告日:
审定公告日:
专利权人:
主审员:舒畅
合议组组长:杜鹃
参审员:李涵
国际分类号:B03C1/247
外观设计分类号:
法律依据:专利法第22条第3款
决定要点
:如果作为现有技术的对比文件均未公开权利要求中的某些技术特征,也未给出应用该技术特征的技术启示,且目前没有证据证明该技术特征是本领域的公知常识,则该权利要求相对于对比文件具备创造性。
全文:
本复审请求涉及申请号为201710396781.4,名称为“一种立式涡流分选装置”的发明专利申请(下称本申请)。本申请的申请日为2017年05月31日,公布日为2017年08月22日。申请人为东北大学。
经实质审查,国家知识产权局原审查部门于2018年10月29日发出驳回决定,驳回了本申请,其理由是:本申请权利要求1-10不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。驳回决定所依据的文本为申请日2017年05月31日提交的说明书摘要、摘要附图、说明书第1-2、4-54段、说明书附图1-8;2017年06月28日提交的说明书第3段;2018年08月08日提交的权利要求第1-10项。
驳回决定中引用了如下3篇对比文件:
对比文件1:AU 2013234409 A1,公开日为2014年04月24日;
对比文件2:CN 205815918 U,公告日为2016年12月21日;
对比文件3:CN 204911772 U,公告日为2015年12月30日。
驳回决定所针对的权利要求书共包括10项权利要求,内容如下:
“1. 一种立式涡流分选装置,其特征在于:包括垂直方向设置的转轴,转轴上固定磁辊,转轴的下方设置转轴驱动装置,所述磁辊的外侧设置分离装置,所述分离装置包括垂直方向设置的内分离板、外分离板及分隔板,外分离板上方设置进料口,进料口下方设置弧形板,弧形板的一端设置在进料口下方,另外一端设置在分隔板与内分离板间;物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零,增加物料受涡流力作用时间;内分离板与分隔板的下方设置非金属接料槽;外分离板与分隔板的下方设置金属接料槽。
2. 根据权利要求1所述的立式涡流分选装置,其特征在于:所述内分离板、外分离板、分隔板均为弧形,且与磁辊为同心圆。
3. 根据权利要求2所述的立式涡流分选装置,其特征在于:还包括调整装置可沿垂直方向或圆弧方向对分隔板进行尺寸调整。
4. 根据权利要求1所述的立式涡流分选装置,其特征在于:所述内分离板、外分离板、分隔板均为环状,且与磁辊为同心圆。
5. 根据权利要求1所述的立式涡流分选装置,其特征在于:当物料颗粒直径为0.5-2mm时,内分离板与磁辊外侧的距离为0.9-1mm,分隔板距磁辊外侧的距离为4.9-5mm;外分离板距磁辊外侧的距离为9.9-10mm;内分离板高于磁辊上表面10-20mm;分隔板距磁辊上表面距离110-112mm;磁辊的高度为120-122mm。
6. 根据权利要求3所述的立式涡流分选装置,其特征在于:所述调整装置包括水平调整座,所述水平调整座上设置伺服电机一,所述伺服电机一驱动齿轮一,所述齿轮一与分隔板上水平方向设置的齿条一啮合;还包括基座上设置的伺服电机二,伺服电机二驱动齿轮二, 齿轮二与水平调整座上垂直方向设置的齿条二啮合;所述伺服电机及转轴驱动电机均与控制芯片连接。
7. 根据权利要求3所述的立式涡流分选装置,其特征在于:所述弧形板为两段式结构,前一段设置振动装置,并搭接在后一段上方,前、后两段不直接接触。
8. 根据权利要求4所述的立式涡流分选装置,其特征在于:进料口还可以是环形,并且不设置内分离板,进料口的末端出口为一环状,开口径向距离大于物料颗粒最大直径0.1mm。
9. 根据权利要求4所述的立式涡流分选装置,其特征在于:还包括回收装置,所述回收装置包括设置在壳体外侧的回收电机,回收电机通过皮带驱动转盘旋转,转盘与转轴轴接;转盘上设置环形的金属接料槽和环形的非金属接料槽;金属接料槽和环形的非金属接料槽上方设置刷子,所述刷子随转盘转动,将分离后的金属与非金属扫进接料槽。
10. 根据权利要求1所述的立式涡流分选装置,其特征在于:所述磁辊的磁系结构非均匀交替排布,并且有两种排布方式,第一种排布方式为磁辊包括大磁块、小磁块,大磁块设置在磁辊的一端,小磁块设置在另外一端,且NS极间隔设置;另外一种排布方式为具有多种规格的大中小磁块,且NS极间隔设置。”
驳回决定认为:本申请的权利要求1要求保护的立式涡流分选装置,相对于对比文件1公开的立式涡流分选装置的区别在于:该分选装置包括垂直方向设置的转轴,磁辊固定在转轴上,进料口下方设置弧形板,弧形板的一端设置在进料口下方,另外一端设置在分隔板与内分离板间;物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向上的初速度为零,增加物料受涡流力作用时间。基于上述区别技术特征可以确定该权利要求实际解决的技术问题是:如何提高分选效率。针对上述区别技术特征,对比文件2公开了一种一次完成磁力和电涡流分选的装置,该装置的进料口下方设置有倾斜滑道、曲线转换滑道以及近水平滑道(整体上相当于弧形板),倾斜滑道一端设置在进料口下方,且物料出口处的近水平滑道的切线为水平方向,其能够保证物料在离开瞬间垂直方向上的初速度为零。基于上述公开的技术内容,首先,在对比文件1公开了物料出口处设置与水平面具有一定角度的技术内容的基础上,且当采用对比文件1所公开的立式涡流分选装置时,在物料的下落过程中其在磁场中的运行时间是其必然要考虑的重要因素,且分析对比文件1中分选物料的运行过程,根据运动学原理,其在磁场中的运行时间的长短主要取决于垂直方向上速度的大小;同时对比文件2公开了一种物料出口处的近水平滑道的切线为水平方向设置的送料方式,其能够起到在物料离开瞬间垂直方向上的初速度为零的技术效果;即当垂直方向上的初速度为零时,其垂直方向上的运动为自由落体运动,且运行时间最长;综上,将对比文件1中出料口设置为水平方向对本领域技术人员来说是容易想到的。基于对比文件1以及对比文件2所公开的技术内容,将弧形板的另一端设置在分隔板和内分离板间对本领域技术人员来说是显而易见的;此外,为实现磁辊的正常转动,采用垂直方向设置的转轴,将磁辊固定在转轴上均为本领域的常规驱动方式。因此,在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域的公知常识得到该权利要求1所要求保护的技术方案,对本领域技术人员来说是显而易见的,权利要求1不具备创造性。从属权利要求2-10的附加技术特征或者属于本领域的常规技术手段或者公开在对比文件1、2、或3中,因此也均不具备创造性。
申请人东北大学(下称复审请求人)对上述驳回决定不服,于2019年01月09日向国家知识产权局提出了复审请求,同时修改了权利要求书,将权利要求1与权利要求10合并组成新的权利要求1,同时调整了其他权利要求的序号和引用关系。新修改的权利要求书包括9项权利要求,新修改的权利要求1如下:
“1. 一种立式涡流分选装置,其特征在于:包括垂直方向设置的转轴,转轴上固定磁辊,转轴的下方设置转轴驱动装置,所述磁辊的外侧设置分离装置,所述分离装置包括垂直方向设置的内分离板、外分离板及分隔板,外分离板上方设置进料口,进料口下方设置弧形板,弧形板的一端设置在进料口下方,另外一端设置在分隔板与内分离板间;物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零,增加物料受涡流力作用时间;内分离板与分隔板的下方设置非金属接料槽;外分离板与分隔板的下方设置金属接料槽;
所述磁辊的磁系结构非均匀交替排布,并且有两种排布方式,第一种排布方式为磁辊包括大磁块、小磁块,大磁块设置在磁辊的一端,小磁块设置在另外一端,且NS极间隔设置;另外一种排布方式为具有多种规格的大中小磁块,且NS极间隔设置。”
复审请求人认为:就“物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零,增加物料受涡流力作用时间”这一技术特征的创造性,本发明的磁辊是竖直方向设置的,所以,强调了“垂直方向的初速度为零”,而对比文件的磁辊都是水平设置的,对比文件2的涡流场是一个横向的区间,物料从离开滑道4到滑道6间即是涡轮场,也就是说,是以一定初速度通过涡流场的;本发明的磁辊的轴向是竖直方向,磁场对物料的作用时间是物料以竖直方向的初速度为0的情况下进入磁场的,因此,增加了物料受涡流力作用时间;而对比文件2的磁场显然不是竖直的,仅仅是环绕磁滚筒8的一个区域,物料以较大的初始速度进入,受磁力作用时间更短。对比文件均没有公开技术特征“所述磁辊的磁系结构非均匀交替排布,并且有两种排布方式,第一种排布方式为磁辊包括大磁块、小磁块,大磁块设置在磁辊的一端,小磁块设置在另外一端,且NS极间隔设置;另外一种排布方式为具有多种规格的大中小磁块,且NS极间隔设置。”对比文件1仅仅是公开了NS极间隔设置,却并没有公开多种规格的大中小磁块,本发明的上述特征保证了“一种排布方式场强大小在有效磁场范围(以下简称场域)内迅速衰变问题,能够有效增大场域内各处磁场强度。工艺上进行了对各个部分重量进行了定制,避免了不同磁块大小引起的偏心问题。”而对比文件1-3均没有提到该技术问题,也没有该技术特征。因此,权利要求1具备创造性,其从属权利要求也具备创造性。
经形式审查合格,国家知识产权局于2019年01月25日依法受理了该复审请求,并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为:针对“物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零,增加物料受涡流力作用时间”这一区别技术特征,在对比文件1公开了采用与水平面存在一定角度的倾斜输送板输送物料的技术内容的基础上,对本领域技术人员来说,一方面容易发现在物料进入磁选场域时竖直方向上的初速度越大,经过竖直方向上的磁选场域的时间就越短,导致物料受涡流力分选作用的时间就越短,使得分选效果不够理想这一技术问题;另一方面,在面对这一技术问题时,对比文件2给出了以水平方向切入磁选场域的方式,该物料入射方式同样能够保证在竖直方向上物料的运动初速度为零,进一步增加在分选场域运动的时间,结合运动学原理,物料飞行时间主要取决于竖直方向上的初速度大小,在对比文件1、对比文件2所公开技术内容的基础上,为进一步减小竖直方向上初速度对分选时间过短的影响,将输送板的出料端设置为水平方向对本领域技术人员来说为本领域的常规设置方式。此外,针对“磁辊的磁系结构非均匀交替排布,并且有两种排布方式,第一种排布方式为磁辊包括大磁块、小磁块,大磁块设置在磁辊的一端,小磁块设置在另外一端,且NS极间隔设置;另外一种排布方式为具有多种规格的大中小磁块,且NS极间隔设置”这一区别技术特征,其为并列技术方案,针对并列技术方案一,将磁辊设置为大小磁块的方式在磁选领域已经被广泛的应用,如专利文献JP特开平9-122531A公开了一种磁分选装置,该磁分选装置的磁系包括大磁块和小磁块,大磁块设置在磁辊的一端,小磁块设置在另一端,且NS极间隔设置,其同样能够起到与本申请中采用大小磁块相同的作用,即给出了相应的技术启示;专利文献JP特开平11-197539A公开了一种磁分选装置,该磁分选装置的磁系同样采用大磁块和小磁块,大磁块设置在磁辊的一端,小磁块设置在另一端,且NS极间隔设置,其作用与被申请中的作用相同,即同样给出了相应的技术启示。同时,基于上述公开的技术内容,根据对磁场结构以及磁场强度分布的不同技术需求,将磁辊设置为并列技术方案二所记载的排布方式对本领域技术人员来说为相关部件的常规性调整。因此,修改后的权利要求1相对于对比文件1、对比文件2以及本领域常规技术手段的结合仍然不具备创造性。因此坚持原驳回决定。
随后,专利复审委员会成立合议组对本案进行审理。
本案合议组在仔细审阅了全部案卷后,认为本案事实已经清楚,依法作出本审查决定。

二、决定的理由
审查文本的认定
在复审程序中,复审请求人于2019年01月09日提交了权利要求书的全文修改替换页,经审查,其中所作修改符合专利法第33条和专利法实施细则第61条第1款的规定。因此,本复审决定针对的文本是:申请日2017年05月31日提交的说明书摘要、摘要附图、说明书第1-2、4-54段、说明书附图1-8;2017年06月28日提交的说明书第3段;2019年01月09日提交的权利要求第1-9项。
关于创造性
专利法第22条第3款规定:创造性,是指与现有技术相比,该发明具有突出的实质性特点和显著的进步,该实用新型具有实质性特点和进步。
如果作为现有技术的对比文件均未公开权利要求中的某些技术特征,也未给出应用该技术特征的技术启示,且目前没有证据证明该技术特征是本领域的公知常识,则该权利要求相对于对比文件具备创造性。
具体就本案而言,权利要求1要求保护一种立式涡流分选装置。对比文件1(说明书第9-64段,图7-8)公开了一种用于分离颗粒流内的导电颗粒的分离器,该分离器包括:至少一个用于产生磁场的磁性阵列,该磁性阵列包括:多个串联排列的磁性元件,其中串联的相邻元件具有相反的极性;用于通过所述磁场供给所述颗粒流以改变导电颗粒从颗粒流中的轨迹的材料进料。优选地,分离器包括平行布置的一对磁性阵列。在这种情况下,颗粒流在一对阵列之间通过。适当地,阵列中的磁性元件设置成与分离器的垂直轴成一角度。优选地,条带布置在与分离器的垂直轴线成450°处。该对磁性阵列优选地分开预定距离以形成用于接收颗粒流的通道。适当地,磁性阵列具有预定长度。优选地,阵列的长度范围从1m到5m长。材料进料可以是用于引导颗粒流通过磁场的导管的形式。合适地,材料进料与通道连通以允许颗粒流通过磁场自由落下。在一种形式中,材料进料可以是与分离器连接的漏斗形式。适当地,漏斗具有足够的长度以将颗粒流中的颗粒注入分离器中,使得颗粒在磁场内实现最终速度。分离器可包括由低碳钢或具有相对高的磁饱和点的其他此类材料构成的壳体。在本发明的一种形式中,隔板可以设置有由具有相对高磁导率的材料构成的壳体。适当地,磁性元件是永磁体。在本发明的另一个方面,提供了一种用于分离颗粒流内的导电颗粒的分离器,该分离器包括:鼓,所述鼓具有围绕所述鼓设置的一系列磁性元件,其中所述系列中的相邻元件具有相反的极性;用于将所述颗粒流送入邻近滚筒的区域的材料进料;并且其中滚筒旋转以产生变化的磁场以改变导电颗粒从颗粒流中的轨迹。鼓可以封闭在由低碳钢或具有相对高磁饱和点的其他此类材料构成的护罩中。适当地,材料进料位于鼓附近。优选地,材料进料相对于水平面成一角度设置。
图7描绘了根据本发明的一个实施例的垂直鼓涡流分离器(VDECS)的一种可能配置。如图所示,在这种情况下,分离器400包括半径为Rdisc和高度为kdisc的鼓401。安装鼓以允许绕垂直轴旋转。鼓401包括设置在鼓401的周边上的多个永久NdFeB磁体N 402。同样,每个磁体具有1.3T的磁通密度I,磁体以交替的极性排列,即相邻的磁体具有相反的极性。鼓401覆盖有屏蔽403,屏蔽403在磁场的有效区域中具有最小厚度。待分离的材料通过导管405等从进料点404带出,例如通过导管405等。在该示例中,导管405相对于水平面倾斜角度α。允许材料从收集高度h落到滚筒401上;当材料流进入磁场的活性区时,导电颗粒从非导电颗粒的垂直路径407偏转406。如在垂直柱分离器的情况下,施加在导电颗粒上的偏转受系统的几何形状影响,更具体地,受到鼓401的物理参数及其旋转速度的影响。从图7看出,非导电颗粒的垂直路径407下方设置有非导电颗粒收集槽,偏转路径406下方设置有导电颗粒收集槽。
将权利要求1与对比文件1相比照,其中,对比文件1中图7的安装鼓以允许绕垂直轴旋转,相当于权利要求1中的垂直方向设置的转轴上固定磁辊,鼓401相当于磁辊;垂直轴下部必然会设有驱动装置,因此相当于公开了权利要求1的转轴的下方设置转轴驱动装置;对比文件1中鼓401外侧的屏蔽403,相当于权利要求1中的分离装置的垂直方向的内分离板;对比文件1中的进料点404相当于权利要求1的进料口,非导电颗粒的垂直路径407下方设置的非导电颗粒收集槽相当于权利要求1的非金属接料槽,偏转路径406下方设置的导电颗粒收集槽相当于权利要求1的金属接料槽;磁体以交替的极性排列,即相邻的磁体具有相反的极性,相当于权利要求1的磁辊的磁系结构NS极间隔设置。
权利要求1与对比文件1相比,区别在于:(1)外分离板及分隔板;磁辊的磁系结构非均匀交替排布,并且有两种排布方式,第一种排布方式为磁辊包括大磁块、小磁块,大磁块设置在磁辊的一端,小磁块设置在另外一端;另外一种排布方式为具有多种规格的大中小磁块;(2)进料口下方的弧形板,物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零,增加物料受涡流力作用时间。基于上述区别技术特征,可以确定权利要求1实际解决的技术问题是:如何具体设置磁系结构;如何增加分离力的作用时间以提高分选效率。
对于区别技术特征(1),关于分离板及分隔板,是涡流分选装置中进料、出料段的常规隔板。此外,对比文件1中已经公开了磁辊的磁系结构为NS极间隔排布设置。而对于本领域技术人员来说,磁辊的磁系结构采用非均匀的结构,无论是大磁块设置在磁辊的一端,小磁块设置在另一端,还是具有多种规格的大中小磁块间隔设置,这均是磁辊磁系的常规排布方式。
对于区别技术特征(2),对比文件1中仅公开了倾斜的进料导管405,该倾斜导管并不属于弧形板,因此更没有物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零,增加物料受涡流力作用时间的技术内容。对比文件1的这种倾斜导管,在物料出口处由于是倾斜直线的而不是切线为水平方向的弧形,因此物料在离开的瞬间在垂直方向上是具有一定的初速度的,因而不可能保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零,不能增加物料受涡流力作用时间。而权利要求1在进料口下方设置弧形板,物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零,增加物料受涡流力作用时间。该特征为了解决现有技术的涡流力作用时间短,颗粒入料时具有一定的初始速度,因此金属在其中所受到的涡流力作用时间较短的问题。因此,对比文件1的进料导管405与权利要求1的弧形板完全不同,对比文件1也没有给出设置弧形板以及设置物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零的相关技术启示。
对于上述区别技术特征(2),对比文件2(说明书第27-44段,图1-5)公开了一种一次完成磁力和电涡流分选的装置,进料滑道从上到下分为倾斜滑道2、曲线转换滑道3和近水平滑道4,本例中的近水平滑道4,是指接近水平的滑道,与水平面的夹角范围为-30°~ 30°,可以根据混合物料1的工况进行选择。虽然对比文件2中的进料滑道的下部的曲线转换滑道3是弯曲的,近水平滑道4在物料出口处的切线为水平方向因此物料在离开的瞬间垂直方向的初速度为零;但是,对比文件2中的电涡流分选装置是卧式的而不是本发明的这种立式的,因此在物料分选轨迹以及涡流受力原理上二者是截然不同的。对比文件2中的磁辊是水平方向设置,说明书第44段明确公开:使用时,混合物料1从料斗排出。沿着进料滑道下滑,在倾斜滑道2得到较高的滑落速度,经过曲线转换滑道3换向,沿着近水平滑道4进入到迁跃间隙5的位置,混合物料1中的磁性物料12在磁滚筒8的磁力的作用下,随着外围滚筒9的外壁旋转,直至转动至远离磁滚筒8的位置,磁性物料12在重力作用下与外围滚筒9的外壁分离,落到磁性物料滑道上,根据磁性物料吸力的不同,根据优选的方案,还可以设置铁磁性物料滑道11和弱磁性物料滑道15,将铁磁性物料121和弱磁性物料122进一步分离。也就是说,对比文件2的物料滑道的设计准则是需要物料得到较高的滑落速度,然后经过曲线转换滑道3换向,沿着近水平滑道4还是保持一定的较高速度通过涡流场,其中的金属颗粒以该较高速度通过涡流场时,由于受到斥力,加上本身的较高速度,会跳过一段距离,即跳过迁跃间隙5,最后沿远离磁辊的轨迹落下。而本发明的磁辊是竖直方向的,磁场对于物料的作用轨迹基本上竖直方向的,即物料从出料口处是沿着竖直方向来受作用力的。因此,进料口下方设置弧形板,物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零,增加物料受涡流力作用时间,这样设置即使得涡流力对于即将垂直落下的物料的作用时间延长,使得金属颗粒在磁场区域内停留时间延长,提高了分选效果。总之,对比文件2的进料滑道的设计意图是希望物料迅速滑落而以一定的初速度通过涡流场,并且希望金属颗粒快速跃迁到滑落轨迹上;而本发明的弧形板进料滑道的设计意图是希望物料进入涡流场时的初速度尽量小,以便于使颗粒受涡流力作用时间尽量长;二者虽然都具有切线为水平方向的物料出口处,但是其作用和设计初衷是完全不同的。因此,对比文件2并没有公开上述区别技术特征(2),也没有给出相关启示。
而且,目前也没有证据表明在立式涡流分选装置的进料口下方设置弧形板,物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零,增加物料受涡流力作用时间,属于本领域的公知常识。
对于驳回决定以及前置审查意见,合议组认为:针对“进料口下方的弧形板,物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零,增加物料受涡流力作用时间”的技术特征,对比文件1中仅公开了采用与水平面存在一定角度的倾斜输送导管来输送物料的技术内容。一般来说,为了进料的顺畅,是需要物料从高处的进料口滑落下来进入到磁选场域内的,即物料进入磁场时必然具有一定的初速度,否则会造成进料效率低下甚至会造成堵塞。对比文件1即是现有技术的常规进料方式,其并未对物料在出口处具有初速度的相关技术问题进行考虑,也没有采用相关的技术措施。而且,现有技术中也没有证据表明本领域技术人员容易发现在物料进入磁选场域时竖直方向上的初速度越大,经过竖直方向上的磁选场域的时间就越短,导致物料受涡流力分选作用的时间就越短,使得分选效果不够理想这一技术问题。而对比文件2中的进料滑道虽然在末端具有一个曲线转换滑道和近水平滑道,但是首先,对比文件2公开的是卧式涡流分选装置而不是立式的,因此对比文件2的涡流场是一个横向的区间,物料从离开近水平滑道然后飞跃过迁跃间隙再滑落出去这一端属于涡流场,即对比文件2由于其不是立式机因此其并不考虑物料在竖直方向上的初速度如何,其进料滑道的末端之所以为一个近水平滑道,并不是为了使物料离开瞬间垂直方向的初速度为零而仅仅是为了使物料改变方向进入横向涡流场。再者,对比文件2中的进料滑道整体与水平面之间的角度较大,即进料滑道整体偏陡,因此其需要物料在末端的近水平滑道滑出的瞬间具有较大的初速度,而不是相反。也就是说,对比文件2中虽然有个近水平滑道,但是其作用与本发明截然不同,与本发明的需要使物料在经过竖直方向的磁选场域的时间尽可能延长的发明构思完全不同。对比文件2中并没有考虑如何解决物料进入磁场时在竖直方向上初速度越大物料受涡流力作用时间越短因而影响分选效果的技术问题,即没有给出相关的技术启示。本领域技术人员在面对对比文件1和2时,并不能想到如何来结合对比文件1和2以实现能够解决上述技术问题的本发明的这种技术方案。而且关于“进料口下方的弧形板,物料出口处的弧形板的切线为水平方向以保证物料离开瞬间垂直方向的初速度为零,增加物料受涡流力作用时间”的特征也并不是本领域的常规设置方式,对于本领域技术人员来说也并不能够容易想到。并且,通过这样的弧形板的设计增加了涡流力的作用时间,使得本发明改善了传统分选机的“涡流力作用时间短”的问题,使本发明具有在保证进料顺畅的同时,增加了物料受涡流力的作用时间,提高分选效率的有益效果。
因此,权利要求1相对于对比文件1、2的结合具有突出的实质性特点和显著的进步,具备专利法第22条第3款规定的创造性。基于此,权利要求1的从属权利要求2-9同样也具备专利法第22条第3款规定的创造性。

根据上述事实和理由,本案合议组依法做出以下审查决定。

三、决定
撤销国家知识产权局于2018年10月29日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局原专利实质审查部门在本复审请求审查决定所依据文本的基础上对本发明专利申请继续进行审查。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。


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